[發(fā)明專(zhuān)利]一種連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線進(jìn)出口室充氣裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811537929.2
• 申請(qǐng)日: 2018-12-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109355636A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-02-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 舒逸;劉光斗;李贊
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 湖南玉豐真空科學(xué)技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/56
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/56
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

本發(fā)明公開(kāi)了一種連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線進(jìn)出口室充氣裝置，包括充氣管道、設(shè)置在充氣管道上的真空閥門(mén)、與真空閥門(mén)連接并伸入真空箱體的勻氣管，充氣管道上通過(guò)支管連接有預(yù)充真空閥門(mén)，預(yù)充真空閥門(mén)連接勻氣管并伸入真空箱體內(nèi)，所述預(yù)充真空閥門(mén)的口徑小于真空閥門(mén)，勻氣管安裝在真空箱體的頂部，在勻氣管下方、基片的上方設(shè)置有第一擋板，所述第一擋板與真空箱體壁間留有空隙，在基片的兩側(cè)靠近基片各設(shè)有第二擋板，所述第二擋板通過(guò)支撐桿固定在真空箱體的內(nèi)壁上，基片的上下端兩塊第二擋板之間留有空隙。采用本裝置充氣時(shí)，可減小氣體對(duì)基片的正面沖擊力度，從而不會(huì)對(duì)基片造成損傷，同時(shí)也可減小箱體內(nèi)部粉塵對(duì)基片的影響。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線進(jìn)出口室充氣裝置。

背景技術(shù)

在連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線中，進(jìn)出口室在使用狀態(tài)下是需要抽成真空狀態(tài)的，當(dāng)有玻璃需要進(jìn)入鍍膜線或者有玻璃完成鍍膜需要出貨的時(shí)候，需要對(duì)進(jìn)出口室需要充入空氣，充氣時(shí)，由于真空箱體內(nèi)氣壓差過(guò)大，在充氣過(guò)程中會(huì)對(duì)基片造成影響，使得基片產(chǎn)生晃動(dòng)從而容易對(duì)基片造成損傷甚至使基片從框架上面掉落形成碎片，導(dǎo)致碎片率增加。而采用較小的氣流充氣雖然不會(huì)導(dǎo)致上述問(wèn)題，但是又會(huì)造成充氣速度慢的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題，本發(fā)明提供一種連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線進(jìn)出口室充氣裝置，在充氣過(guò)程中減少氣體對(duì)基片的沖擊力度。

本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下：一種連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線進(jìn)出口室充氣裝置，包括充氣管道、設(shè)置在充氣管道上的真空閥門(mén)、與真空閥門(mén)連接并伸入真空箱體的勻氣管，充氣管道上通過(guò)支管連接有預(yù)充真空閥門(mén)，預(yù)充真空閥門(mén)連接勻氣管并伸入真空箱體內(nèi)，所述預(yù)充真空閥門(mén)的口徑小于真空閥門(mén)，勻氣管安裝在真空箱體的頂部，在勻氣管下方、基片的上方設(shè)置有第一擋板，所述第一擋板與真空箱體壁間留有空隙，在基片的兩側(cè)靠近基片各設(shè)有第二擋板，所述第二擋板通過(guò)支撐桿固定在真空箱體的內(nèi)壁上，基片的上下端兩塊第二擋板之間留有空隙。

進(jìn)一步地，所述第二擋板由上部擋板和下部擋板組成，下部擋板位于基片的中部以下，上部擋板與下部擋板之間留有空隙。

進(jìn)一步地，所述充氣管道的進(jìn)氣端連接有過(guò)濾器。

進(jìn)一步地，所述過(guò)濾器由中效過(guò)濾器和高效過(guò)濾器組成。

采用本裝置充氣時(shí)，先打開(kāi)預(yù)充真空閥門(mén)，對(duì)真空箱體內(nèi)充入一部分小流量氣體，可減小箱體內(nèi)壓差對(duì)基片的沖擊，充入幾秒鐘后再打開(kāi)真空閥門(mén)進(jìn)行大流量的充氣，氣體通過(guò)勻氣管進(jìn)入箱體內(nèi)，在第一擋板的引流作用下將氣體引到箱體兩側(cè)，沿側(cè)壁從上往下引入箱體下部，由于基片兩側(cè)的第二擋板的阻擋，同時(shí)由于兩側(cè)的第二擋板與基片的距離較小，使得進(jìn)入基片位置的氣體相對(duì)較少，這樣減小了對(duì)基片的正面沖擊力度，從而不會(huì)對(duì)基片造成損傷，各擋板不但起到了引導(dǎo)氣流方向的作用也起到了阻擋箱體內(nèi)部粉塵對(duì)基片影響的作用。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本發(fā)明的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為了便于理解本發(fā)明，下文將結(jié)合說(shuō)明書(shū)附圖和較佳的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作更全面、細(xì)致地描述，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不限于以下具體的實(shí)施例。