[發(fā)明專利]氧化還原裝置、氣體調(diào)節(jié)系統(tǒng)及制冷器具

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811620404.5
• 申請(qǐng)日: 2018-12-28
• 公開（公告）號(hào): CN111384422B
• 公開（公告）日: 2023-02-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳臨遠(yuǎn);劉玉花;仲偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 博西華電器（江蘇）有限公司;BSH家用電器有限公司
• 主分類號(hào): H01M8/1226
• 分類號(hào): H01M8/1226;H01M8/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

一種氧化還原裝置(100)、氣體調(diào)節(jié)系統(tǒng)及制冷器具(1)，所述氧化還原裝置(100)，包括：膜電極組件(10)，所述膜電極組件(10)包括：質(zhì)子交換膜(11)、陽極層(12)、陰極層(13)，所述質(zhì)子交換膜(11)位于所述陽極層(12)及陰極層(13)之間，在所述膜電極組件(10)的陽極層(12)側(cè)設(shè)有第一氣體擴(kuò)散層(20)以及阻水層(30)，所述第一氣體擴(kuò)散層(20)位于所述膜電極組件(10)與所述阻水層(30)之間。采用上述方案，能夠提高氧化還原裝置(100)的工作穩(wěn)定性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明實(shí)施例涉及電解技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種氧化還原裝置、氣體調(diào)節(jié)系統(tǒng)及制冷器具。

背景技術(shù)

目前，采用氧化還原裝置對(duì)氧氣進(jìn)行還原。在氧化還原裝置的陰極側(cè)通入氧氣，在陽極側(cè)通入水，水在陽極側(cè)被電解得到氫離子以及氧原子，氧原子結(jié)合形成氧氣，氫離子被輸送至陰極側(cè)將氧氣還原得到水。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實(shí)施例的一個(gè)目的為如何提高氧化還原裝置的工作穩(wěn)定性。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明實(shí)施例提供一種氧化還原裝置，包括：膜電極組件，所述膜電極組件包括：質(zhì)子交換膜、陽極層、陰極層，所述質(zhì)子交換膜位于所述陽極層及陰極層之間，在所述膜電極組件的陽極層側(cè)設(shè)有第一氣體擴(kuò)散層以及阻水層，所述第一氣體擴(kuò)散層位于所述膜電極組件與所述阻水層之間。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案具有以下有益效果：

在氧化還原裝置的膜電極組件的陽極層側(cè)設(shè)置有阻水層及第一氣體擴(kuò)散層，阻水層可以減小輸送至陽極層的水量，以降低陽極層的過量水對(duì)氧化還原反應(yīng)的影響的可能性，提高氧化還原裝置工作的穩(wěn)定性。

可選地，所述阻水層包括導(dǎo)電高分子膜。

可選地，所述阻水層具有孔。

可選地，所述阻水層和所述質(zhì)子交換膜由相同的材料制成。

可選地，所述阻水層包括疏水層。

可選地，所述阻水層包括第二氣體擴(kuò)散層，所述第二氣體擴(kuò)散層設(shè)有所述疏水層，可以在減少供給至陽極層的水量的同時(shí)，確保陽極層產(chǎn)生的氣體排出。

可選地，所述第一氣體擴(kuò)散層位于所述第二氣體擴(kuò)散層和所述陽極層之間。

可選地，所述疏水層設(shè)于第二氣體擴(kuò)散層面向所述陽極層的一側(cè)。

可選地，所述第一氣體擴(kuò)散層設(shè)有親水層，可以加快水與陽極層的接觸速度。

可選地，所述親水層設(shè)于所述第一氣體擴(kuò)散層面向所述膜電極組件的一側(cè)。

可選的，所述第一氣體擴(kuò)散層和所述阻水層接觸。

可選地，所述氧化還原裝置還包括：導(dǎo)流板；所述阻水層設(shè)置于所述導(dǎo)流板與所述第一氣體擴(kuò)散層之間。

可選地，所述導(dǎo)流板包括外導(dǎo)流板及內(nèi)導(dǎo)流板，其中：所述內(nèi)導(dǎo)流板位于所述外導(dǎo)流板與所述阻水層之間。

可選地，所述外導(dǎo)流板上設(shè)置有若干個(gè)第一槽口，所述內(nèi)導(dǎo)流板上設(shè)置有若干個(gè)第二槽口，所述第一槽口的延伸方向與所述第二槽口的延伸方向不一致。

可選地，所述氧化還原裝置還包括固定端板，所述導(dǎo)流板位于所述固定端板與所述阻水層之間。

可選地，所述固定端板的數(shù)目為2個(gè)，其中一個(gè)固定端板上設(shè)置有進(jìn)氣連接口和排氣連接口，另一個(gè)固定端板上設(shè)置有進(jìn)水連接口和排水連接口。

可選地，所述氧化還原裝置還包括導(dǎo)電板，位于所述固定端板與所述導(dǎo)流板之間。

可選地，在所述固定端板與所述導(dǎo)電板之間設(shè)置有隔離層，實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電板與固定短板之間的電氣隔離，提高安全性。