[發明專利]一種太陽能電池的制備方法在審
| 申請號: | 201811620935.4 | 申請日: | 2018-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN111384200A | 公開(公告)日: | 2020-07-07 |
| 發明(設計)人: | 蔣濤 | 申請(專利權)人: | 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/0445 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;黃燦 |
| 地址: | 100176 北京市大興區北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 太陽能電池 制備 方法 | ||
1.一種太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述方法包括:
在基板上制備光電轉換層,所述基板上形成未被所述光電轉換層覆蓋的預留區;
將位于所述預留區內的預設位置作為刻劃起始點,對所述光電轉換層進行第一刻劃,形成第一刻劃線。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,在形成第一刻劃線之后,還包括:
對所述光電轉換層進行第二刻劃,形成第二刻劃線,所述第二刻劃線的起始點與所述第一刻劃線的終點重合,且所述第二刻劃線位于所述第一刻劃線的延長線上。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,在形成第二刻劃線之后,還包括:
制備電極層,所述電極層覆蓋在所述預留區和所述光電轉換層上;
將所述電極層上正對所述光電轉換層的區域內的預設位置作為刻劃起始點,對所述電極層進行第三刻劃,形成第三刻劃線。
4.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,在形成第三刻劃線之后,還包括:
對所述電極層進行第四刻劃,形成第四刻劃線,所述第四刻劃線的起始點與所述第三刻劃線的終點重合,且所述第四刻劃線位于所述第三刻劃線的延長線上。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述對所述光電轉換層進行第一刻劃,形成第一刻劃線,包括:
按照第一刻劃參數對所述光電轉換層進行第一刻劃,形成第一刻劃線;
所述第一刻劃參數包括第一刻劃速度和第一刻劃針壓,其中,第一刻劃速度的取值范圍為900mm/s至1100mm/s,第一刻劃針壓的取值范圍為1.5N至1.9N。
6.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述對所述光電轉換層進行第二刻劃,形成第二刻劃線,包括:
按照第二刻劃參數對所述光電轉換層進行第二刻劃,形成第二刻劃線;
所述第二刻劃參數包括第二刻劃速度和第二刻劃針壓,其中,第二刻劃速度的取值范圍為800mm/s至1000mm/s,第二刻劃針壓的取值范圍為0.8N至1.2N。
7.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,所述對所述電極層進行第三刻劃,形成第三刻劃線,包括:
按照第三刻劃參數對所述電極層進行第三刻劃,形成第三刻劃線;
所述第三刻劃參數包括下針速度、第三刻劃速度和第三刻劃針壓,其中,所述下針速度的取值范圍為10mm/s至20mm/s,所述第三刻劃速度的取值范圍為180mm/s至220mm/s,所述第三刻劃針壓的取值范圍為1.5N至1.9N。
8.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,所述對所述電極層進行第四刻劃,形成第四刻劃線,包括:
所述第四刻劃參數包括第四刻劃速度和第四刻劃針壓,其中,第四刻劃速度的取值范圍為800mm/s至1000mm/s,第四刻劃針壓的取值范圍為0.8N至1.2N。
9.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一刻劃線的長度的取值范圍為3mm至8mm。
10.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,所述第三刻劃線的長度的取值范圍為0.15mm至1mm。
11.一種太陽能電池的制備方法,其特征在于,
制備電極層,所述電極層覆蓋在預留區和光電轉換層上;所述預留區為在基板上制備光電轉換層時,所述基板的未被所述光電轉換層覆蓋的區域;
將所述電極層上正對所述光電轉換層的區域內的預設位置作為刻劃起始點,對所述電極層進行第三刻劃,形成第三刻劃線。
12.根據權利要求11所述的方法,其特征在于,在形成第三刻劃線之后,還包括:
對所述電極層進行第四刻劃,形成第四刻劃線,所述第四刻劃線的起始點與所述第三刻劃線的終點重合,且所述第四刻劃線位于所述第三刻劃線的延長線上。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





