[發(fā)明專利]濺射靶部件及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811569762.8 | 申請日: | 2018-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN110317053B | 公開(公告)日: | 2022-03-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 水藤耕介 | 申請(專利權(quán))人: | JX金屬株式會社 |
| 主分類號: | C04B35/457 | 分類號: | C04B35/457;C04B35/01;C04B35/622;C04B35/64;C23C14/34;C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京偉思知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11725 | 代理人: | 聶寧樂;胡瑾 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 濺射 部件 及其 制造 方法 | ||
本發(fā)明提供一種在含有高濃度的Ga的Ga-Sn-O系濺射靶部件中,降低體電阻率(等同于“體積電阻率”。)的有效方法。一種濺射靶部件,其含有Ga、Sn以及O,余量由不可避免的雜質(zhì)構(gòu)成,Ga以及Sn的原子比滿足0.33≤Ga/(Ga+Sn)≤0.75,粉末X射線衍射測量中的SnO2相的峰面積ISn與整體峰面積I之比ISn/I為0.02以上。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種Ga-Sn-O系濺射靶部件及其制造方法。
背景技術(shù)
以往,作為薄膜晶體管(TFT)的通道層所使用的半導(dǎo)體層,使用多晶硅膜以及非晶硅膜等硅系材料。然而,硅系材料在可見光區(qū)域發(fā)生吸收,因此存在光入射導(dǎo)致載體產(chǎn)生從而薄膜晶體管發(fā)生誤操作的問題。雖然設(shè)置了金屬等的光阻擋層作為預(yù)防對策,但是存在開口率降低的問題。另外,為了保證畫面亮度而需要背光燈的高亮度化,有消耗電力增大等缺點。
因此,近年,代替硅系材料,進(jìn)行了使用透明氧化物半導(dǎo)體的薄膜晶體管的開發(fā)。作為其代表,有In-Ga-Zn-O系(IGZO)材料(專利文獻(xiàn)1)。然而,由于IGZO是多成分系,因此各原料粉的性質(zhì)和狀態(tài)、成分的配比以及燒結(jié)條件的最優(yōu)化難以進(jìn)行。因此,IGZO的性質(zhì)容易變化,濺射時產(chǎn)生結(jié)瘤以及異常放電成問題。另外,IGZO含有稀有金屬,故而成為成本上升的主要原因,另外,存在未來供應(yīng)不足之虞。
基于這樣的背景,對構(gòu)成元素少的Ga-Sn-O系(GTO)的氧化物靶進(jìn)行了研究(專利文獻(xiàn)2~3)。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:國際公開第2005/088726號
專利文獻(xiàn)2:國際公開第2010/018707號
專利文獻(xiàn)3:日本特開2013-40394號公報
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的技術(shù)問題
然而,在專利文獻(xiàn)2公開的氧化物燒結(jié)體中,為了提高燒結(jié)體的強(qiáng)度、降低體電阻,除了錫酸鎵化合物相以及氧化錫相以外,還需要分散從鋅、鋁、硅、銦、鍺、鈦、鈮、鉭、鎢、鉬以及銻中選擇的至少1種元素。而且,在專利文獻(xiàn)2中示出,在僅選用氧化鎵和氧化錫作為原料的情況下,如果氧化鎵濃度高,則體電阻升高到無法測量的程度(比較例1、4、6以及7)。
另外,專利文獻(xiàn)3中公開了,由鎵(Ga)、錫(Sn)、氧(O)以及不可避免的雜質(zhì)構(gòu)成的濺射用氧化物燒結(jié)體靶,但是要求Ga2O3的濃度為20mol%以下。專利文獻(xiàn)3中示出,在Ga2O3的濃度選用30mol%的情況下,體電阻率升高到無法測量的程度(比較例4以及5)。
如此,在含有高濃度的Ga的Ga-Sn-O系濺射靶部件中,沒有得到適于DC濺射的低體電阻率的濺射靶部件。本發(fā)明鑒于上述情況而創(chuàng)造,在一實施方式中,要解決的技術(shù)問題之一是提供一種在含有高濃度的Ga的Ga-Sn-O系濺射靶部件中,降低體電阻率(等同于“體積電阻率”。)的有效的方法。
解決技術(shù)問題的方法
本發(fā)明人,通過粉末XRD對含有高濃度的Ga的Ga-Sn-O系濺射靶部件的晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析發(fā)現(xiàn),觀察到較多的Ga和Sn的復(fù)合氧化物相,但是觀察到氧化錫相的生成量非常少。于是,基于該知識進(jìn)行深入研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn),在Ga-Sn-O系濺射靶部件中,如果降低Ga和Sn的復(fù)合氧化物相的比率并增高氧化錫相的比率,則即使整體組成相同,體積電阻率也必然降低。
本發(fā)明基于上述知識而完成,在下文中進(jìn)行示例。
[1]
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