[發明專利]面蒸發源蒸鍍裝置在審
| 申請號: | 201811500640.3 | 申請日: | 2018-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN109457218A | 公開(公告)日: | 2019-03-12 |
| 發明(設計)人: | 張志林;張建華;李俊;蔣雪茵 | 申請(專利權)人: | 上海大學 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/26;C23C14/28;B05B9/04;B05D1/02;B05D3/02 |
| 代理公司: | 上海上大專利事務所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 陸聰明 |
| 地址: | 200444*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 蒸發 料薄膜 蒸發源 承載件 波峰 蒸鍍裝置 半成品基板 波峰發生器 均勻性控制 柔性金屬箔 加熱電極 膜厚控制 設備成本 瞬間加熱 蒸發薄膜 均勻度 可卷繞 速率和 烘烤 薄層 基板 料膜 蒸鍍 薄膜 節拍 移動 | ||
本發明涉及一種面蒸發源蒸鍍裝置。它是由可卷繞的柔性金屬箔帶作為蒸發料薄膜層的承載件,所述承載件上用波峰涂方法涂有蒸發料薄膜層,構成載有蒸發料膜層的面蒸發源;在此面蒸發源兩端有一對加熱電極,通過瞬間加熱把承載件上蒸發料薄膜層瞬間全部均勻地蒸發到半成品基板上。從而大大提高了蒸發料的利用率。而且最后得到的蒸發薄膜層的材料成分、薄膜厚度、均勻度均由面蒸發源的蒸發料薄膜層來控制。使得此蒸鍍裝置不再需要蒸發速率和膜厚控制、多蒸發源控制,均勻性控制等復雜的機構,降低了設備成本、縮短了蒸鍍節拍,提高了設備的利用率。所提供的波峰涂裝置是溶有一定蒸發料濃度的溶液在波峰發生器中產生能產生一高于溶液面的穩定的溶液波峰,此波峰與波峰垂直方向移動的蒸發料薄膜承載件基板的表面接觸后在承載件上留下部分的溶液薄層經烘烤干燥后形成一均勻的蒸發料薄膜層。
技術領域
本發明涉及用于制作有機發光二極管(OLED)、有機薄膜晶體管(TFT)、有機太陽電池、半導體器件、平板顯示器件,及其他有機及無機器件制備時把有機及無機的蒸發料進行蒸發 的面蒸發源蒸鍍裝置。
背景技術
真空蒸鍍工藝已廣泛的用于半導體元器件及平板顯示器件的制作。特別如有機發光二極管(OLED)等方面已形成了一個很大的產業,在OLED的制備過程中主要的過程是真空蒸發,就是把有機蒸發料放在加熱的坩堝中把蒸發料變成蒸汽后沉積在半成品基板上。由于隨著平板顯示面積的不斷擴大,對大面積蒸發的均勻性和低成本的蒸發要求越來越高。而一般常用蒸發源有點蒸發源和線蒸發源。對于點蒸發源如中國專利01129122、200810210270.x、003110977等,該種蒸發源由于蒸發時呈球面狀因此在蒸發到平面基板時是不均勻的,中間厚周邊薄。為了要得到均勻的薄膜則需要把蒸發源放在基板的邊緣處而在基板旋轉的情況下才能得到均勻的薄膜。這不僅增加了工藝的復雜性而且也造成了蒸發料的大量浪費。一般用這種方法的蒸發料的利用率只有百分之五左右。特別是對有機發光器件其有機發光的材料很昂貴的情況下它大大的增加了成本。為了提高蒸發料的利用率有很多專利如中國專利200410040581.8、200710169464.5、201010601144.4、201020140696.5等提出了線蒸發源的方案。其方法是通過線蒸發源即把蒸發舟制成一長條形的蒸發舟形成一均勻的線狀的蒸發源,通過該線蒸發源或基板的等速移動來實現均勻的蒸發。它的蒸發料利用率有了很大提高,可以達到20%左右的利用率。但是它的結構復雜為實現線上的均勻蒸發速率其控制的因素很多,設備成本就比較高。此外還有一些如改變點蒸發源的氣流分布的方法的201010611085.9;多蒸發源來實現大面積蒸發的201010587010.1、201611137800.3;在凹槽陣列里填蒸發料蒸發的201610566599.4和平面蒸發源的201710643162.0等專利。但由于種種原因目前真正能實現批量生產的還是停留在點和線的蒸發源的狀態,從而導致器件制造的材料損耗大、速度慢、工藝復雜、設備成本高、成品率底、總體成本還是高于液晶屏的制備。
發明內容
本發明的目的在于針對已有技術存在的缺陷,提供一種材料利用率高、蒸發的能耗小、工藝控制簡單、蒸發速度快、容易形成流水線的面蒸發源蒸鍍裝置。
為達到上述目的,本發明采用下述技術方案:
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