[發明專利]一種發光二極管芯片及其制作方法在審
| 申請號: | 201811567405.8 | 申請日: | 2018-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN109786533A | 公開(公告)日: | 2019-05-21 |
| 發明(設計)人: | 尹靈峰;魏柏林;王江波 | 申請(專利權)人: | 華燦光電(浙江)有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/38 | 分類號: | H01L33/38;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
| 地址: | 322000 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 主干 焊盤 絕緣層 發光二極管芯片 方向延伸 半導體技術領域 依次層疊 襯底 減小 源層 遮擋 制作 發光 芯片 吸收 | ||
1.一種發光二極管芯片,其特征在于,所述發光二極管芯片包括襯底、N型半導體層、有源層、P型半導體層、N型電極、P型電極和絕緣層;所述N型半導體層、所述有源層和所述P型半導體層依次層疊在所述襯底上,所述P型半導體層上設有延伸至所述N型半導體層的凹槽;所述N型電極設置在所述凹槽內的N型半導體層上,所述N型電極包括焊盤部分和手指部分,所述手指部分的一端與所述N型電極的焊盤部分連接,所述手指部分的另一端向遠離所述N型電極的焊盤部分的方向延伸;所述P型電極包括焊盤部分、主干手指和多個分支手指,所述P型電極的焊盤部分和所述多個分支手指均設置在所述P型半導體層上,所述絕緣層和所述主干手指依次層疊在所述凹槽內的N型半導體層上,所述主干手指的一端與所述P型電極的焊盤部分連接,所述主干手指的另一端向遠離所述P型電極的焊盤部分的方向延伸,各個所述分支手指的一端分別與所述主干手指連接,各個所述分支手指的另一端向遠離所述主干手指的方向延伸。
2.根據權利要求1所述的發光二極管芯片,其特征在于,所述主干手指與所述手指部分平行。
3.根據權利要求2所述的發光二極管芯片,其特征在于,所述主干手指和所述手指部分之間的距離為1μm~20μm。
4.根據權利要求3所述的發光二極管芯片,其特征在于,所述手指部分與所述發光二極管芯片的邊緣之間的距離為1μm~50μm。
5.根據權利要求1~4任一項所述的發光二極管芯片,其特征在于,所述多個分支手指間隔設置在所述主干手指的同一側。
6.根據權利要求5所述的發光二極管芯片,其特征在于,所述多個分支手指相互平行。
7.根據權利要求6所述的發光二極管芯片,其特征在于,相鄰兩個所述分支手指之間的距離為定值。
8.根據權利要求7所述的發光二極管芯片,其特征在于,所述定值為20μm~200μm。
9.根據權利要求1~4任一項所述的發光二極管芯片,其特征在于,每個所述分支手指與所述分支手指和所述P型電極的焊盤部分之間的主干手指之間的夾角為鈍角。
10.一種發光二極管芯片的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:
在襯底上依次生長N型半導體層、有源層和P型半導體層;
在所述P型半導體層上開設延伸至所述N型半導體層的凹槽;
在所述凹槽內的N型半導體層上形成絕緣層;
在所述凹槽內的N型半導體層上設置N型電極,在所述P型半導體層和所述絕緣層上設置P型電極;所述N型電極包括焊盤部分和手指部分,所述手指部分的一端與所述N型電極的焊盤部分連接,所述手指部分的另一端向遠離所述N型電極的焊盤部分的方向延伸;所述P型電極包括焊盤部分、主干手指和多個分支手指,所述P型電極的焊盤部分和所述多個分支手指均設置在所述P型半導體層上,所述主干手指設置在所述絕緣層上,所述主干手指的一端與所述P型電極的焊盤部分連接,所述主干手指的另一端向遠離所述P型電極的焊盤部分的方向延伸,各個所述分支手指的一端分別與所述主干手指連接,各個所述分支手指的另一端向遠離所述主干手指的方向延伸。
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