[發(fā)明專利]一種實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)顯影過程的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811632684.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109655953A | 公開(公告)日: | 2019-04-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姜巖秀;李文昊;吳娜;鄭鐘銘;楊碩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 |
| 主分類號(hào): | G02B5/18 | 分類號(hào): | G02B5/18;G02B5/32;G03F7/30 |
| 代理公司: | 深圳市科進(jìn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44316 | 代理人: | 吳乃壯 |
| 地址: | 130033 吉林省長(zhǎng)春*** | 國(guó)省代碼: | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯影 光柵 全息光柵 衍射光 潛像 掩模 光電接收器 衍射光信號(hào) 強(qiáng)弱變化 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè) 顯影過程 截止點(diǎn) 觀察顯示器 激光照射 曲線確定 直觀 進(jìn)度 應(yīng)用 研究 | ||
1.一種實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)顯影過程的方法,其特征在于,所述方法包括:
確定光電接收器的位置;
當(dāng)潛像光柵開始顯影時(shí),用激光照射所述潛像光柵,用所述光電接收器接收所述潛像光柵的衍射光信號(hào);
根據(jù)所述衍射光信號(hào)獲取衍射光的強(qiáng)弱變化曲線;
根據(jù)所述曲線確定顯影截止點(diǎn)。
2.如權(quán)利要求1所述的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)顯影過程的方法,其特征在于,實(shí)施所述方法的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)裝置包括:顯影模塊、衍射光接收模塊和監(jiān)測(cè)模塊,所述顯影模塊包括顯影罐、以及設(shè)于所述顯影罐上的光柵定位組件,所述光柵定位組件用于將光柵固定在顯影罐中進(jìn)行顯影;
所述衍射光接收模塊包括激光器和光電接收器,所述激光器用于發(fā)出激光照射所述光柵,所述光電接收器用于接收激光照射所述光柵后從所述光柵衍射出的光信號(hào);所述監(jiān)測(cè)模塊包括與所述光電接收器連接的數(shù)據(jù)處理器、和與所述數(shù)據(jù)處理器連接的顯示器,所述光電接收器接收到的光信號(hào)經(jīng)過所述數(shù)據(jù)處理器處理后在所述顯示器上顯示為衍射光的強(qiáng)弱變化曲線。
3.如權(quán)利要求2所述的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)顯影過程的方法,其特征在于,所述確定光電接收器的位置包括:
將標(biāo)準(zhǔn)光柵置于所述光柵定位組件上;
用激光照射所述標(biāo)準(zhǔn)光柵,在所述標(biāo)準(zhǔn)光柵的衍射光信號(hào)方向放置所述光電接收器。
4.如權(quán)利要求2或3所述的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)顯影過程的方法,其特征在于,所述光柵定位組件包括滑軌單元、用于將所述滑軌單元固定在所述顯影罐內(nèi)的第一固定機(jī)構(gòu)、以及滑塊單元;
所述滑軌單元包括:兩條平行間隔設(shè)置的滑軌、以及用于支撐所述兩條滑軌的支撐機(jī)構(gòu);所述滑塊單元包括:與所述兩條滑軌滑動(dòng)配合的滑塊、以及用于將光柵固定在所述滑塊上的第二固定機(jī)構(gòu),所述第二固定機(jī)構(gòu)設(shè)于所述滑塊上。
5.如權(quán)利要求4所述的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)顯影過程的方法,其特征在于,所述將標(biāo)準(zhǔn)光柵置于所述光柵定位組件上包括:通過所述第二固定機(jī)構(gòu)將所述標(biāo)準(zhǔn)光柵固定于所述滑塊上,然后將所述滑塊置于所述滑軌中;以及
所述當(dāng)潛像光柵開始顯影時(shí)包括:將所述滑塊從所述滑軌中取出;解開所述第二固定機(jī)構(gòu)將所述標(biāo)準(zhǔn)光柵取下,繼續(xù)通過所述第二固定機(jī)構(gòu)將所述潛像光柵固定于所述滑塊上,然后將所述滑塊置于所述滑軌中。
6.如權(quán)利要求5所述的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)顯影過程的方法,其特征在于,所述標(biāo)準(zhǔn)光柵的刻槽密度與所述潛像光柵的刻槽密度相同。
7.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)顯影過程的方法,其特征在于,所述激光的波長(zhǎng)為632.8nm。
8.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)顯影過程的方法,其特征在于,所述光電接收器接收的衍射光信號(hào)為-1級(jí)衍射光信號(hào)。
9.如權(quán)利要求8所述的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)顯影過程的方法,其特征在于,所述根據(jù)所述衍射光信號(hào)獲取衍射光的強(qiáng)弱變化曲線包括:
所述光電接收器將所述衍射光信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào)后傳輸給所述數(shù)據(jù)處理器,所述數(shù)據(jù)處理器將所述電信號(hào)處理后在所述顯示器上顯示為-1級(jí)衍射光能量與顯影時(shí)間的關(guān)系曲線。
10.如權(quán)利要求9所述的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)顯影過程的方法,其特征在于,所述根據(jù)所述曲線確定顯影截止點(diǎn)包括:
當(dāng)所述-1級(jí)衍射光能量下降至剛趨于平緩時(shí),停止顯影。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811632684.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)開關(guān)觸頭運(yùn)動(dòng)速度的系統(tǒng)
- 透光遮蔽組合金屬光柵裝置及其制備和使用方法
- 一種游標(biāo)式光柵尺
- 一種基于亮度調(diào)制的正弦光柵感知能力的檢測(cè)方法
- 一種基于光柵方位辨別的空間頻率感知能力的檢測(cè)方法
- 一種亮度調(diào)制的運(yùn)動(dòng)正弦光柵感知能力的檢測(cè)方法
- 一種對(duì)比度調(diào)制的運(yùn)動(dòng)正弦光柵感知能力的檢測(cè)方法
- 一種防振動(dòng)光纖光柵
- 多層光柵結(jié)構(gòu)
- 多層光柵結(jié)構(gòu)





