[發(fā)明專利]一種帶清洗功能的半導(dǎo)體晶圓研磨裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811598266.5
• 申請日: 2018-12-26
• 公開（公告）號: CN109676515B
• 公開（公告）日: 2020-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 汪文堅;王倩;朱威莉
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇納沛斯半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號: B24B37/10
• 分類號: B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34;H01L21/67
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• 代理人: 暫無信息

1.一種帶清洗功能的半導(dǎo)體晶圓研磨裝置，包括支撐桿（1）、頂板（2）、清洗裝置（16）和固定裝置（33），其特征在于，所述頂板（2）底部兩側(cè)設(shè)置有支撐桿（1），所述支撐桿（1）內(nèi)側(cè)設(shè)置有與頂板（2）固定連接的連接桿（3），所述連接桿（3）內(nèi)側(cè)設(shè)置有固定座（34），所述固定座（34）頂部設(shè)置有固定裝置（33），所述固定裝置（33）上側(cè)設(shè)置有電機（6），所述電機（6）與頂板（2）固定連接，所述電機（6）下側(cè)輸出端與研磨盤（7）連接，所述研磨盤（7）外側(cè)設(shè)置有清洗裝置（16），所述固定裝置（33）包括吸氣管（17）、真空泵（18）、第一固定塊（19）、第二固定塊（20）、滑槽（21）、滑桿（22）、壓板（23）、吸盤（24）、滑塊（25）、第三連接管（26）和管道（27），所述第一固定塊（19）設(shè)置在固定座（34）頂部，所述第一固定塊（19）頂部設(shè)置有第二固定塊（20），所述第一固定塊（19）底部設(shè)置有真空泵（18），所述真空泵（18）吸氣端與吸氣管（17）連接，所述吸氣管（17）另一端與設(shè)置在第一固定塊（19）內(nèi)部的第三連接管（26）連接，所述第三連接管（26）上側(cè)設(shè)置有滑塊（25），所述第三連接管（26）頂部設(shè)置有若干管道（27），所述管道（27）穿過第一固定塊（19）頂端和滑塊（25），所述管道（27）與滑塊（25）滑動連接，位于滑塊（25）與第一固定塊（19）之間的管道（27）外側(cè)設(shè)置有第一彈簧，若干所述管道（27）上側(cè)設(shè)置有與橡膠層固定連接的吸盤（24），所述第二固定塊（20）內(nèi)側(cè)設(shè)置有滑槽（21），所述滑槽（21）與第二固定塊（20）固定連接，所述滑槽（21）內(nèi)側(cè)設(shè)置有滑桿（22），所述滑桿（22）與滑槽（21）滑動連接，所述滑桿（22）內(nèi)側(cè)設(shè)置有壓板（23），所述壓板（23）與滑桿（22）固定連接，所述壓板（23）與滑槽（21）之間設(shè)置有第二彈簧，所述研磨盤（7）包括伸縮桿（28）、轉(zhuǎn)軸板（29）、粗磨齒（30）、細(xì)磨齒（31）和固定板（32），所述轉(zhuǎn)軸板（29）與電機（6）下側(cè)輸出端連接，所述轉(zhuǎn)軸板（29）底部設(shè)置有若干均勻分布的粗磨齒（30），所述轉(zhuǎn)軸板（29）內(nèi)側(cè)設(shè)置有固定板（32），所述固定板（32）與轉(zhuǎn)軸板（29）滑動連接，所述固定板（32）底部設(shè)置有若干細(xì)磨齒（31），所述固定板（32）頂部設(shè)置有伸縮桿（28），所述伸縮桿（28）與轉(zhuǎn)軸板（29）固定連接，所述第一固定塊（19）與第二固定塊（20）均為圓環(huán)形結(jié)構(gòu)，所述第二固定塊（20）半徑大于第一固定塊（19），所述細(xì)磨齒（31）與粗磨齒（30）交叉設(shè)置，且粗磨齒（30）和細(xì)磨齒（31）均為金剛石材質(zhì)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶清洗功能的半導(dǎo)體晶圓研磨裝置，其特征在于，所述清洗裝置（16）包括第一連接管（4）、噴嘴（5）、第一水泵（8）、抽水管（9）、水箱（10）、進(jìn)水管（11）、第二水泵（12）、第二連接管（13）、彎管（14）和排水管（15），所述水箱（10）設(shè)置在右側(cè)連接桿（3）左側(cè)，所述水箱（10）與固定座（34）固定連接，所述水箱（10）上側(cè)設(shè)置有第一水泵（8），所述第一水泵（8）與頂板（2）螺栓連接，所述第一水泵（8）右側(cè)設(shè)置有抽水管（9），所述抽水管（9）另一端設(shè)置在水箱（10）內(nèi)側(cè)，所述第一水泵（8）左側(cè)設(shè)置有第一連接管（4），所述第一連接管（4）為三通管道，第一連接管（4）一端與第一水泵（8）固定連接，第一連接管（4）另外兩端分別設(shè)置在研磨盤（7）左右兩側(cè)，研磨盤（7）兩側(cè)的第一連接管（4）底部設(shè)置有噴嘴（5），所述噴嘴（5）下側(cè)設(shè)置有排水管（15），所述排水管（15）底部設(shè)置有彎管（14），所述彎管（14）右側(cè)設(shè)置有第二連接管（13），所述第二連接管（13）右側(cè)設(shè)置有第二水泵（12），所述第二水泵（12）與固定座（34）螺栓連接，所述第二水泵（12）右側(cè)設(shè)置有進(jìn)水管（11），所述進(jìn)水管（11）另一端與水箱（10）固定連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶清洗功能的半導(dǎo)體晶圓研磨裝置，其特征在于，所述彎管（14）內(nèi)部設(shè)置有若干活性炭顆粒。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的帶清洗功能的半導(dǎo)體晶圓研磨裝置，其特征在于，所述滑塊（25）頂部和壓板（23）內(nèi)側(cè)均設(shè)置有橡膠層。