[發明專利]光學掃描設備和電子成像裝置

有效

• 申請號: 201811633897.6
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN109491077B
• 公開（公告）日: 2020-11-17
• 發明（設計）人: 聶勇超;王超
• 申請（專利權）人: 珠海奔圖電子有限公司
• 主分類號: G02B26/10
• 分類號: G02B26/10;G02B26/12;G02B26/08
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 胡艾青;劉芳

1.一種光學掃描設備，包括：

光源，用于發射光束；

第一光學單元，用于使所述光源發出的光束在主掃描方向上準直和在副掃描方向上聚焦；

光學偏轉器，用于偏轉所述第一光學單元出射的光束；

成像光學系統，用于將所述光學偏轉器偏轉的光束引導至被掃描面上成像；

其特征在于，所述成像光學系統包括F-θ透鏡，所述F-θ透鏡接受從所述光學偏轉器出射的偏轉光的表面有效區域為入射表面，所述F-θ透鏡的出射形成掃描光的表面有效區域為出射表面；入射到所述光學偏轉器的所述光束所在的直線與所述F-θ透鏡的主光軸的交點為掃描原點；所述光束與F-θ透鏡的入射表面上的交點為入射點，所述F-θ透鏡的入射表面與所述主光軸相交的點為中心入射點；所述光束與F-θ透鏡的出射表面上的交點為出射點，所述F-θ透鏡的出射表面與主光軸相交的點為中心出射點，所述F-θ透鏡滿足如下公式一、公式二和公式三：

fc/fs≤0.6 公式一，

X1-X1c＞0 公式二，

X2-X2c＞0 公式三；

其中，fc為所述F-θ透鏡的fθ系數；

fs為所述F-θ透鏡的焦點距離；

X1為任一所述入射點在所述主光軸上投影與所述掃描原點之間的距離；

X2為任一所述出射點在所述主光軸上投影與所述掃描原點之間的距離；

X1c為所述中心入射點與所述掃描原點之間的距離；

X2c為所述中心出射點與所述掃描原點之間的距離；

所述入射表面上與所述主光軸距離最遠的入射點為邊緣入射點；所述F-θ透鏡還滿足如下公式四：

0.5≤(X1_max-X1c)/(X2c-X1c)≤0.6 公式四，

其中，X1_max為所述邊緣入射點在所述主光軸上投影與所述掃描原點之間的距離；

所述出射表面上與所述主光軸距離最遠的出射點為邊緣出射點；所述F-θ透鏡還滿足如下公式五：

0≤(X2_max-X2c)/(X2c-X1c)≤0.1 公式五，

其中，X2_max為所述邊緣出射點在所述主光軸上投影與所述掃描原點之間的距離。

2.根據權利要求1所述的光學掃描設備，其特征在于，所述F-θ透鏡還滿足：

所述中心出射點與邊緣出射點之間的其他出射點包含有最遠出射點，其中，所述最遠出射點為與所述X2的最大值相對應的出射點。

3.根據權利要求1所述的光學掃描設備，其特征在于，

X1c＝21.90mm，X2c＝30.90mm，

21.90mm＜X1＜27.29mm，30.9mm＜X2＜33.24。

4.根據權利要求1所述的光學掃描設備，其特征在于，X1_max＝27.12mm，X2_max＝31.7mm。

5.根據權利要求1所述的光學掃描設備，其特征在于，還包括：設置在所述光源和所述第一光學單元之間的光闌單元；

所述光闌單元用于使所述光源發射的光束成形。

6.根據權利要求1所述的光學掃描設備，其特征在于，所述第一光學單元包括變形透鏡，

或者包括獨立的準直透鏡和圓柱透鏡。

7.根據權利要求1所述的光學掃描設備，其特征在于，所述光學偏轉器包括多面體主體，所述多面體主體的表面形成多個反射鏡面；

所述多面體主體沿旋轉軸旋轉，所述旋轉軸的中軸線與所述副掃描方向平行。

8.一種電子成像裝置，其特征在于，包括：

權利要求1-7任一項所述的光學掃描設備，

和感光鼓；

其中，所述光學掃描設備和所述感光鼓配合設置，所述光學掃描設備出射的光束在所述感光鼓的光感受面上形成靜電潛像；

顯影裝置，用于將所述靜電潛像顯影形成碳粉圖像；

轉印裝置，用來將所述碳粉圖像轉印到轉印介質上；

定影裝置，用來對轉印介質上的被轉印的碳粉圖像定影。