[發明專利]水處理裝置在審
| 申請號: | 201811532541.3 | 申請日: | 2018-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN110156110A | 公開(公告)日: | 2019-08-23 |
| 發明(設計)人: | 丹下智陽;大谷英彥;炭藏久和;山本尚生 | 申請(專利權)人: | 三浦工業株式會社 |
| 主分類號: | C02F1/32 | 分類號: | C02F1/32;C02F1/00;C02F9/08 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李婷;傅永霄 |
| 地址: | 日本愛媛*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 調整閥 凈化 水處理裝置 凈化處理 高壓狀態 低流量 可調整 水流通 水處理 開度 水壓 暴露 上游 流通 配置 | ||
1.一種凈化處理水的水處理裝置,其具備凈化手段、第一閥、以及第二閥,
所述凈化手段、所述第一閥及所述第二閥分別配置于凈化處理時使水流通的凈化線,
所述第一閥設于所述凈化手段的上游側,
所述第二閥設于所述凈化手段的下游側且是可調整開度的調整閥,
構成為由所述第一閥降低流通所述凈化手段的水壓。
2.根據權利要求1所述的水處理裝置,其特征在于,
具備控制手段,
所述第一閥也是可調整開度的調整閥,
所述控制手段構成為控制所述第一閥的開度。
3.根據權利要求2所述的水處理裝置,其特征在于,
進一步具備流量計以及壓力計,
所述流量計配置于所述凈化線上且測量流通所述凈化線的水流量,
所述壓力計配置于所述凈化線上且測量流通所述凈化線的水壓,
所述控制手段基于由所述流量計測量的水流量和由所述壓力計測量的壓力,控制所述第一閥及所述第二閥的開度。
4.根據權利要求3所述的水處理裝置,其特征在于,
所述控制手段是在所述第二閥的開度為恒定狀態下,控制所述第一閥的開度以使所述壓力的變動幅度變小。
5.根據權利要求4所述的水處理裝置,其特征在于,
所述控制手段調整所述第一閥及所述第二閥的開度,以使所述流量及所述壓力分別維持在規定范圍內。
6.一種處理水的水處理裝置,其具備過濾裝置、紫外線照射手段、第一管線~第五管線、第一閥~第五閥、壓力計、流量計、控制手段、上游側連接部、下游側連接部,
所述第一管線旁通所述過濾裝置及所述紫外線照射手段,
所述第二管線連接上游側連接部與所述過濾裝置,
所述第三管線連接所述過濾裝置與所述紫外線照射手段,
所述第四管線連接所述第一管線與所述第三管線,
所述第五管線連接所述紫外線照射手段與下游側連接部,
所述第一閥配置于所述第一管線,
所述第二閥配置于所述第二管線且是可調整開度的調整閥,
所述第三閥配置于所述第三管線的和所述第四管線的連接位置的上游側且是可調整開度的調整閥,
所述第四閥配置于所述第四管線且是可調整開度的調整閥,
所述第五閥配置于所述第五管線且是可調整開度的調整閥,
所述壓力計配置于所述第二管線,
所述控制手段對應所述壓力計及所述流量計的值調整所述第二閥~第五閥的開度的水處理裝置。
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