[發(fā)明專利]一種雙面往返連續(xù)真空鍍膜設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811519640.8 | 申請日: | 2018-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN109402598A | 公開(公告)日: | 2019-03-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 嚴(yán)佐毅;劉文卿 | 申請(專利權(quán))人: | 安徽金美新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56 |
| 代理公司: | 北京挺立專利事務(wù)所(普通合伙) 11265 | 代理人: | 葉樹明 |
| 地址: | 232200 安徽省淮南市壽縣新橋國際*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 傳送機(jī)構(gòu) 收放卷機(jī)構(gòu) 連續(xù)真空鍍膜 鍍膜材料 鍍膜裝置 真空腔 往返 體內(nèi) 工作效率 真空腔體 位置處 鍍膜 | ||
本發(fā)明公開了一種雙面往返連續(xù)真空鍍膜設(shè)備,包括真空腔體,所述真空腔體內(nèi)設(shè)置有上收放卷機(jī)構(gòu)、上傳送機(jī)構(gòu)、下傳送機(jī)構(gòu)及下收放卷機(jī)構(gòu);所述下收放卷機(jī)構(gòu)及下傳送機(jī)構(gòu)分別位于上收放卷機(jī)構(gòu)及上傳送機(jī)構(gòu)的下方,待鍍膜材料從上或下收放卷機(jī)構(gòu)開始依次經(jīng)過上或下傳送機(jī)構(gòu)、下或上傳送機(jī)構(gòu)后回到下或上收放卷機(jī)構(gòu);與所述上傳送機(jī)構(gòu)及下傳送機(jī)構(gòu)處的待鍍膜材料對應(yīng)的位置處均設(shè)置有一套鍍膜裝置。本發(fā)明通過設(shè)置上下兩個收放卷機(jī)構(gòu)以及上下兩個鍍膜裝置,能夠在真空腔體內(nèi)實(shí)現(xiàn)連續(xù)往返鍍膜,極大地提高了工作效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種雙面往返連續(xù)真空鍍膜設(shè)備。
背景技術(shù)
出于柔性導(dǎo)電和屏蔽材料的應(yīng)用需要,為了能夠?qū)鼙〉谋∧ゅ冚^厚的金屬導(dǎo)電層,需要開發(fā)一種特殊的設(shè)備機(jī)構(gòu)。所謂很薄的薄膜一般厚度為2~12μm,材料一般為PP、PE、PET、PI薄膜和聚酯纖維布、紙張等;所謂較厚的金屬層從200~2000nm不等,金屬層材料一般為導(dǎo)電和屏蔽材料,如鎳、鋁、銅、鉛、銀、金以及合金材料等。要想在薄膜表面獲得對應(yīng)厚度的金屬導(dǎo)電層,其最大的難度是沉積效率,一般情況下,受薄膜耐熱性能的影響,金屬在薄膜表面的單次沉積厚度一般為5~100nm,要想獲得200~2000nm厚度的金屬導(dǎo)電層,就需要使用多次沉積的方法實(shí)現(xiàn)。而薄膜導(dǎo)電層的沉積一般是在真空條件下進(jìn)行,如果真空設(shè)備不能往返鍍膜,則每次沉積一層金屬層之后都需要開倉,將需要沉積金屬層的薄膜卷料進(jìn)行收放卷換卷,這樣操作每次都需要抽放真空,真空設(shè)備運(yùn)行效率很低,如果能夠在真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)往返連續(xù)鍍膜,則真空鍍膜的效率將大大提高。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種雙面往返連續(xù)真空鍍膜設(shè)備,解決現(xiàn)有技術(shù)中的真空鍍膜設(shè)備無法往返連續(xù)鍍膜、效率較低的問題。
本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是:
一種雙面往返連續(xù)真空鍍膜設(shè)備,包括真空腔體,所述真空腔體內(nèi)設(shè)置有上收放卷機(jī)構(gòu)、上傳送機(jī)構(gòu)、下傳送機(jī)構(gòu)及下收放卷機(jī)構(gòu);所述下收放卷機(jī)構(gòu)及下傳送機(jī)構(gòu)分別位于上收放卷機(jī)構(gòu)及上傳送機(jī)構(gòu)的下方,待鍍膜材料從上或下收放卷機(jī)構(gòu)開始依次經(jīng)過上或下傳送機(jī)構(gòu)、下或上傳送機(jī)構(gòu)后回到下或上收放卷機(jī)構(gòu);與所述上傳送機(jī)構(gòu)及下傳送機(jī)構(gòu)處的待鍍膜材料對應(yīng)的位置處均設(shè)置有一套鍍膜裝置。
本發(fā)明的特點(diǎn)還在于:
所述上傳送機(jī)構(gòu)及下傳送機(jī)構(gòu)均包括一套皮帶輪組件,所述皮帶輪組件包括主動皮帶輪、傳動皮帶以及分別設(shè)置在所述主動皮帶輪兩側(cè)的兩個棘輪傳動件,所述主動皮帶輪與兩個棘輪傳動件通過傳動皮帶連接。
所述棘輪傳動件包括棘輪、棘爪及壓縮彈簧,所述棘爪的自由端一側(cè)與棘輪的棘齒嚙合,所述棘爪的自由端另一側(cè)與壓縮彈簧連接。
所述皮帶輪組件還包括冷卻主鼓及展平輥,所述冷卻主鼓與主動皮帶輪同軸連接;所述展平輥設(shè)置兩個,兩個展平輥分別與兩個棘輪同軸連接。
所述真空鍍膜設(shè)備還包括至少一對過輥,所述至少一對過輥設(shè)置在上傳送機(jī)構(gòu)與下傳送機(jī)構(gòu)之間。
所述真空鍍膜設(shè)備還包括等離子源清洗裝置,所述等離子源清洗裝置設(shè)置在待鍍膜材料的一側(cè)用于清洗待鍍膜材料。
所述鍍膜裝置為電阻蒸發(fā)裝置、中頻感應(yīng)坩堝蒸發(fā)裝置、磁控濺射裝置、電子槍式裝置中的一種。
本發(fā)明的有益效果是:
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的一種雙面往返連續(xù)真空鍍膜設(shè)備,通過設(shè)置上下兩個收放卷機(jī)構(gòu)以及上下兩個鍍膜裝置,能夠在真空腔體內(nèi)實(shí)現(xiàn)連續(xù)往返鍍膜,極大地提高了工作效率。
附圖說明
圖1為本發(fā)明一種雙面往返連續(xù)真空鍍膜設(shè)備的整體結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明一種雙面往返連續(xù)真空鍍膜設(shè)備中皮帶輪組件的結(jié)構(gòu)示意圖一;
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





