[發明專利]一種實時監測顯影過程的方法

在審

• 申請號: 201811632684.1
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN109655953A
• 公開（公告）日: 2019-04-19
• 發明（設計）人: 姜巖秀;李文昊;吳娜;鄭鐘銘;楊碩
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;G02B5/32;G03F7/30
• 代理公司: 深圳市科進知識產權代理事務所(普通合伙) 44316
• 代理人: 吳乃壯

本發明提供了一種實時監測顯影過程的方法，該方法包括：確定光電接收器的位置；當潛像光柵開始顯影時，用激光照射潛像光柵，用光電接收器接收潛像光柵的衍射光信號；根據該衍射光信號獲取衍射光的強弱變化曲線；最后根據所述曲線確定顯影截止點。該方法通過觀察顯示器上衍射光的強弱變化曲線就能夠直觀地了解顯影的進度，當曲線中的衍射光強度下降至剛趨于平緩時，即為顯影截止點，此時停止顯影，將有利于得到高質量的全息光柵掩模。該方法簡單、可操作性強、重復性高，將其應用于研制高質量的全息光柵掩模時，能夠提高研究效率，并得到較好的全息光柵掩模。

技術領域

本發明涉及光譜技術領域，更具體而言，涉及一種在全息光柵制作過程中實時監測顯影過程的方法。

背景技術

在全息光柵制作工藝中，把經過曝光的潛像光柵放入堿性溶液中進行蝕刻，是光刻膠中的潛像轉化成為具有浮雕圖案，這個過程就是顯影。顯影是全息光柵刻槽形成的最后一道工藝步驟，是需要控制的重要工藝參數之一，顯影時間不足或顯影時間多長都不能得到理想的光柵刻槽。傳統方法是采用固定的曝光量，通過大量實驗反復修正，最后獲得最佳工藝條件。由于影響全息光柵質量的工藝條件很多，其中許多條件在實驗過程中還會波動，導致實驗結果難以判斷和控制，所以采用這種傳統的方法需要的實驗工作量大，研究周期長，最終往往還得不到質量良好的全息光柵。因此，為了研制高質量的全息光柵掩模、提高研究效率、最佳工藝條件的可操作性和重復性，需要對對全息光柵掩模制作的主要工藝步驟之一的顯影技術進行實時監測，優化顯影終止時間。

發明內容

為了克服上述已有技術存在的缺陷，本發明提出了一種在全息光柵制作過程中能夠簡便可行地實時監測顯影過程的技術方案。

本發明的目的可通過以下技術措施來實現：

本發明提供了一種實時監測顯影過程的方法，所述方法包括：

確定光電接收器的位置；

當潛像光柵開始顯影時，用激光照射所述潛像光柵，用所述光電接收器接收所述潛像光柵的衍射光信號；

根據所述衍射光信號獲取衍射光的強弱變化曲線；

根據所述曲線確定顯影截止點。

優選地，實施所述方法的實時監測裝置包括：顯影模塊、衍射光接收模塊和監測模塊，所述顯影模塊包括顯影罐、以及設于所述顯影罐上的光柵定位組件，所述光柵定位組件用于將光柵固定在顯影罐中進行顯影；

所述衍射光接收模塊包括激光器和光電接收器，所述激光器用于發出激光照射所述光柵，所述光電接收器用于接收激光照射所述光柵后從所述光柵衍射出的光信號；所述監測模塊包括與所述光電接收器連接的數據處理器、和與所述數據處理器連接的顯示器，所述光電接收器接收到的光信號經過所述數據處理器處理后在所述顯示器上顯示為衍射光的強弱變化曲線。

優選地，所述確定光電接收器的位置包括：

將標準光柵置于所述光柵定位組件上；

用激光照射所述標準光柵，在所述標準光柵的衍射光信號方向放置所述光電接收器。

優選地，所述光柵定位組件包括滑軌單元、用于將所述滑軌單元固定在所述顯影罐內的第一固定機構、以及滑塊單元；

所述滑軌單元包括：兩條平行間隔設置的滑軌、以及用于支撐所述兩條滑軌的支撐機構；所述滑塊單元包括：與所述兩條滑軌滑動配合的滑塊、以及用于將光柵固定在所述滑塊上的第二固定機構，所述第二固定機構設于所述滑塊上。

優選地，所述將標準光柵置于所述光柵定位組件上包括：通過所述第二固定機構將所述標準光柵固定于所述滑塊上，然后將所述滑塊置于所述滑軌中；以及