[發明專利]靶材的處理裝置及處理方法在審
| 申請號： | 201811621514.3 | 申請日： | 2018-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN111378941A | 公開（公告）日： | 2020-07-07 |
| 發明（設計）人： | 姚力軍;潘杰;王學澤;壽奉糧 | 申請（專利權）人： | 寧波江豐電子材料股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23G1/14;C23F1/32;C23G3/00;C23F1/08 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 吳敏 |
| 地址： | 315400 浙江省寧波*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 處理 裝置 方法 | ||
1.一種靶材的處理裝置，其特征在于，包括：
清洗架，所述清洗架內部設有通氣管；
所述通氣管側壁上具有通孔。
2.如權利要求1所述的處理裝置，其特征在于，所述通孔直徑為0.5mm-1.5mm。
3.如權利要求1所述的處理裝置，其特征在于，所述通氣管側壁外表面綁有扎帶。
4.如權利要求1所述的處理裝置，其特征在于，還包括：上氣裝置，所述上氣裝置具有上氣管，所述上氣管連接所述通氣管一端。
5.如權利要求1所述的處理裝置，其特征在于，還包括清洗槽，盛放所述清洗架，所述清洗槽底部設置有過濾網。
6.一種靶材的處理方法，其特征在于，包括：
提供靶材；
將所述靶材放置于清洗架內；
所述通氣管內氣體通過所述通孔對所述靶材表面進行處理。
7.如權利要求6所述的處理方法，其特征在于，將所述靶材放置于清洗架內之后，還包括：提供清洗槽，將所述清洗架盛放于所述清洗槽內。
8.如權利要求7所述的處理方法，其特征在于，所述清洗槽內部裝有腐蝕液。
9.如權利要求8所述的處理方法，其特征在于，所述腐蝕液為質量分數為15％-20％的氫氧化鈉溶液。
10.如權利要求7所述的處理方法，其特征在于，所述通氣管內氣體通過所述通孔對所述靶材表面進行處理之后，還包括：對所述清洗槽內的殘留物進行過濾。
11.如權利要求6所述的處理方法，其特征在于，通氣管內氣體通過所述通孔向所述靶材表面進行處理之前，還包括：提供上氣裝置，通過所述上氣裝置向所述通氣管內通入壓縮氣體。
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