[發明專利]一種發光二極管芯片及其制作方法在審
| 申請號: | 201811567405.8 | 申請日: | 2018-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN109786533A | 公開(公告)日: | 2019-05-21 |
| 發明(設計)人: | 尹靈峰;魏柏林;王江波 | 申請(專利權)人: | 華燦光電(浙江)有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/38 | 分類號: | H01L33/38;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
| 地址: | 322000 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 主干 焊盤 絕緣層 發光二極管芯片 方向延伸 半導體技術領域 依次層疊 襯底 減小 源層 遮擋 制作 發光 芯片 吸收 | ||
本發明公開了一種發光二極管芯片及其制作方法,屬于半導體技術領域。芯片包括襯底、N型半導體層、有源層、P型半導體層、N型電極、P型電極和絕緣層;P型電極包括焊盤部分、主干手指和多個分支手指,P型電極的焊盤部分和多個分支手指均設置在P型半導體層上,絕緣層和主干手指依次層疊在所述凹槽內的N型半導體層上,主干手指的一端與所述P型電極的焊盤部分連接,主干手指的另一端向遠離P型電極的焊盤部分的方向延伸,各個分支手指的一端分別與主干手指連接,各個分支手指的另一端向遠離主干手指的方向延伸。本發明可以減小P型半導體層上設置的手指部分的面積,減少P型電極遮擋和吸收的光線,提升LED芯片的發光亮度。
技術領域
本發明涉及半導體技術領域,特別涉及一種發光二極管芯片及其制作方法。
背景技術
發光二極管(英文:Light Emitting Diode,簡稱:LED)是一種能發光的半導體電子元件。芯片是LED的核心組件。
現有的LED芯片包括襯底、N型半導體層、有源層、P型半導體層、P型電極和N型電極,N型半導體層、有源層和P型半導體層依次層疊在襯底上,P型半導體層上設有延伸至N型半導體層的凹槽,N型電極設置在凹槽內的N型半導體層上,P型電極設置在P型半導體層上。
N型電極和P型電極均包括焊盤部分和手指部分。焊盤部分實現電流的注入。手指部分的一端與焊盤部分連接,手指部分的另一端向遠離焊盤部分的方向延伸,以使電流均勻注入N型半導體層或者P型半導體層。
在實現本發明的過程中,發明人發現現有技術至少存在以下問題:
P型電極的材料會遮擋和吸收有源層發出的光線,而P型電極的手指部分為了實現電流的均勻注入,會分布在整個P型半導體層上,遮擋和吸收的光線較多,對LED芯片的出光影響較大,導致LED芯片的發光亮度降低。
發明內容
本發明實施例提供了一種發光二極管芯片及其制作方法,能夠解決現有技術P型電極的手指部分遮擋和吸收的光線較多,導致LED芯片發光亮度降低的問題。所述技術方案如下:
一方面,本發明實施例提供了一種發光二極管芯片,所述發光二極管芯片包括襯底、N型半導體層、有源層、P型半導體層、N型電極、P型電極和絕緣層;所述N型半導體層、所述有源層和所述P型半導體層依次層疊在所述襯底上,所述P型半導體層上設有延伸至所述N型半導體層的凹槽;所述N型電極設置在所述凹槽內的N型半導體層上,所述N型電極包括焊盤部分和手指部分,所述手指部分的一端與所述N型電極的焊盤部分連接,所述手指部分的另一端向遠離所述N型電極的焊盤部分的方向延伸;所述P型電極包括焊盤部分、主干手指和多個分支手指,所述P型電極的焊盤部分和所述多個分支手指均設置在所述P型半導體層上,所述絕緣層和所述主干手指依次層疊在所述凹槽內的N型半導體層上,所述主干手指的一端與所述P型電極的焊盤部分連接,所述主干手指的另一端向遠離所述P型電極的焊盤部分的方向延伸,各個所述分支手指的一端分別與所述主干手指連接,各個所述分支手指的另一端向遠離所述主干手指的方向延伸。
可選地,所述主干手指與所述手指部分平行。
優選地,所述主干手指和所述手指部分之間的距離為1μm~20μm。
更優選地,所述手指部分與所述發光二極管芯片的邊緣之間的距離為1μm~50μm。
可選地,所述多個分支手指間隔設置在所述主干手指的同一側。
優選地,所述多個分支手指相互平行。
進一步地,相鄰兩個所述分支手指之間的距離為定值。
優選地,所述定值為20μm~200μm。
可選地,每個所述分支手指與所述分支手指和所述P型電極的焊盤部分之間的主干手指之間的夾角為鈍角。
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