[發明專利]氣體溶解液制造裝置及氣體溶解液的制造方法

有效

• 申請號: 201811585934.0
• 申請日: 2018-12-24
• 公開（公告）號: CN109954414B
• 公開（公告）日: 2022-10-04
• 發明（設計）人: 中川洋一;小澤卓;渡邊敏史;徐濤
• 申請（專利權）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: B01F23/23
• 分類號: B01F23/23;B01F35/21
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 肖華

本發明提供氣體溶解液制造裝置及氣體溶解液的制造方法。氣體溶解液制造裝置(1)具備氣體供給部(2)、第一液體供給部(3)、氣體溶解液生成部(4)、第二液體生成部(20)、第二液體供給部(21)、流量測定部(14)、以及控制部(23)。控制部(23)根據在流量測定部(14)測定的循環的氣體溶解液的流量，對供給到氣體溶解液生成部(4)的第一液體的供給量進行控制。氣體溶解液生成部(4)使從氣體供給部(2)供給的氣體溶解于從第一液體供給部(3)供給的第一液體和從第二液體供給部(21)供給的第二液體，從而生成氣體溶解液。

技術領域

本發明涉及對循環后的氣體溶解液進行再利用來制造氣體溶解液的氣體溶解液制造裝置。

背景技術

近年，伴隨制造過程的復雜化、電路圖案的微細化，半導體器件、液晶等電子部件的制造工廠的清洗方法越來越高度集成。一般地，硅片的清洗中，使用將高純度的氣體溶解于被稱為功能水的液體(例如超純水)而得到的特殊的清洗液(氣體溶解水)，除去附著于硅片的微粒子、金屬污染、有機污染等。

用于清洗的氣體溶解液在氣體溶解水制造裝置制造并被供給到清洗裝置(使用點)。通常，用于清洗的氣體溶解水從清洗裝置排出，但是希望回收該排出的氣體溶解水并進行再利用。因此以往，提出了一種裝置，將從清洗裝置排出的氣體溶解水含有的溶解氣體回收并進行再利用(例如參照專利文獻1)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2007-275744號公報

發明要解決的問題

但是，在以往的裝置中，幾乎沒有考慮在使用點的氣體溶解水的使用量產生變化。例如，在以往的裝置中，即使當在使用點的氣體溶解水的使用量減少，從氣體溶解水制造裝置供給的氣體溶解水的供給量也不改變。以往，從排水管等廢棄剩余部分的氣體溶解水。

發明內容

本發明鑒于上述的問題而作出，其目的在于提供一種氣體溶解液制造裝置，能夠再利用循環的氣體溶解液，并且能夠不廢棄剩余部分的氣體溶解水。

用于解決問題的手段

本發明的氣體溶解液制造裝置具備：氣體供給部，該氣體供給部供給作為氣體溶解液的原料的氣體；第一液體供給部，該第一液體供給部供給作為所述氣體溶解液的原料的第一液體；氣體溶解液生成部，該氣體溶解液生成部使從所述氣體供給部供給的氣體溶解于從所述第一液體供給部供給的第一液體，從而生成氣體溶解液：第二液體生成部，該第二液體生成部循環并供給有在所述氣體溶解液生成部生成的氣體溶解液，從循環的所述氣體溶解液中生成作為所述氣體溶解液的原料的第二液體；第二液體供給部，該第二液體供給部將在所述第二液體生成部生成的所述第二液體供給到所述氣體溶解液生成部；流量測定部，該流量測定部對供給到所述第二液體生成部并循環的所述氣體溶解液的流量進行測定；以及控制部，該控制部對所述第一液體供給部和所述第二液體供給部進行控制，所述控制部根據在所述流量測定部測定的循環的所述氣體溶解液的流量，對供給到所述氣體溶解液生成部的所述第一液體的供給量進行控制，所述氣體溶解液生成部使從所述氣體供給部供給的氣體溶解于從所述第一液體供給部供給的所述第一液體和從所述第二液體供給部供給的所述第二液體，從而生成所述氣體溶解液。