[發(fā)明專利]用于硅片制作的點(diǎn)膠方法、粘接板、晶托在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811512111.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111300673A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-06-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱延松;陸建虎;張開(kāi)增;周化吉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 楚雄隆基硅材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | B28D7/00 | 分類號(hào): | B28D7/00;B28D7/04;B28D5/04 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304 | 代理人: | 孫偉峰;陽(yáng)志全 |
| 地址: | 651200 云南*** | 國(guó)省代碼: | 云南;53 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 硅片 制作 方法 粘接板 | ||
1.一種用于硅片制作的點(diǎn)膠方法,其特征在于,包括步驟:
S01、提供待點(diǎn)膠的襯底,所述襯底包括相對(duì)設(shè)置的第一側(cè)邊線(M)和第二側(cè)邊線(N);
S02、在襯底上依次涂布多條點(diǎn)膠段(L)形成點(diǎn)膠圖案(L0),直至點(diǎn)膠圖案(L0)的起點(diǎn)與終點(diǎn)在所述第一側(cè)邊線(M)的長(zhǎng)度方向上間隔預(yù)定距離;
所述點(diǎn)膠圖案(L0)中,每條點(diǎn)膠段(L)的起點(diǎn)靠近第一側(cè)邊線(M)或第二側(cè)邊線(N)、終點(diǎn)靠近第二側(cè)邊線(N)或第一側(cè)邊線(M),且前一個(gè)點(diǎn)膠段(L)的終點(diǎn)為后一個(gè)點(diǎn)膠段(L)的起點(diǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于硅片制作的點(diǎn)膠方法,其特征在于,還包括步驟:
S03、在所述點(diǎn)膠圖案(L0)的起點(diǎn)或終點(diǎn)附近選定一新的點(diǎn)作為點(diǎn)膠起點(diǎn)(A0),形成另一個(gè)點(diǎn)膠圖案(L0),直至點(diǎn)膠圖案(L0)的終點(diǎn)臨近所述襯底的端部邊線。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于硅片制作的點(diǎn)膠方法,其特征在于,所述點(diǎn)膠圖案(L0)中,在所述第一側(cè)邊線(M)的長(zhǎng)度方向上位于所述點(diǎn)膠圖案(L0)兩端的所述點(diǎn)膠段(L)的排布密度大于位于所述點(diǎn)膠圖案(L0)中部的所述點(diǎn)膠段(L)的排布密度。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于硅片制作的點(diǎn)膠方法,其特征在于,所述點(diǎn)膠圖案(L0)中,在所述第一側(cè)邊線(M)的長(zhǎng)度方向上越靠近所述點(diǎn)膠圖案(L0)的兩端,所述點(diǎn)膠段(L)的排布密度越大。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于硅片制作的點(diǎn)膠方法,其特征在于,所述點(diǎn)膠段(L)呈直線。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于硅片制作的點(diǎn)膠方法,其特征在于,所述點(diǎn)膠圖案(L0)的第一個(gè)點(diǎn)膠段(L)平行于襯底的端部邊線。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于硅片制作的點(diǎn)膠方法,其特征在于,至少一條所述點(diǎn)膠段(L)呈弧線。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于硅片制作的點(diǎn)膠方法,其特征在于,所述點(diǎn)膠圖案(L0)中,在所述第一側(cè)邊線(M)的長(zhǎng)度方向上相鄰的兩個(gè)起點(diǎn)或終點(diǎn)的距離不小于10mm、且不大于80mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于硅片制作的點(diǎn)膠方法,其特征在于,所述點(diǎn)膠圖案(L0)中,相鄰的兩個(gè)起點(diǎn)或終點(diǎn)在所述第一側(cè)邊線(M)的長(zhǎng)度方向上的距離為60±20mm、30±10mm、15±5mm中的一種。
10.一種粘接板,其特征在于,所述粘接板的一個(gè)表面具有采用權(quán)利要求1-9任一所述的用于硅片制作的點(diǎn)膠方法制作形成的膠線層,所述膠線層包括至少一個(gè)點(diǎn)膠圖案(L0)。
11.一種晶托,其特征在于,所述晶托的一個(gè)表面具有采用權(quán)利要求1-9任一所述的用于硅片制作的點(diǎn)膠方法制作形成的膠線層,所述膠線層包括至少一個(gè)點(diǎn)膠圖案(L0)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于楚雄隆基硅材料有限公司,未經(jīng)楚雄隆基硅材料有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811512111.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





