[發明專利]氧化還原裝置、氣體調節系統及制冷器具

有效

• 申請號: 201811620404.5
• 申請日: 2018-12-28
• 公開（公告）號: CN111384422B
• 公開（公告）日: 2023-02-28
• 發明（設計）人: 吳臨遠;劉玉花;仲偉
• 申請（專利權）人: 博西華電器（江蘇）有限公司;BSH家用電器有限公司
• 主分類號: H01M8/1226
• 分類號: H01M8/1226;H01M8/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種氧化還原裝置(100)，包括：膜電極組件(10)，所述膜電極組件(10)包括：質子交換膜(11)、陽極層(12)、陰極層(13)，所述質子交換膜(11)位于所述陽極層(12)及陰極層(13)之間，所述陽極層用以電解供應至陽極層的水，其特征在于，在所述膜電極組件(10)的陽極層(12)側設有第一氣體擴散層(20)以及阻水層(30)，所述第一氣體擴散層(20)位于所述膜電極組件(10)與所述阻水層(30)之間，所述阻水層用以減小輸送至陽極層的水量。

2.根據權利要求1所述的氧化還原裝置(100)，其特征在于，所述阻水層(30)包括導電高分子膜。

3.根據權利要求1所述的氧化還原裝置(100)，其特征在于，所述阻水層(30)具有孔(31)。

4.根據權利要求1所述的氧化還原裝置(100)，其特征在于，所述阻水層(30)和所述質子交換膜(11)由相同的材料制成。

5.根據權利要求1所述的氧化還原裝置(100)，其特征在于，所述阻水層(30)包括疏水層(32)。

6.根據權利要求5所述的氧化還原裝置(100)，其特征在于，所述阻水層(30)包括第二氣體擴散層(33)，所述第二氣體擴散層(33)設有所述疏水層(32)。

7.根據權利要求6所述的氧化還原裝置(100)，其特征在于，所述第一氣體擴散層(20)位于所述第二氣體擴散層(33)和所述陽極層(12)之間。

8.根據權利要求6所述的氧化還原裝置(100)，其特征在于，所述疏水層(32)設于第二氣體擴散層(33)面向所述陽極層(12)的一側。

9.根據權利要求1所述的氧化還原裝置(100)，其特征在于，所述第一氣體擴散層(20)設有親水層(40)。

10.根據權利要求9所述的氧化還原裝置(100)，其特征在于，所述親水層(40)設于所述第一氣體擴散層(20)面向所述膜電極組件(10)的一側。

11.據權利要求1所述的氧化還原裝置(100)，其特征在于，所述第一氣體擴散層(20)和阻水層(30)接觸。

12.根據權利要求1至11任一項所述的氧化還原裝置(100)，其特征在于，還包括：導流板(50)；所述阻水層(30)設置于所述導流板(50)與所述第一氣體擴散層(20)之間。

13.根據權利要求12所述的氧化還原裝置(100)，其特征在于，所述導流板(50)包括外導流板(52)及內導流板(51)，其中：

所述內導流板(51)位于所述外導流板(52)與所述阻水層(30)之間。

14.根據權利要求13所述的氧化還原裝置(100)，其特征在于，所述外導流板(52)上設置有若干個第一槽口(521)，所述內導流板(51)上設置有若干個第二槽口(511)，所述第一槽口(521)的延伸方向與所述第二槽口(511)的延伸方向不一致。

15.根據權利要求12所述的氧化還原裝置(100)，其特征在于，還包括固定端板(60)，所述導流板(50)位于所述固定端板(60)與所述阻水層(30)之間。

16.根據權利要求15所述的氧化還原裝置(100)，其特征在于，所述固定端板(60)的數目為2個，其中一個固定端板(60)上設置有進氣連接口(61)和排氣連接口(62)，另一個固定端板(60)上設置有進水連接口(63)和排水連接口(64)。