[發明專利]光學掃描設備和電子成像裝置

有效

• 申請號: 201811633897.6
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN109491077B
• 公開（公告）日: 2020-11-17
• 發明（設計）人: 聶勇超;王超
• 申請（專利權）人: 珠海奔圖電子有限公司
• 主分類號: G02B26/10
• 分類號: G02B26/10;G02B26/12;G02B26/08
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 胡艾青;劉芳

本發明提供一種光學掃描設備和電子成像裝置，包括：光源；光學偏轉器；成像光學系統，用于將光學偏轉器偏轉的光束引導至被掃描面上成像；成像光學系統包括，滿足：fc/fs≤0.6，X1?X1c＞0，X2?X2c＞0的F?θ透鏡其中，fc為F?θ透鏡的fθ系數；fs為F?θ透鏡的焦點距離；X1為任一入射點在主光軸上投影與掃描原點之間的距離；X2為任一出射點在主光軸上投影與掃描原點之間的距離；X1c為中心入射點與掃描原點之間的距離；X2c為中心出射點與掃描原點之間的距離，從而降低了圖像畸變和線性掃描性能惡化的可能性，在實現體積小型化的同時提高了掃描成像的準確性，提高了畫像質量。

技術領域

本發明涉及光學掃描技術，尤其涉及一種光學掃描設備和電子成像裝置。

背景技術

光學掃描設備廣泛應用于打印成像、圖文復印、激光打碼及醫學影像等圖像形成領域中。例如在記錄介質上形成圖像的打印機或復印機產品中，使用光學掃描設備在感光鼓的被掃描面上掃描形成靜電潛像，在進行顯像處理后轉印至紙面實現打印或復印。而光學掃描設備對整體產品的體積影響較大，因此需要減短光路以減小光學掃描設備的體積，從而減小整體產品的體積。

現有的光學掃描設備，通常用F-θ透鏡作為成像光學系統，并通過縮短光學偏轉器與成像光學系統之間的距離，改變透鏡系統的折射率和表面曲率等方式來縮短光路。

但是。現有的光學掃描設備小型化方式容易導致圖像畸變、線性掃描性能惡化等問題。因此現有的光學掃描設備在小型化后的畫像質量不高。

發明內容

本發明提供一種光學掃描設備和電子成像裝置，降低了圖像畸變和線性掃描性能惡化的可能性，在實現體積小型化的同時提高了掃描成像的準確性，提高了成像質量。

根據本發明的第一方面，提供一種光學掃描設備，包括：

光源，用于發射光束；

第一光學單元，用于使所述光源發出的光束在主掃描方向上準直和在副掃描方向上聚焦；

光學偏轉器，用于偏轉所述第一光學單元出射的光束；

成像光學系統，用于將所述光學偏轉器偏轉的光束引導至被掃描面上成像；

所述成像光學系統是F-θ透鏡，所述F-θ透鏡接受從所述光學偏轉器出射的偏轉光的表面有效區域為入射表面，所述F-θ透鏡的出射形成掃描光的表面有效區域為出射表面；入射到所述光學偏轉器的所述光束所在的直線與所述F-θ透鏡的主光軸的交點為掃描原點；所述光束與F-θ透鏡的入射表面上的交點為入射點，所述F-θ透鏡的入射表面與所述主光軸相交的點為中心入射點；所述光束與F-θ透鏡的出射表面上的交點為出射點，所述F-θ透鏡的出射表面與主光軸相交的點為中心出射點，所述F-θ透鏡滿足如下公式一、公式二和公式三：

fc/fs≤0.6 公式一，

X1-X1c＞0 公式二，

X2-X2c＞0 公式三；

其中，fc為所述F-θ透鏡的fθ系數；

fs為所述F-θ透鏡的焦點距離；

X1為任一所述入射點在所述主光軸上投影與所述掃描原點之間的距離；

X2為任一所述出射點在所述主光軸上投影與所述掃描原點之間的距離；

X1c為所述中心入射點與所述掃描原點之間的距離；

X2c為所述中心出射點與所述掃描原點之間的距離。