[發明專利]真空裝置、真空系統、設備制造裝置、設備制造系統以及設備的制造方法有效
| 申請號: | 201811571926.0 | 申請日: | 2018-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN110391151B | 公開(公告)日: | 2023-09-12 |
| 發明(設計)人: | 小林康信 | 申請(專利權)人: | 佳能特機株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54;C23C14/56 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 劉日華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空 裝置 系統 設備 制造 以及 方法 | ||
本發明的真空裝置是用于對多個處理空間進行排氣的真空裝置,包括:分別對所述多個處理空間中的任意一個進行排氣的多個泵部,和分別與所述多個泵部的至少一個連接、使泵動作的多個泵動作部,所述多個泵部的至少一個與互不相同的兩個以上的泵動作部連接,所述互不相同的兩個以上的泵動作部的至少一個與互不相同的兩個以上的泵部連接。
技術領域
本發明涉及包括泵和泵動作部的真空裝置。
背景技術
最近,作為平板顯示裝置,有機EL顯示裝置受到關注。有機EL顯示裝置是自發光顯示器,其響應速度、視場角、薄型化等特性優于液晶面板顯示器,在以監視器、電視、智能手機為代表的各種便攜式終端等領域以較快的速度代替現有的液晶面板顯示器。另外,在汽車用顯示器等方面也在擴大其應用領域。
有機EL顯示裝置的元件具有在兩個相對的電極(陰極電極、陽極電極)之間形成有引起發光的有機物層的基本構造。有機EL顯示元件的有機物層和電極金屬層通過在真空腔室內隔著形成有像素圖案的掩模在基板上蒸鍍蒸鍍物質來進行制造。
在有機EL顯示裝置的生產線中,除了進行有機物層和電極金屬層的蒸鍍的成膜室之外,為了將緩沖室、旋轉室、輸送室、掩模儲存腔室等腔室的內部空間維持為真空狀態還使用泵。特別是為了維持高真空狀態而使用低溫泵。
低溫泵是通過使腔室內的氣體分子凝結或吸附于超低溫面進行捕集而進行排氣的泵,包括用于維持超低溫面的制冷機。在低溫泵的制冷機上連接有用于壓縮制冷劑的壓縮機。
發明內容
發明所要解決的課題
在專利文獻1(日本特開公報第2000-9036號)中公開了一種將多個低溫泵連接于一個壓縮機的技術,但在壓縮機發生故障的情況下,存在所有的低溫泵不發揮作用,無法進行腔室內的排氣的問題。
本發明用于解決這樣的問題,其目的在于提供一種用于穩定地進行處理空間內的排氣的真空裝置、真空系統、使用了該真空系統的設備制造裝置、設備制造系統以及設備的制造方法。
用于解決課題的方案
本發明的第一方案的真空裝置,用于對多個處理空間進行排氣,其中,包括:分別對所述多個處理空間的任意一個進行排氣的多個泵部;分別與所述多個泵部的至少一個連接、使泵動作的多個泵動作部,所述多個泵部的至少一個與互不相同的兩個以上的泵動作部連接,所述互不相同的兩個以上的泵動作部的至少一個與互不相同的兩個以上的泵部連接。
本發明的第二方案的真空裝置,用于對多個處理空間進行排氣,其中,包括:分別對所述多個處理空間的任意一個進行排氣的多個泵;分別與所述多個泵的至少一個泵連接、使泵動作的多個泵動作部,用于對所述多個處理空間中的第一處理空間進行排氣的泵包括第一泵和第二泵,所述第一泵和所述第二泵的任意一個與所述多個泵動作部中的第一泵動作部連接,所述第一泵和所述第二泵中的另一個與第二泵動作部連接,用于對所述多個處理空間中的第二處理空間進行排氣的泵包括第三泵,所述第三泵與所述第二泵動作部連接。
本發明的第三方案的真空裝置,用于對多個處理空間進行排氣,其中,包括:分別對所述多個處理空間的任意一個進行排氣的多個泵;分別與所述多個泵的至少一個連接、使泵動作的多個泵動作部,用于對所述多個處理空間中的第一處理空間進行排氣的泵包括第一泵和第二泵,所述第一泵和所述第二泵的任意一個與所述多個泵動作部中的第一泵動作部連接,所述第一泵和所述第二泵中的另一個與第二泵動作部連接,用于對所述多個處理空間中的第二處理空間進行排氣的泵包括第三泵和第四泵,所述第三泵和所述第四泵的任意一個與所述第二泵動作部連接,所述第三泵和所述第四泵中的另一個與第三泵動作部連接。
本發明的第四方案的真空系統用于對多個處理空間進行排氣,其中,包括:本發明的第一方案至第三方案中的任一項所涉及的真空裝置;用于控制所述真空裝置的控制部。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





