[發明專利]磁性元件、使用其的渦電流式傳感器、研磨裝置、研磨方法以及計算機可讀取記錄介質

有效

• 申請號: 201811599497.8
• 申請日: 2018-12-26
• 公開（公告）號: CN110030918B
• 公開（公告）日: 2022-11-04
• 發明（設計）人: 高橋太郎;澀江宏明;渡邊和英
• 申請（專利權）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: G01B7/06
• 分類號: G01B7/06;B24B37/013;B24B49/10
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 肖華

提供一種使形成于被研磨物的磁場更強的磁性元件以及使用該磁性元件的渦電流式傳感器。渦電流式傳感器具有：作為磁性體的底面部、設于底面部的中央的磁心部、設于底面部的周邊部的周壁部。渦電流式傳感器另外還具有配置在磁心部的外周，能夠產生磁場的勵磁線圈；配置于周壁部的外周，能夠產生磁場的勵磁線圈。

技術領域

本發明涉及磁性元件以及使用該磁性元件的渦電流式傳感器。

背景技術

近年來，隨著半導體裝置的高集成化的進步，電路的配線逐漸細微化，配線間距離也變得更窄。在此，需要使被研磨物即半導體晶片的表面平坦化，但作為該平坦化法的一個方法，利用研磨裝置進行研磨(拋光)。

研磨裝置具有：用于保持對被研磨物進行研磨的研磨墊的研磨臺、用于保持被研磨物并向研磨墊按壓的頂環。分別利用驅動部(例如電機)驅動研磨臺和頂環旋轉。通過使含有研磨劑的液體(漿料)在研磨墊上流動，并將被頂環保持的被研磨物按壓到研磨墊，而研磨被研磨物。

在研磨裝置中，在被研磨物的研磨不充分時，電路間不絕緣而可能發生短路，另外，在過度研磨的情況下，會產生由于配線的截面積減少而導致阻抗值上升，或配線本身被完全除去，而不能形成電路本身等問題。因此，在研磨裝置中，需要檢測最佳研磨終點。

作為如上所述的技術，有日本特開2017-58245號記載的結構。在該技術中，為了檢測研磨終點而使用渦電流式傳感器，該渦電流式傳感器使用了所謂罐型的線圈。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：(日本)特開2017-58245號

在被研磨物的表面，有金屬以較寬面狀(團塊狀)分布的情況和銅等細配線在表面局部地存在的情況。在表面局部地存在的情況下，要求在被研磨物流動的渦電流密度比金屬以較寬面狀分布的情況大，即，渦電流式傳感器在被研磨物形成的磁場更強。

發明內容

發明要解決的技術課題

本發明的一方式為了解決上述問題點，其目的在于提供一種使形成于被研磨物的磁場更強的磁性元件以及使用該磁性元件的渦電流式傳感器。

用于解決技術課題的技術方案

為了解決上述課題，在第1方式中，采用一種磁性元件，具有：底部磁性體；中央磁性體，該中央磁性體設于所述底部磁性體的中央；周邊部磁性體，該周邊部磁性體設于所述底部磁性體的周邊部；能夠產生磁場的內部線圈，該內部線圈配置在所述中央磁性體的外周；以及能夠產生磁場的外部線圈，該外部線圈配置在所述周邊部磁性體的外周。

在本實施方式中，具有配置在周邊部磁性體的外周，能夠產生磁場的外部線圈。因此，以往僅有配置在中央磁性體的外周，能夠產生磁場的內部線圈，而根據本實施方式，與以往相比，能夠強化磁場。

在第2方式中，在采用第1方式記載的磁性元件的基礎上，所述底部磁性體具有柱狀的形狀，所述周邊部磁性體配置在所述柱狀的形狀的兩端。磁性元件例如能夠是E型的線圈。

在第3方式中，在采用第1方式記載的磁性元件的基礎上，所述周邊部磁性體在所述底部磁性體的周邊部設置多個。周邊部磁性體的數量可以是兩個，三個，四個，六個等，可以是多極線圈。

在第4方式中，在采用第1方式記載的磁性元件的基礎上，所述周邊部磁性體是以包圍所述中央磁性體的方式設于所述底部磁性體的周邊部的壁部。周邊部磁性體可以是圓筒形、四邊形的筒形狀等。這些形狀與以往的罐型的線圈的形狀相同。但是，在以往的罐型的線圈中，不存在配置在周邊部磁性體的外周，能夠產生磁場的外部線圈。因此，第4方式與以往的罐型的線圈相比，能夠強化磁場。

在第5方式中，在采用第1方式至第4方式中任一項所述的磁性元件的基礎上，所述內部線圈和所述外部線圈能夠電并聯連接。