[發明專利]一種用于催化降解有機磷酸酯的功能單體及其多孔印跡聚合物的制備方法

有效

• 申請號: 201811599428.7
• 申請日: 2018-12-26
• 公開（公告）號: CN109705040B
• 公開（公告）日: 2022-06-17
• 發明（設計）人: 郭天瑛;潘建萍;周童童
• 申請（專利權）人: 南開大學
• 主分類號: C07D233/61
• 分類號: C07D233/61;C07D213/38;C08F212/36;C08F212/32;C08F222/14;C08F226/02;C08J9/28;A62D3/35;A62D101/04;A62D101/26
• 代理公司: 天津耀達律師事務所 12223
• 代理人: 張耀

1.一種用于催化降解有機磷酸酯的功能單體，其特征在于：該功能單體具有如下結構：

其中：X代表甲基、乙基或芐基，Y代表乙烯芐基或烯丙基，R¹代表咪唑、吡啶或鄰/間/對位甲基取代的吡啶基，R²代表羥基、肟基或偕胺肟基。

2.一種多孔印跡聚合物的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

1)合成一系列如權利要求1所述的功能單體，結構如下所示；

其中：X代表甲基、乙基或芐基，Y代表乙烯芐基或烯丙基，R¹代表咪唑、吡啶或鄰/間/對位甲基取代的吡啶基，R²代表羥基、肟基或偕胺肟基；

2)通過所述功能單體與金屬鹽在溶劑中配位，制備功能配合物；

3)將功能配合物、模版和交聯劑混合均勻，在溶劑熱條件下，制備多孔印跡聚合物；

步驟2)中所述的金屬鹽的金屬離子為Zn(II)、Cu(II)、Cd(II)、Co(II)、Ni(II)、Ag(I)或La(II)；

所述模版分子為對硫磷、對氧磷、毒死蜱、敵敵畏或雙(4-硝基苯)磷酸酯。

3.如權利要求2所述的多孔印跡聚合物的制備方法，其特征在于：功能單體和金屬鹽的摩爾比例為：0.5-2：1。

4.如權利要求2所述的多孔印跡聚合物的制備方法，其特征在于：步驟2) 中所述的溶劑為甲醇、乙腈、二氯甲烷或二甲基亞砜。

5.如權利要求2所述的多孔印跡聚合物的制備方法，其特征在于：步驟3)中，所述的溶劑熱條件為70-250℃，反應4-48h。

6.如權利要求2所述的多孔印跡聚合物的制備方法，其特征在于：步驟3)中，印跡體系中功能配合物和模版的摩爾比例為：1-4：1。

7.如權利要求2所述的多孔印跡聚合物的制備方法，其特征在于：步驟3)中，所述的交聯劑是N,N-亞甲基雙丙烯酰胺、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二乙烯基苯、三甲氧基丙烷三甲基丙烯酸酯或季戊四醇丙烯酸酯，所述的印跡體系中功能配合物和交聯劑的摩爾比例為：0.1-10：1。