[發(fā)明專利]一種堿性化學(xué)鎳自動分析添加系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811582023.2 | 申請日： | 2018-12-24 |
| 公開（公告）號： | CN111349916A | 公開（公告）日： | 2020-06-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王建軍;吳義群 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海樸維自控科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C18/34 | 分類號： | C23C18/34 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 200000 上海市閔*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 堿性 化學(xué) 自動 分析 添加 系統(tǒng) | ||
1.一種堿性化學(xué)鎳自動分析添加系統(tǒng)，其特征在于，包括堿性化鎳槽(1)和硫酸容器(2)，其中，所述堿性化鎳槽(1)連通至取樣滴定泵(3)，所述取樣滴定泵(3)通過第一計量光電(10)連通至反應(yīng)皿(8)，其中，
所述反應(yīng)皿(8)的底部安裝有攪拌電機(9)，用于對反應(yīng)皿(8)進行攪拌；
所述反應(yīng)皿(8)連通至鎳表循環(huán)泵(5)；
所述鎳表循環(huán)泵(5)連通至鎳探頭(7)；
所述硫酸容器(2)連通至硫酸滴定泵(4)，所述硫酸滴定泵(4)通過第二計量光電(11)連通至所述反應(yīng)皿(8)；
所述鎳探頭(7)連通至所述反應(yīng)皿(8)和控制箱(12)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種堿性化學(xué)鎳自動分析添加系統(tǒng)，其特征在于，所述控制箱(12)內(nèi)包括數(shù)據(jù)交換口(13)和PLC控制器(14)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種堿性化學(xué)鎳自動分析添加系統(tǒng)，其特征在于，所述鎳表循環(huán)泵(5)連通至排廢泵(6)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種堿性化學(xué)鎳自動分析添加系統(tǒng)，其特征在于，所述數(shù)據(jù)交換口(13)為HDMI接口。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應(yīng)產(chǎn)物的化學(xué)鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法，例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法，例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍，即無電流化學(xué)鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預(yù)處理
