[發明專利]一種雙面往返連續真空鍍膜設備

在審

• 申請號: 201811519640.8
• 申請日: 2018-12-12
• 公開（公告）號: CN109402598A
• 公開（公告）日: 2019-03-01
• 發明（設計）人: 嚴佐毅;劉文卿
• 申請（專利權）人: 安徽金美新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 北京挺立專利事務所(普通合伙) 11265
• 代理人: 葉樹明

1.一種雙面往返連續真空鍍膜設備，其特征在于，包括真空腔體，所述真空腔體內設置有上收放卷機構、上傳送機構、下傳送機構及下收放卷機構；所述下收放卷機構及下傳送機構分別位于上收放卷機構及上傳送機構的下方，待鍍膜材料從上或下收放卷機構開始依次經過上或下傳送機構、下或上傳送機構后回到下或上收放卷機構；與所述上傳送機構及下傳送機構處的待鍍膜材料對應的位置處均設置有一套鍍膜裝置。

2.根據權利要求1所述的一種雙面往返連續真空鍍膜設備，其特征在于，所述上傳送機構及下傳送機構均包括一套皮帶輪組件，所述皮帶輪組件包括主動皮帶輪、傳動皮帶以及分別設置在所述主動皮帶輪兩側的兩個棘輪傳動件，所述主動皮帶輪與兩個棘輪傳動件通過傳動皮帶連接。

3.根據權利要求2所述的一種雙面往返連續真空鍍膜設備，其特征在于，所述棘輪傳動件包括棘輪、棘爪及壓縮彈簧，所述棘爪的自由端一側與棘輪的棘齒嚙合，所述棘爪的自由端另一側與壓縮彈簧連接。

4.根據權利要求3所述的一種雙面往返連續真空鍍膜設備，其特征在于，所述皮帶輪組件還包括冷卻主鼓及展平輥，所述冷卻主鼓與主動皮帶輪同軸連接；所述展平輥設置兩個，兩個展平輥分別與兩個棘輪同軸連接。

5.根據權利要求1-4中任一項所述的一種雙面往返連續真空鍍膜設備，其特征在于，所述真空鍍膜設備還包括至少一對過輥，所述至少一對過輥設置在上傳送機構與下傳送機構之間。

6.根據權利要求5所述的一種雙面往返連續真空鍍膜設備，其特征在于，所述真空鍍膜設備還包括等離子源清洗裝置，所述等離子源清洗裝置設置在待鍍膜材料的一側用于清洗待鍍膜材料。

7.根據權利要求1-4中任一項所述的一種雙面往返連續真空鍍膜設備，其特征在于，所述鍍膜裝置為電阻蒸發裝置、中頻感應坩堝蒸發裝置、磁控濺射裝置、電子槍式裝置中的一種。