[發明專利]一種多晶硅片生產裝置

有效

• 申請號: 201811595887.8
• 申請日: 2018-12-26
• 公開（公告）號: CN109731819B
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發明（設計）人: 顧雨彤;林繼承;吳國秋
• 申請（專利權）人: 中環艾能（高郵）能源科技有限公司
• 主分類號: B08B1/02
• 分類號: B08B1/02;B08B3/04;B08B3/10;F26B5/16;B08B1/00
• 代理公司: 廣州天河萬研知識產權代理事務所(普通合伙) 44418
• 代理人: 劉強;陳軒

本發明涉及硅片生產領域，具體的說是一種多晶硅片生產裝置，包括支撐臺、儲存機構、清洗機構、驅動機構、除雜機構、固定機構和接水盤；儲存機構的內部居中處安裝清洗機構，且儲存機構的側壁安裝驅動機構，驅動機構轉動連接清除機構，當清洗多晶硅片時，打開驅動機構，驅動機構帶動清洗機構轉動，將多晶硅片放入儲存機構的內部，清洗機構轉動和儲存機構內部的純凈水與多晶硅片接觸，將多晶硅片的表面灰塵擦凈，清洗方便，且滑動或轉動多晶硅片即可將多晶硅片清洗干凈，從而加快多晶硅片的清洗效率；當將多晶硅片清洗干凈后，將多晶硅片放入兩個除雜機構之間，多晶硅片在兩個除雜機構之間滑動，使除雜機構將多晶硅片表面的水擦拭干凈。

技術領域

本發明涉及硅片生產領域，具體的說是一種多晶硅片生產裝置。

背景技術

多晶硅片，是單質硅的一種形態。熔融的單質硅在過冷條件下凝固時，硅原子以金剛石晶格形態排列成許多晶核，如這些晶核長成晶面取向不同的晶粒，則這些晶粒結合起來，就結晶成多晶硅。

在生產多晶硅片的過程中，多晶硅片的表面易沾染一些灰塵，人們大部分采用手工清理，人們勞動強度大，且清洗效率低。鑒于此，本發明提供一種多晶硅片生產裝置，具有以下特點：

(1)本發明所述的一種多晶硅片生產裝置，儲存機構的內部居中處安裝清洗機構，且儲存機構的側壁安裝驅動機構，驅動機構轉動連接清除機構，當清洗多晶硅片時，打開驅動機構，驅動機構帶動清洗機構在儲存機構的內部轉動，將多晶硅片放入儲存機構的內部，清洗機構轉動帶動儲存機構內部的純凈水運動均勻的與多晶硅片接觸，且所述清洗機構轉動與多晶硅片接觸，將多晶硅片的表面灰塵擦凈，清洗方便，且滑動或轉動多晶硅片即可將多晶硅片清洗干凈，從而加快多晶硅片的清洗效率。

(2)本發明所述的一種多晶硅片生產裝置，支撐臺的頂面安裝固定機構，固定機構的側壁對稱轉動連接除雜機構，當將多晶硅片清洗干凈后，將多晶硅片放入兩個除雜機構之間，多晶硅片在兩個除雜機構之間滑動，使除雜機構將多晶硅片表面的水擦拭干凈，避免多晶硅片的表面殘余水垢。

發明內容

針對現有技術中的問題，本發明提供了一種多晶硅片生產裝置，儲存機構的內部居中處安裝清洗機構，且儲存機構的側壁安裝驅動機構，驅動機構轉動連接清除機構，當清洗多晶硅片時，打開驅動機構，驅動機構帶動清洗機構在儲存機構的內部轉動，將多晶硅片放入儲存機構的內部，清洗機構轉動帶動儲存機構內部的純凈水運動均勻的與多晶硅片接觸，且所述清洗機構轉動與多晶硅片接觸，將多晶硅片的表面灰塵擦凈，清洗方便，且滑動或轉動多晶硅片即可將多晶硅片清洗干凈，從而加快多晶硅片的清洗效率，支撐臺的頂面安裝固定機構，固定機構的側壁對稱轉動連接除雜機構，當將多晶硅片清洗干凈后，將多晶硅片放入兩個除雜機構之間，多晶硅片在兩個除雜機構之間滑動，使除雜機構將多晶硅片表面的水擦拭干凈，避免多晶硅片的表面殘余水垢。

本發明解決其技術問題所采用的技術方案是：一種多晶硅片生產裝置，包括支撐臺、儲存機構、清洗機構、驅動機構、除雜機構、固定機構和接水盤；所述支撐臺的頂面安裝所述儲存機構，所述儲存機構的內部轉動連接所述清洗機構；所述儲存機構的側壁安裝所述驅動機構，且所述驅動機構與所述清洗機構轉動連接；所述支撐臺的頂面一端固定連接所述固定機構，且所述固定機構的側壁轉動連接所述除雜機構；所述支撐臺的頂面安裝所述接水盤，且所述接水盤的兩端抵觸所述固定機構。

具體的，所述儲存機構包括閥門和箱體，所述箱體固定于所述支撐臺頂面的一端，所述箱體的底端呈漏斗形，且所述箱體的底端側壁安裝所述閥門。

具體的，所述清洗機構包括毛刷、轉軸和濾網，所述箱體的內部安裝多個所述濾網，相鄰的所述濾網之間安裝所述轉軸，且所述轉軸與所述箱體的內部轉動連接；所述轉軸的側壁等距安裝所述毛刷，所述毛刷與所述濾網的側壁轉動連接，且所述轉軸的最頂端與所述濾網的頂面齊平。