[發明專利]一種相變可控的全無機鈣鈦礦薄膜制備方法及器件應用有效
| 申請號: | 201811532568.2 | 申請日: | 2018-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN109355638B | 公開(公告)日: | 2021-08-24 |
| 發明(設計)人: | 徐偉龍;蔡小紅;陳海悅;鄭敏;肖進;趙宇;卞維柏 | 申請(專利權)人: | 常州工學院 |
| 主分類號: | C23C16/30 | 分類號: | C23C16/30;C23C16/52;H01L31/032;H01L31/09;H01L31/18 |
| 代理公司: | 常州西創專利代理事務所(普通合伙) 32472 | 代理人: | 武政 |
| 地址: | 213032 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 相變 可控 無機 鈣鈦礦 薄膜 制備 方法 器件 應用 | ||
1.一種相變可控的全無機鈣鈦礦薄膜制備方法,其特征在于,所述方法的具體步驟如下:
(1)將先驅物溴化鉛和溴化銫分別置于氣相沉積裝置內,將襯底置于沉積區,并對整個裝置抽真空;
(2)向氣相沉積裝置內通入惰性氣體;
(3)設定沉積溫度和沉積時間,沉積溫度選自500-800℃,不同沉積溫度下,鈣鈦礦薄膜的成分和晶型不同;
其中,在加熱時間60min,保持時間40min的情況下,當沉積溫度為500℃時,得到的鈣鈦礦基本為CsPb2Br5相;當沉積溫度為600℃、700℃時,得到的鈣鈦礦為CsPb2Br5-CsPbBr3雙相結構,并隨著溫度升高CsPbBr3相增多;當沉積溫度為750℃時,得到的鈣鈦礦基本為CsPbBr3相;當襯底溫度為800℃時 ,鈣鈦礦薄膜降解。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(1)中,抽真空至100Pa,并重復3次,以去除多余的氧氣和水蒸氣。
3.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(1)中,所述襯底材料為硅。
4.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(2)中,惰性氣體為氬氣,流量為80sccm。
5.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(3)中加熱程序為:從室溫加熱到設定的溫度時間為60min,然后保持時間為40min,停止加熱,冷卻到室溫。
6.一種鈣鈦礦光電器件制備方法,其特征在于,所述器件包括襯底和鈣鈦礦薄膜,所述襯底為叉指電極,所述鈣鈦礦薄膜通過如權利要求1-5中任意一項所述的制備方法制備。
7.根據權利要求6所述的鈣鈦礦光電器件制備方法,其特征在于,所述叉指電極為硅襯底,電極材料為金。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





