[發(fā)明專利]一種帶清洗功能的半導(dǎo)體晶圓研磨裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811598266.5
• 申請日: 2018-12-26
• 公開（公告）號: CN109676515B
• 公開（公告）日: 2020-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 汪文堅;王倩;朱威莉
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇納沛斯半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號: B24B37/10
• 分類號: B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34;H01L21/67
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本發(fā)明涉及研磨設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種帶清洗功能的半導(dǎo)體晶圓研磨裝置，包括支撐桿、頂板、清洗裝置和固定裝置，頂板底部兩側(cè)設(shè)置有支撐桿，支撐桿內(nèi)側(cè)設(shè)置有連接桿，連接桿內(nèi)側(cè)設(shè)置有固定座，固定座頂部設(shè)置有固定裝置，固定裝置上側(cè)設(shè)置有電機，電機下側(cè)輸出端與研磨盤連接，研磨盤外側(cè)設(shè)置有清洗裝置，本發(fā)明，通過設(shè)置固定裝置，有效降低了晶圓在研磨時發(fā)生側(cè)滑的可能，通過設(shè)置粗磨齒和細磨齒，利于提高研磨品質(zhì)，通過設(shè)置清洗裝置，可以保持研磨盤與第一固定塊之間的清潔，通過經(jīng)常的清洗，使得研磨盤保持干凈，同時，在清洗過程中，清洗水還可以作為研磨硅片的冷卻水，達到有助于硅片研磨的作用。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及研磨設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種帶清洗功能的半導(dǎo)體晶圓研磨裝置。

背景技術(shù)

晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片，由于其形狀為圓形，故稱為晶圓；在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu)，而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品，晶圓在投入使用時，需要對其進行研磨。

中國專利（授權(quán)公告號：CN207495157U）公開了一種半導(dǎo)體晶圓減薄裝置，包括減薄裝置，所述減薄裝置下側(cè)設(shè)置有機組箱，在機組箱上表面固定安裝有升降臺，所述升降臺上側(cè)設(shè)置有固定板，在固定板上表面固定安裝有吸附平臺，所述機組箱兩側(cè)設(shè)置有左撐桿和右撐桿，所述機組箱和所述控制柜通過右撐桿固定連接，所述左撐桿和所述右撐桿頂部固定安裝有橫梁，在橫梁中部設(shè)置有固定塊，所述固定塊內(nèi)部設(shè)置有液壓軸，在液壓軸下端固定安裝有轉(zhuǎn)軸板，但上述裝置不能處理研磨盤和固定裝置之間堆積的研磨后的污泥，影響研磨盤的使用壽命，同時，上述裝置無法對晶圓側(cè)面進行固定，使晶圓有側(cè)滑的風(fēng)險，因此，針對以上現(xiàn)狀，迫切需要開發(fā)一種帶清洗功能的半導(dǎo)體晶圓研磨裝置，以克服當(dāng)前實際應(yīng)用中的不足。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種帶清洗功能的半導(dǎo)體晶圓研磨裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種帶清洗功能的半導(dǎo)體晶圓研磨裝置，包括支撐桿、頂板、清洗裝置和固定裝置，所述頂板底部兩側(cè)設(shè)置有支撐桿，所述支撐桿內(nèi)側(cè)設(shè)置有與頂板固定連接的連接桿，所述連接桿內(nèi)側(cè)設(shè)置有固定座，所述固定座頂部設(shè)置有固定裝置，所述固定裝置上側(cè)設(shè)置有電機，所述電機與頂板固定連接，所述電機下側(cè)輸出端與研磨盤連接，所述研磨盤外側(cè)設(shè)置有清洗裝置。

作為本發(fā)明進一步的方案：所述清洗裝置包括第一連接管、噴嘴、第一水泵、抽水管、水箱、進水管、第二水泵、第二連接管、彎管和排水管，所述水箱設(shè)置在右側(cè)連接桿左側(cè)，所述水箱與固定座固定連接，所述水箱上側(cè)設(shè)置有第一水泵，所述第一水泵與頂板螺栓連接，所述第一水泵右側(cè)設(shè)置有抽水管，所述抽水管另一端設(shè)置在水箱內(nèi)側(cè)，所述第一水泵左側(cè)設(shè)置有第一連接管，所述第一連接管為三通管道，第一連接管一端與第一水泵固定連接，第一連接管另外兩端分別設(shè)置在研磨盤左右兩側(cè)，研磨盤兩側(cè)的第一連接管底部設(shè)置有噴嘴，所述噴嘴下側(cè)設(shè)置有排水管，所述排水管底部設(shè)置有彎管，所述彎管右側(cè)設(shè)置有第二連接管，所述第二連接管右側(cè)設(shè)置有第二水泵，所述第二水泵與固定座螺栓連接，所述第二水泵右側(cè)設(shè)置有進水管，所述進水管另一端與水箱固定連接。

作為本發(fā)明進一步的方案：所述固定裝置包括吸氣管、真空泵、第一固定塊、第二固定塊、滑槽、滑桿、壓板、吸盤、滑塊、第三連接管和管道，所述第一固定塊設(shè)置在固定座頂部，所述第一固定塊頂部設(shè)置有第二固定塊，所述第一固定塊底部設(shè)置有真空泵，所述真空泵吸氣端與吸氣管連接，所述吸氣管另一端與設(shè)置在第一固定塊內(nèi)部的第三連接管連接，所述第三連接管上側(cè)設(shè)置有滑塊，所述第三連接管頂部設(shè)置有若干管道，所述管道穿過第一固定塊頂端和滑塊，所述管道與滑塊滑動連接，位于滑塊與第一固定塊之間的管道外側(cè)設(shè)置有第一彈簧，若干所述管道上側(cè)設(shè)置有與橡膠層固定連接的吸盤，所述第二固定塊內(nèi)側(cè)設(shè)置有滑槽，所述滑槽與第二固定塊固定連接，所述滑槽內(nèi)側(cè)設(shè)置有滑桿，所述滑桿與滑槽滑動連接，所述滑桿內(nèi)側(cè)設(shè)置有壓板，所述壓板與滑桿固定連接，所述壓板與滑槽之間設(shè)置有第二彈簧。