[發(fā)明專利]藍相液晶面板的制作方法及其立體電極的制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811601232.7 | 申請日: | 2018-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN109597250B | 公開(公告)日: | 2021-06-01 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李遷;陳興武 | 申請(專利權)人: | TCL華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1343 | 分類號: | G02F1/1343;G02F1/137 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識產(chǎn)權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液晶面板 制作方法 及其 立體 電極 | ||
1.一種藍相液晶顯示面板立體電極的制作方法,其包括以下步驟:
提供一基板;
在所述基板表面沉積多晶硅或氧化硅,以形成一層薄膜;
在所述薄膜上覆蓋一層金屬層;
通過電子束光刻方法,將所述金屬層刻蝕成多個相間分布的輔助金屬層;
將所述基板浸入刻蝕液中,以使所述薄膜被刻蝕成多個相間分布的立體基底,且每個輔助金屬層掉落在相鄰兩個立體基底與所述薄膜形成的凹槽內(nèi);
將經(jīng)過刻蝕處理后的所述基板進行清洗處理;
在所述多個立體基底表面及所述多個輔助金屬層表面沉積一層連續(xù)的ITO導電層,以得到立體電極。
2.根據(jù)權利要求1所述的藍相液晶顯示面板立體電極的制作方法,其特征在于,當所述薄膜的材料為多晶硅時,所述刻蝕液僅刻蝕位于所述輔助金屬層下方的薄膜,以使所述薄膜形成多個相間分布且截面呈矩形的立體基底。
3.根據(jù)權利要求1所述的藍相液晶顯示面板立體電極的制作方法,其特征在于,當所述薄膜的材料為氧化硅時,所述刻蝕液刻蝕位于所述輔助金屬層下方及兩側的薄膜,以使所述薄膜形成多個相間分布且截面呈梯形的立體基底。
4.根據(jù)權利要求1所述的藍相液晶顯示面板立體電極的制作方法,其特征在于,采用低壓力化學氣相沉積方法在所述基板表面形成所述薄膜。
5.根據(jù)權利要求1所述的藍相液晶顯示面板立體電極的制作方法,其特征在于,所述金屬層的高度小于所述薄膜的高度。
6.根據(jù)權利要求1所述的藍相液晶顯示面板立體電極的制作方法,其特征在于,所述通過電子束光刻方法將所述金屬層刻蝕成多個相間分布的輔助金屬層的步驟包括:
在所述金屬層上覆蓋一層電子束光刻膠;
采用電子束曝光系統(tǒng),對所述電子束光刻膠進行曝光;
對曝光后的所述電子束光刻膠進行顯影,以形成所述輔助金屬層;以及
剝離所述電子束光刻膠。
7.根據(jù)權利要求1所述的藍相液晶顯示面板立體電極的制作方法,其特征在于,所述輔助金屬層的材料為銅或銀。
8.根據(jù)權利要求2所述的藍相液晶顯示面板立體電極的制作方法,其特征在于,所述立體電極的截面形狀為多個相間分布的矩形。
9.根據(jù)權利要求3所述的藍相液晶顯示面板立體電極的制作方法,其特征在于,所述立體電極的截面形狀為多個相間分布的梯形。
10.一種藍相液晶面板的制作方法,其包括以下步驟:
S 1:提供上基板和下基板;
S2:采用如權利要求1至9中任意一項所述的藍相液晶顯示面板立體電極的制作方法,在所述上基板的一表面及所述下基板的一表面形成立體電極;
S3:將所述上基板和所述下基板相對設置,以使所述上基板的立體電極和所述下基板的立體電極相互面對;
S4:在所述上基板和所述下基板之間填充多個藍相液晶分子。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結構中的





