[發明專利]一種二維光纖陣列的測試方法在審
| 申請號: | 201811638679.1 | 申請日: | 2018-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN109580186A | 公開(公告)日: | 2019-04-05 |
| 發明(設計)人: | 謝燕;萬祥;童嚴;時堯成;戴道鋅 | 申請(專利權)人: | 蘇州天步光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02 |
| 代理公司: | 蘇州誠逸知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32313 | 代理人: | 周亞婷 |
| 地址: | 215500 江蘇省蘇州市常*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 二維光纖陣列 測試 光學損耗 輔助測試 高精度調節 對準測試 光纖陣列 匹配誤差 性能判別 應用過程 有效檢測 組合光學 耦合效率 測試儀 耦合 減去 六維 篩選 應用 | ||
本發明公開了一種二維光纖陣列的測試方法,具體步驟包括:A、測試出非二維光纖陣列輔助測試結構的光學損耗M1;B、使用六維高精度調節架與插回損測試儀將非二維光纖陣列輔助測試結構與二維光纖陣列進行對準測試,得出光纖陣列的組合光學損耗M2;C、將上述步驟得出的光學損耗M2減去M1可計算出其中的二維光纖陣列的損耗M3,根據M3值的大小范圍來判斷二維光纖陣列是否滿足使用要求,達到二維光纖陣列在應用前的性能判別要求。通過上述方式,本發明二維光纖陣列的測試方法可適用于各種型號規格的二維光纖陣列測試,能夠有效檢測二維光纖陣列光學損耗,提前篩選二維光纖陣列的數據范圍,減少應用過程中的耦合時間及匹配誤差,提高耦合效率。
技術領域
本發明涉及光纖領域,特別是涉及一種二維光纖陣列的測試方法。
背景技術
隨著對帶寬需求的增大,電互連已經成為高速處理器與高速網絡之間的一個瓶頸。因此,用光互連取代電互連已經成為必然的發展趨勢。同時,隨著并行多處理器等并行技術的發展,并行光互連已經得到了廣泛的重視。光纖陣列并行光互連是一種帶寬高、成本低、可靠性高、發展前景好的并行光互連方法,能夠廣泛的用于芯片間、電路板間和系統間的光互連。一維光收發模塊的研制主要是由美國的一些聯合研究項目進行,傳輸媒質經常用一維光纖陣列。由于其每個互連通道不能傳送超過200Gbit/s的數據,為了滿足帶寬的需要,只有提高互連通道密度。因此人們開始重視二維光纖陣列。
在此之前一直沒有測試二維光纖陣列光學性能的方法,只有測試其纖芯距的方法,對二維光纖陣列的損耗測試沒有涉及。
發明內容
本發明主要解決的技術問題是提供一種二維光纖陣列的測試方法,可適用于各種型號規格的二維光纖陣列測試,能夠有效檢測二維光纖陣列光學損耗,提前篩選二維光纖陣列的數據范圍,減少應用過程中的耦合時間及匹配誤差,提高耦合效率。
為解決上述技術問題,本發明采用的一個技術方案是:提供一種二維光纖陣列的測試方法,具體步驟包括:
A、使用六維高精度調節架與插回損測試儀將非二維光纖陣列輔助測試結構進行對準測試,得出非二維光纖陣列輔助測試結構的光學損耗M1;
B、使用六維高精度調節架與插回損測試儀將非二維光纖陣列輔助測試結構與二維光纖陣列進行對準測試,得出光纖陣列的組合光學損耗M2;
C、將上述步驟得出的光學損耗M2減去M1可計算出其中的二維光纖陣列的損耗M3,根據M3值的大小范圍來判斷二維光纖陣列是否滿足使用要求,達到二維光纖陣列在應用前的性能判別要求。
在本發明一個較佳實施例中,所述非二維光纖陣列輔助測試結構為一維光纖陣列。
在本發明一個較佳實施例中, 所述一維光纖陣列與所述的二維光纖陣列的光纖纖芯距必須相同。
在本發明一個較佳實施例中,所述非二維光纖陣列輔助測試結構由單通道光纖陣列和對應纖芯距的PLC芯片組成。
本發明的有益效果是:本發明二維光纖陣列的測試方法,可適用于各種型號規格的二維光纖陣列測試,能夠有效檢測二維光纖陣列光學損耗,提前篩選二維光纖陣列的數據范圍,減少應用過程中的耦合時間及匹配誤差,提高耦合效率。
附圖說明
圖1是本發明二維光纖陣列的測試方法一較佳實施例的結構示意圖;
圖2是圖1中一維光纖陣列端面示意圖;
圖3為圖1二維光纖陣列端面示意圖;
圖4是本發明二維光纖陣列的測試方法了另一較佳實施例的結構示意圖;附圖中各部件的標記如下:一維光纖陣列11、二維光纖陣列12、單通道光纖陣列21、對應纖芯距的PLC芯片22和二維光纖陣列23。
具體實施方式
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