[發(fā)明專利]一種光模塊參數(shù)配置方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811603013.2
• 申請(qǐng)日: 2018-12-26
• 公開（公告）號(hào): CN109449727B
• 公開（公告）日: 2020-11-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭林;彭智祥;劉樹文;王艷紅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東莞銘普光磁股份有限公司
• 主分類號(hào): H01S3/00
• 分類號(hào): H01S3/00;H01S5/00
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 羅滿

1.一種光模塊參數(shù)配置方法，其特征在于，包括：

將光模塊放置在高溫環(huán)境下，當(dāng)所述光模塊中MCU溫度指針達(dá)到目標(biāo)工作溫度時(shí)，調(diào)節(jié)EML激光器核心溫度值、偏壓電流值和反向偏置電壓值，使所述光模塊的光功率、消光比、通道代價(jià)滿足目標(biāo)值；所述高溫大于所述EML激光器的目標(biāo)溫度；

以所述光模塊中MCU溫度指針為索引，保持偏壓電流值不變，根據(jù)服務(wù)器上預(yù)先存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)庫(kù)中EML激光器核心溫度值、反向偏置電壓值與調(diào)節(jié)后的EML激光器核心溫度值、反向偏置電壓值的對(duì)應(yīng)關(guān)系，動(dòng)態(tài)更新本地?cái)?shù)據(jù)庫(kù)中EML激光器核心溫度值、反向偏置電壓值；

根據(jù)更新后的本地?cái)?shù)據(jù)庫(kù)中的參數(shù)，在常溫和低溫下分別測(cè)試所述光模塊的光功率、消光比和通道代價(jià)，若性能正常，則完成參數(shù)配置；所述低溫小于所述EML激光器的目標(biāo)溫度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光模塊參數(shù)配置方法，其特征在于，在將光模塊放置在高溫環(huán)境下之前，還包括：

以光模塊中MCU溫度指針為索引，下載服務(wù)器上預(yù)先存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)庫(kù)中設(shè)置的參數(shù)值，根據(jù)下載好的參數(shù)值設(shè)置初始的EML激光器核心溫度值，偏壓電流值和反向偏置電壓值。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光模塊參數(shù)配置方法，其特征在于，在調(diào)節(jié)過程中，EML激光器核心溫度值在步進(jìn)減小時(shí)，反向偏置電壓值同步增加。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光模塊參數(shù)配置方法，其特征在于，動(dòng)態(tài)更新本地?cái)?shù)據(jù)庫(kù)中EML激光器核心溫度值、反向偏置電壓值，具體包括：

將下載好的服務(wù)器上預(yù)先存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)庫(kù)中EML激光器核心溫度值、反向偏置電壓值進(jìn)行數(shù)據(jù)動(dòng)態(tài)平移以更新本地?cái)?shù)據(jù)庫(kù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光模塊參數(shù)配置方法，其特征在于，在以光模塊中MCU溫度指針為索引，下載服務(wù)器上預(yù)先存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)庫(kù)中設(shè)置的參數(shù)值，根據(jù)下載好的參數(shù)值設(shè)置初始的EML激光器核心溫度值，偏壓電流和反向偏置電壓值之前，還包括：

下載服務(wù)器上預(yù)先存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)庫(kù)中光模塊的MCU配置，篩選所述光模塊的光眼圖交叉點(diǎn)參數(shù)；

若篩選出的所述光眼圖交叉點(diǎn)參數(shù)未在設(shè)定范圍內(nèi)，則對(duì)所述MCU進(jìn)行調(diào)節(jié)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光模塊參數(shù)配置方法，其特征在于，在下載服務(wù)器上預(yù)先存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)庫(kù)中光模塊的MCU配置，篩選所述光模塊的光眼圖交叉點(diǎn)參數(shù)之前，還包括：

根據(jù)EML激光器出廠的參數(shù)，篩選滿足工作波長(zhǎng)要求的EML激光器；

將篩選出的所述EML激光器集成在光模塊中。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光模塊參數(shù)配置方法，其特征在于，所述高溫環(huán)境為商業(yè)級(jí)70度，工業(yè)級(jí)85度。

8.一種光模塊參數(shù)配置裝置，其特征在于，包括：

高溫調(diào)節(jié)模塊，用于將光模塊放置在高溫環(huán)境下，當(dāng)所述光模塊中MCU溫度指針達(dá)到目標(biāo)工作溫度時(shí)，調(diào)節(jié)EML激光器核心溫度值、偏壓電流值和反向偏置電壓值，使所述光模塊的光功率、消光比、通道代價(jià)滿足目標(biāo)值；所述高溫大于所述EML激光器的目標(biāo)溫度；

數(shù)據(jù)庫(kù)更新模塊，用于以所述光模塊中MCU溫度指針為索引，保持偏壓電流值不變，根據(jù)服務(wù)器上預(yù)先存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)庫(kù)中EML激光器核心溫度值、反向偏置電壓值與調(diào)節(jié)后的EML激光器核心溫度值、反向偏置電壓值的對(duì)應(yīng)關(guān)系，動(dòng)態(tài)更新本地?cái)?shù)據(jù)庫(kù)中EML激光器核心溫度值、反向偏置電壓值；

性能測(cè)試模塊，用于根據(jù)更新后的本地?cái)?shù)據(jù)庫(kù)中的參數(shù)，在常溫和低溫下分別測(cè)試所述光模塊的光功率、消光比和通道代價(jià)，若性能正常，則完成參數(shù)配置；所述低溫小于所述EML激光器的目標(biāo)溫度。

9.一種光模塊參數(shù)配置設(shè)備，其特征在于，包括處理器和存儲(chǔ)器，其中，所述處理器執(zhí)行所述存儲(chǔ)器中保存的計(jì)算機(jī)程序時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的光模塊參數(shù)配置方法。

10.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其特征在于，用于存儲(chǔ)計(jì)算機(jī)程序，其中，所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的光模塊參數(shù)配置方法。