[發明專利]消除擾流的液氣分離式涂布機結構

在審

• 申請號: 201811511123.6
• 申請日: 2018-12-11
• 公開（公告）號: CN111299070A
• 公開（公告）日: 2020-06-19
• 發明（設計）人: 陳茂全;蘇啟郎;廖崇文
• 申請（專利權）人: 聚昌科技股份有限公司
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05C11/10
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張琳

本發明為一種消除擾流的液氣分離式涂布機結構，其包括：杯體，其為杯底部及環繞杯壁，又杯底部包括：第一凹部，其由環繞杯壁、第一環繞內壁、及第一底部所形成，又第一底部與液體回收管相連通；及第二凹部，其由第一環繞內壁、第二環繞內壁、及第二底部所形成，又第二底部與至少一個排氣管相連通；涂布模塊，其包括：旋轉驅動單元，其具有旋轉軸心；至少一個升降驅動單元；及載盤；第一杯罩；以及第二杯罩。藉由本發明的實施，可以達成消除沉流氣體的擾流并使氣體壓力均勻分布的功效。

技術領域

本發明為一種消除擾流的液氣分離式涂布機結構，特別為一種應用半導體晶圓片進行光阻劑…等涂布部的消除擾流的液氣分離式涂布機結構。

背景技術

如美國專利US5,962,193所示，其揭露了一種用于通過提供可調節殼體來控制液體涂布設備中的空氣流動的方法和設備，所述可調節殼體包括上隔室和下隔室，使得可以調節容納在其中腔室的高度。隨后，可以適當地調節待涂覆的基材和上隔室的內壁之間的間隔，以允許所需量的空氣流過?？梢苑乐乖谛窟^程中從基板表面拋出的液體涂層顆粒再沉積，然后從上隔室的內壁反彈回到基板表面上。

如US6,165,267所示，揭露了一種比現有的旋涂設備需要更少的潔凈室空氣流的旋轉涂布設備，以使潔凈室污染最小化。當潔凈室空氣流的需求降低時，旋轉涂布機成形的排氣管維持了制程質量。排氣管可以降低從晶圓片所延伸的擾流并最小化氣流漩渦的形成。排氣管道可以符合夾帶流線，以使渦流的形成最小化，并在最小的潔凈室空氣流速下減少過程間污染，在最小潔凈室空氣流量下減少過程間污染。

發明內容

本發明為一種消除擾流的液氣分離式涂布機結構，其主要是要解決半導體晶圓片進行光阻劑涂布時，因為下降氣流的擾流及氣體壓力不均勻造成涂布不佳，以致影響后續半導體組件制作質量不佳的問題。

本發明的目的是采用以下技術方案來實現的。

本發明提供一種消除擾流的液氣分離式涂布機結構，其包括：杯體，其為杯底部及由杯底部端部向上延伸的環繞杯壁所形成，其中杯底部包括：第一凹部，其是由環繞杯壁、位于環繞杯壁內側的第一環繞內壁、及連接于環繞杯壁底部及第一環繞內壁底部的第一底部所形成，又第一底部與液體回收管相連通；及第二凹部，其是由第一環繞內壁、位于第一環繞內壁內側的第二環繞內壁、及連接于第一環繞內壁底部及第二環繞內壁底部的第二底部所形成，又第二底部與至少一個排氣管相連通；涂布模塊，其包括：旋轉驅動單元，其具有旋轉軸心，又旋轉軸心貫穿第二環繞內壁所形成的中央穿孔；至少一個升降驅動單元，其驅動旋轉驅動單元進行升降動作；及載盤，結合于旋轉軸心的頂部，又載盤用以承載待涂布件；第一杯罩，其具有第一開口，第一杯罩的端部與環繞杯壁結合為一體；以及第二杯罩，其具有第二開口，第二杯罩位于第二開口側的端部結合于第二環繞內壁上，又第二杯罩跨越第一環繞內壁后形成于環繞杯壁與第一環繞內壁間；其中第一底部的位置低于第二底部的水平高度。

本發明的目的還可采用以下技術措施進一步實現。

所述的液氣分離式涂布機結構，其設置于涂布機腔室中，該涂布機腔室進氣端，在第一控制器的調節控制下，提供下降氣流；又于該至少一個排氣管端，在第二控制器的調節控制下，排出腔室內的氣體。

所述的液氣分離式涂布機結構，其中該第一底部為斜面，又該液體回收管設置于該斜面的最低處。

所述的液氣分離式涂布機結構，其中該至少一個排氣管為多個排氣管且彼此等間距排列。

所述的液氣分離式涂布機結構，其中該第一杯罩具有第一斜面及第一垂直面，由該第一斜面向外延伸形成。

所述的液氣分離式涂布機結構，其中該第二杯罩具有第二斜面及第二垂直面，由該第二斜面向外延伸形成。

所述的液氣分離式涂布機結構，其中該第二垂直面的底部低于該第一環繞內壁的頂部，又該第二垂直面的底部與該第一底部間形成有排氣間隙。