[發(fā)明專利]一種量子產(chǎn)率的測(cè)試方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811602824.0
• 申請(qǐng)日: 2018-12-26
• 公開（公告）號(hào): CN109507153A
• 公開（公告）日: 2019-03-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 薛占強(qiáng);郭翠;潘奕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市太赫茲科技創(chuàng)新研究院有限公司;華訊方舟科技有限公司
• 主分類號(hào): G01N21/63
• 分類號(hào): G01N21/63;G01N21/25
• 代理公司: 深圳中一專利商標(biāo)事務(wù)所 44237
• 代理人: 高星

本發(fā)明屬于量子產(chǎn)率技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種量子產(chǎn)率的測(cè)試方法，通過將待測(cè)材料放入積分球內(nèi)部，先獲取激發(fā)光的激發(fā)光光譜，然后將激發(fā)光照射在待測(cè)材料上，獲取待測(cè)材料的光致發(fā)光光譜以及激發(fā)光的透射光譜，并根據(jù)激發(fā)光光譜、光致發(fā)光光譜以及透射光譜生成待測(cè)材料的量子產(chǎn)率，從而使得在探測(cè)激發(fā)光光譜、光致發(fā)光光譜以及透射光譜時(shí)無(wú)需取出待測(cè)材料，保證了測(cè)試數(shù)據(jù)均在同一環(huán)境下取得，避免了因?yàn)闇y(cè)試環(huán)境不同而產(chǎn)生的誤差，解決了傳統(tǒng)測(cè)定量子產(chǎn)率的方法中，在探測(cè)激發(fā)光的光譜和激發(fā)光透射光譜時(shí)的測(cè)量狀態(tài)存在差異，導(dǎo)致測(cè)定的量子產(chǎn)率出現(xiàn)一定的誤差的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)實(shí)施例屬于量子產(chǎn)率技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種量子產(chǎn)率的測(cè)試方法。

背景技術(shù)

量子產(chǎn)率是評(píng)價(jià)發(fā)光材料性能的重要參數(shù)。量子產(chǎn)率的測(cè)定，主要利用光譜儀探測(cè)積分球內(nèi)的激發(fā)光光譜、光致發(fā)光光譜、激發(fā)光的透射光譜，通過計(jì)算發(fā)射的光子總數(shù)與吸收的光子數(shù)的比值得到，其中，發(fā)射的光子數(shù)可通過測(cè)量光致發(fā)光光譜得到，吸收的光子數(shù)為激發(fā)光的光子數(shù)與透射的激發(fā)光光子數(shù)之差。

然而，傳統(tǒng)測(cè)定量子產(chǎn)率的方法中，在探測(cè)激發(fā)光的光譜和激發(fā)光透射光譜時(shí)的測(cè)量狀態(tài)存在差異，導(dǎo)致測(cè)定的量子產(chǎn)率出現(xiàn)一定的誤差。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種量子產(chǎn)率的測(cè)試方法，旨在解決傳統(tǒng)測(cè)定量子產(chǎn)率的方法中，在探測(cè)激發(fā)光的光譜和激發(fā)光透射光譜時(shí)的測(cè)量狀態(tài)存在差異，導(dǎo)致測(cè)定的量子產(chǎn)率出現(xiàn)一定的誤差的問題。

本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種量子產(chǎn)率的測(cè)試方法，包括：

將待測(cè)材料放入積分球內(nèi)部，并獲取激發(fā)光的激發(fā)光光譜；

將所述激發(fā)光照射在所述待測(cè)材料表面，獲取所述待測(cè)材料的光致發(fā)光光譜以及所述激發(fā)光的透射光譜；

根據(jù)所述激發(fā)光光譜、所述光致發(fā)光光譜以及所述透射光譜生成所述待測(cè)材料的量子產(chǎn)率。

可選的，所述獲取所述激發(fā)光的激發(fā)光光譜，包括：

將所述激發(fā)光通過積分球的入口照射在所述積分球的內(nèi)壁；

檢測(cè)從所述積分球的出口發(fā)出的激發(fā)光的激發(fā)光光譜。

可選的，將所述激發(fā)光照射在所述待測(cè)材料表面，獲取所述待測(cè)材料的光致發(fā)光光譜以及所述激發(fā)光的透射光譜，包括：

調(diào)整所述激發(fā)光的入射角度，以使所述激發(fā)光照射到所述待測(cè)材料表面；

檢測(cè)從所述積分球的出口發(fā)出的所述待測(cè)材料的光致發(fā)光光譜以及所述激發(fā)光的透射光譜。

可選的，所述調(diào)整所述激發(fā)光的入射角度，以使所述激發(fā)光照射到所述待測(cè)材料表面，包括：

通過可旋轉(zhuǎn)角度反射鏡裝置接收所述激發(fā)光；

通過調(diào)節(jié)所述可旋轉(zhuǎn)角度反射鏡裝置的角度對(duì)所述激發(fā)光進(jìn)入所述積分球的入射角進(jìn)行調(diào)節(jié)，以使得所述激發(fā)光照射到所述待測(cè)材料表面。

可選的，所述通過調(diào)節(jié)所述可旋轉(zhuǎn)角度反射鏡裝置的角度對(duì)所述激發(fā)光進(jìn)入所述積分球的入射角進(jìn)行調(diào)節(jié)，以使得所述激發(fā)光照射到所述待測(cè)材料表面，還包括：

對(duì)所述可旋轉(zhuǎn)角度反射鏡裝置的角度進(jìn)行調(diào)節(jié)；

在所述可旋轉(zhuǎn)角度反射鏡裝置與所述積分球之間設(shè)置聚焦透鏡；

調(diào)節(jié)所述可旋轉(zhuǎn)角度反射鏡裝置的角度，以使得所述激發(fā)光通過聚焦透鏡后照射到所述待測(cè)材料表面。

可選的，所述可旋轉(zhuǎn)角度反射鏡裝置，包括：

光學(xué)反射鏡，用于接收所述激發(fā)光，并對(duì)所述激發(fā)光進(jìn)行反射；

反射鏡支桿，用于固定所述光學(xué)反射鏡，所述反射鏡支桿與所述光學(xué)反射鏡連接；以及