[發(fā)明專利]一種多芯片扇出型結(jié)構(gòu)的封裝方法及其結(jié)構(gòu)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811580860.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109686697A | 公開(公告)日: | 2019-04-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張愛兵;李楊;高娜燕;吉勇;明雪飛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第五十八研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L21/768 | 分類號(hào): | H01L21/768;H01L23/538;H01L25/04 |
| 代理公司: | 無錫派爾特知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32340 | 代理人: | 楊立秋 |
| 地址: | 214000 *** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 支撐架 晶圓載體 布線層 金屬凸塊 熱剝離膜 再鈍化層 鈍化層 多芯片 扇出型 包覆 載具 封裝 半導(dǎo)體封裝技術(shù) 邊緣區(qū)域 底部表面 頂部表面 焊球凸點(diǎn) 再布線層 中間區(qū)域 鏤空 包覆膜 封裝體 芯片包 倒裝 去除 通孔 裝片 開口 芯片 生長(zhǎng) | ||
1.一種多芯片扇出型結(jié)構(gòu)的封裝方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟一、提供支撐架(303),所述支撐架(303)的中間區(qū)域?yàn)殓U空,邊緣區(qū)域存在通孔;
步驟二、將支撐架(303)與A芯片(302A)分次裝片至帶有熱剝離膜(401)的載具(402)上;
步驟三、用包覆膜(301)將支撐架(303)與A芯片(302A)包覆,并去除熱剝離膜(401)和載具(402),形成新的晶圓載體;
步驟四、在新的晶圓載體的底部表面形成鈍化層(306)和布線層(307);
步驟五、將帶有金屬凸塊(308)的B芯片(302B)倒裝到所述布線層(307)上;
步驟六、通過包覆料(309)對(duì)B芯片(203B)、金屬凸塊(308)和布線層(307)進(jìn)行包覆保護(hù);
步驟七、在新的晶圓載體頂部表面依次形成鈍化層(310)、再布線層(311)、再鈍化層(312);
步驟八、在再鈍化層(312)的開口上方生長(zhǎng)焊球凸點(diǎn)(313),生成最終的封裝體。
2.如權(quán)利要求1所述的封裝方法,其特征在于,在新的晶圓載體的底部表面形成鈍化層(306)和布線層(307)之前,所述封裝方法還包括:
去除新的晶圓載體底部的包覆膜(301),直至露出支撐架(303)。
3.如權(quán)利要求1所述的封裝方法,其特征在于,所述支撐架(303)的厚度大于所述A芯片(302A)的厚度。
4.如權(quán)利要求1所述的封裝方法,其特征在于,所述支撐架(303)內(nèi)邊緣距離相鄰A芯片(302A)邊緣距離大于50um。
5.如權(quán)利要求1所述的封裝方法,其特征在于,所述A芯片(302A)的厚度為50~200um。
6.如權(quán)利要求1所述的封裝方法,其特征在于,所述支撐架(303)中通孔的側(cè)壁由絕緣材料(304)覆蓋,所述絕緣材料(304)為SMF或SiO2;通孔的中間區(qū)域填充有金屬材料(305)。
7.如權(quán)利要求6所述的封裝方法,其特征在于,所述金屬材料(305)的直徑最小為15um。
8.如權(quán)利要求1所述的封裝方法,其特征在于,所述金屬凸塊(308)的材料為Sn,或CuSn,或CuNiSn,或CuNiSnAg。
9.如權(quán)利要求1所述的封裝方法,其特征在于,所述包覆膜(301)的材料為模塑料;所述包覆料(309)的材料為模塑料,或模塑料與填充料的結(jié)合體。
10.一種根據(jù)權(quán)利要求1-9任一所述的封裝方法制備出的多芯片扇出型結(jié)構(gòu)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





