[發(fā)明專利]多反應(yīng)管等離子體設(shè)備和分解硫化氫的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811642922.7
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN111377400A
• 公開（公告）日: 2020-07-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張婧;張樹才;張鐵;徐偉;任君朋;李亞輝;周明川;石寧
• 申請（專利權(quán)）人: 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司青島安全工程研究院
• 主分類號: C01B3/04
• 分類號: C01B3/04;C01B17/04
• 代理公司: 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11283
• 代理人: 陳靜;喬雪微

1.一種多反應(yīng)管等離子體設(shè)備，該設(shè)備包括：

第一空腔(1)，由至少兩個平行設(shè)置且頂部和底部分別對應(yīng)相通的反應(yīng)管構(gòu)成，且各個所述反應(yīng)管中分別設(shè)置有內(nèi)電極(3)、外電極(4)和阻擋介質(zhì)(6)，以及所述第一空腔(1)上分別設(shè)置有第一入口(11)和第一出口；

第二空腔(2)，所述第二空腔(2)嵌套在所述第一空腔(1)的內(nèi)部，且所述第二空腔(2)上分別設(shè)置有第二入口(21)和第二出口(22)；

其中，在各個所述反應(yīng)管中，

至少部分所述內(nèi)電極(3)伸入所述反應(yīng)管中；

所述外電極(4)形成所述反應(yīng)管的至少部分側(cè)壁或者環(huán)繞設(shè)置在所述反應(yīng)管的側(cè)壁上；以及

所述阻擋介質(zhì)(6)設(shè)置在所述內(nèi)電極(3)和所述外電極(4)之間，使得所述內(nèi)電極(3)和所述外電極(4)之間的放電區(qū)域由所述阻擋介質(zhì)(6)間隔；

所述內(nèi)電極(3)和所述外電極(4)均為固體電極，且兩者的形狀相互配合以形成等徑結(jié)構(gòu)；

所述內(nèi)電極(3)的外側(cè)壁和所述外電極(4)的內(nèi)側(cè)壁之間的距離為L₁，所述阻擋介質(zhì)(6)的厚度為D₁，L₂＝L₁-D₁，且L₂與D₁之間的比例關(guān)系為(0.1～100)：1，優(yōu)選L₂與D₁之間的比例關(guān)系為(0.1～30)：1；更優(yōu)選為(0.2～15):1。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，各個所述反應(yīng)管中的內(nèi)電極(3)彼此并聯(lián)連接；

優(yōu)選地，各個所述反應(yīng)管中的外電極(4)彼此并聯(lián)連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其中，在各個所述反應(yīng)管中，所述內(nèi)電極(3)形成所述第二空腔(2)的至少部分側(cè)壁。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其中，在各個所述反應(yīng)管中，所述內(nèi)電極(3)環(huán)繞設(shè)置在所述第二空腔(2)的側(cè)壁上；

優(yōu)選地，在各個所述反應(yīng)管中，所述內(nèi)電極(3)環(huán)繞設(shè)置在所述第二空腔(2)的外側(cè)壁上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項所述的設(shè)備，其中，在各個所述反應(yīng)管中，所述阻擋介質(zhì)(6)形成所述反應(yīng)管的至少部分側(cè)壁或者環(huán)繞設(shè)置在所述反應(yīng)管的內(nèi)側(cè)壁上；

優(yōu)選地，所述反應(yīng)管由阻擋介質(zhì)(6)形成。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項所述的設(shè)備，其中，在各個所述反應(yīng)管中，所述外電極(4)環(huán)繞設(shè)置在所述反應(yīng)管的外側(cè)壁上，且所述阻擋介質(zhì)形成所述反應(yīng)管的至少部分側(cè)壁。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項所述的設(shè)備，其中，在各個所述反應(yīng)管中，所述阻擋介質(zhì)(6)設(shè)置在所述內(nèi)電極(3)的至少部分外表面上，使得所述內(nèi)電極(3)的至少部分外表面上包裹有所述阻擋介質(zhì)(6)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項所述的設(shè)備，其中，在各個所述反應(yīng)管中，所述阻擋介質(zhì)(6)環(huán)繞設(shè)置在所述內(nèi)電極(3)和所述外電極(4)之間，且分別與所述內(nèi)電極(3)和所述外電極(4)之間的距離均大于0。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任意一項所述的設(shè)備，其中，所述第一空腔(1)的個數(shù)為1個。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任意一項所述的設(shè)備，其中，所述第一空腔(1)的個數(shù)為2個以上，且各個所述第一空腔(1)均分別由至少兩個平行設(shè)置且頂部和底部分別對應(yīng)相通的反應(yīng)管構(gòu)成。

11.根據(jù)權(quán)利要求1-10中任意一項所述的設(shè)備，其中，所述阻擋介質(zhì)的材質(zhì)為電絕緣材料；優(yōu)選選自玻璃、石英、陶瓷、搪瓷、聚四氟乙烯和云母中的至少一種；

所述外電極(4)和所述內(nèi)電極(3)各自獨立地選自導(dǎo)電材料：優(yōu)選各自獨立地選自石墨管、石墨粉、金屬棒、金屬箔、金屬網(wǎng)、金屬管、金屬粉和石墨棒中的至少一種。