[發明專利]一種多芯片扇出型結構的封裝方法及其結構在審
| 申請號: | 201811580860.1 | 申請日: | 2018-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN109686697A | 公開(公告)日: | 2019-04-26 |
| 發明(設計)人: | 張愛兵;李楊;高娜燕;吉勇;明雪飛 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第五十八研究所 |
| 主分類號: | H01L21/768 | 分類號: | H01L21/768;H01L23/538;H01L25/04 |
| 代理公司: | 無錫派爾特知識產權代理事務所(普通合伙) 32340 | 代理人: | 楊立秋 |
| 地址: | 214000 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 支撐架 晶圓載體 布線層 金屬凸塊 熱剝離膜 再鈍化層 鈍化層 多芯片 扇出型 包覆 載具 封裝 半導體封裝技術 邊緣區域 底部表面 頂部表面 焊球凸點 再布線層 中間區域 鏤空 包覆膜 封裝體 芯片包 倒裝 去除 通孔 裝片 開口 芯片 生長 | ||
本發明公開一種多芯片扇出型結構的封裝方法及其結構,屬于半導體封裝技術領域。包括如下步驟:首先,提供支撐架,所述支撐架的中間區域為鏤空,邊緣區域存在通孔;將支撐架與A芯片分次裝片至帶有熱剝離膜的載具上;用包覆膜將支撐架與A芯片包覆,并去除熱剝離膜和載具,形成新的晶圓載體;在新的晶圓載體的底部表面形成鈍化層和布線層;將帶有金屬凸塊的B芯片倒裝到所述布線層上;通過包覆料對B芯片、金屬凸塊和布線層進行包覆保護;在新的晶圓載體頂部表面依次形成鈍化層、再布線層、再鈍化層;在再鈍化層的開口上方生長焊球凸點,生成最終的封裝體。
技術領域
本發明涉及半導體封裝技術領域,特別涉及一種多芯片扇出型結構的封裝方法及其結構。
背景技術
隨著電子技術的發展,半導體封裝趨于向高密度、多功能、低功耗、小型化的方向發展。為了滿足產品愈加復雜的系統功能,多芯片互聯集成的封裝技術得到了較快的發展。目前主流的多芯片封裝方案有如下兩種:
一、采用SIP封裝方案:如圖1(a)所示,將若干個芯片103進行水平并排分布,芯片103通過凸塊焊接至基板101;或者,如圖1(b)所示,將若干個芯片103進行垂直堆疊排布,底層的芯片103通過凸塊焊接至基板101,其余的芯片103通過打線工藝連接至基板101。
結合圖1(a)和圖1(b),通過基板101的內部線路實現各個芯片之間的信號互聯,在芯片103與基板101間填充有包覆材料102,并對其通過塑封104進行保護,將此模塊整體最終焊接到印刷電路板,來實現產品的互聯集成。該方案中需要通過多層的布線轉接來實現芯片之間的互聯,且基板金屬層與介電層厚度較厚,會存在信號傳輸延遲的問題;且由于增加了基板來實現芯片間的互聯集成,封裝成本相對較高。
二、采用扇出型互聯方案:如圖2所示,將若干個芯片201進行水平并排分布,并使用包覆材料202將芯片201進行包覆形成新的晶圓載體,將此新的晶圓載體進行再布線和凸塊工藝,最終形成封裝體,可將此封裝體直接焊接到印刷電路板。由于省去了基板部分,相對方案一成本較低;且采用了晶圓級工藝,產品布線能力更強,芯片互聯路徑更短,具有更好的電學性能。但該方案仍存在如下問題:
a.芯片之間水平排布,芯片扇出區域較大,導致最終的封裝尺寸較大,每張晶圓封裝體的數量較少,一定程度增加了產品成本;
b.由于包覆料與芯片Si存在CTE不匹配的問題,包覆后形成的晶圓載體在后續的高溫工藝過程中會產生較大的翹曲,易導致芯片與包覆料之間存在分層、芯片crack等問題;且由于是單面布線,隨著布線層數的增加,圓片翹曲逐漸增大,設備及工藝無法保證正常作業,相應布線層數及能力受限較大;
c.由于封裝體中包覆材料的材料特性,形成的封裝體結構通常會存在強度不足的問題,在焊接到印刷電路板后,封裝體在熱循環可靠性試驗中焊球位置承受了較多的應力,易出現斷裂等情況,產品可靠性結果不佳;
d.包覆材料在成型液化過程中由于存在水平方向的流動,芯片會被包覆材料擠偏,導致后續的光刻等工藝存在對位難度。
發明內容
本發明的目的在于提供一種多芯片扇出型結構及其封裝方法,以解決現有的封裝方案成本較高、產品可靠性不佳的問題。
為解決上述技術問題,本發明提供一種多芯片扇出型結構的封裝方法,包括如下步驟:
步驟一、提供支撐架,所述支撐架的中間區域為鏤空,邊緣區域存在通孔;
步驟二、將支撐架與A芯片分次裝片至帶有熱剝離膜的載具上;
步驟三、用包覆膜將支撐架與A芯片包覆,并去除熱剝離膜和載具,形成新的晶圓載體;
步驟四、在新的晶圓載體的底部表面形成鈍化層和布線層;
步驟五、將帶有金屬凸塊的B芯片倒裝到所述布線層上;
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
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H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





