[發明專利]成膜裝置

有效

• 申請號: 201811560346.1
• 申請日: 2018-12-20
• 公開（公告）號: CN110541147B
• 公開（公告）日: 2023-08-29
• 發明（設計）人: 市原正浩
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54;C23C14/52;H10K71/16
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 劉楊

1.一種蒸鍍裝置，其特征在于，

該蒸鍍裝置包括：

真空槽，在真空氣氛下進行對于被蒸鍍構件的蒸鍍工序；

支承部，配置在所述真空槽內，支承所述被蒸鍍構件；以及

蒸發源，與所述被蒸鍍構件的成膜面相向地配置在所述真空槽內，通過朝向所述被蒸鍍構件的成膜面噴射成膜材料而進行蒸鍍，

所述真空槽在與由所述支承部支承的所述被蒸鍍構件的成膜面相向的一側的壁上具有光學窗，

所述蒸發源在蒸鍍時沿著所述被蒸鍍構件的面內方向在由所述支承部支承的所述被蒸鍍構件與所述窗之間移動，

所述被蒸鍍構件以在鉛垂方向上立起的狀態配置在所述真空槽內，

所述蒸發源具有由噴射所述成膜材料的多個噴嘴在鉛垂方向上排列而成的噴嘴列，

所述蒸發源在與所述鉛垂方向正交的水平方向上，沿著所述被蒸鍍構件的面內方向在由所述支承部支承的所述被蒸鍍構件與所述窗之間移動，

所述支承部在所述真空槽內以各被蒸鍍構件的成膜面在同一面內朝向同一方向的方式在分離的多個位置支承多個被蒸鍍構件，

所述真空槽在與所述各被蒸鍍構件的成膜面相向的一側的壁上，在與支承所述各被蒸鍍構件的位置分別對應的區域具有多個所述窗，

所述蒸發源在所述真空槽內能夠在配置有所述各被蒸鍍構件的位置之間移動，

所述蒸發源被配置為，在配置有所述各被蒸鍍構件的各個位置，能夠在所述各被蒸鍍構件與對應的所述各窗之間移動。

2.一種蒸鍍裝置，其特征在于，

該蒸鍍裝置包括：

真空槽，在真空氣氛下進行對于被蒸鍍構件的蒸鍍工序；

支承部，配置在所述真空槽內，支承所述被蒸鍍構件；以及

蒸發源，與所述被蒸鍍構件的成膜面相向地配置在所述真空槽內，通過朝向所述被蒸鍍構件的成膜面噴射成膜材料而進行蒸鍍，

所述真空槽在與由所述支承部支承的所述被蒸鍍構件的成膜面相向的一側的壁上具有光學窗，

所述蒸發源在蒸鍍時沿著所述被蒸鍍構件的面內方向在由所述支承部支承的所述被蒸鍍構件與所述窗之間移動，

所述被蒸鍍構件以在鉛垂方向上立起的狀態配置在所述真空槽內，

所述蒸發源具有由噴射所述成膜材料的多個噴嘴在水平方向上沿著所述被蒸鍍構件的面內方向排列而成的噴嘴列，

所述蒸發源在與所述水平方向正交的鉛垂方向上，沿著所述被蒸鍍構件的面內方向在由所述支承部支承的所述被蒸鍍構件與所述窗之間移動，

所述支承部在所述真空槽內以各被蒸鍍構件的成膜面在同一面內朝向同一方向的方式在分離的多個位置支承多個被蒸鍍構件，

所述真空槽在與所述各被蒸鍍構件的成膜面相向的一側的壁上，在與支承所述各被蒸鍍構件的位置分別對應的區域具有多個所述窗，

所述蒸發源在所述真空槽內能夠在配置有所述各被蒸鍍構件的位置之間移動，

所述蒸發源被配置為，在配置有所述各被蒸鍍構件的各個位置，能夠在所述各被蒸鍍構件與對應的所述各窗之間移動。