[發明專利]面蒸發源蒸鍍裝置

在審

• 申請號: 201811500640.3
• 申請日: 2018-12-10
• 公開（公告）號: CN109457218A
• 公開（公告）日: 2019-03-12
• 發明（設計）人: 張志林;張建華;李俊;蔣雪茵
• 申請（專利權）人: 上海大學
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/26;C23C14/28;B05B9/04;B05D1/02;B05D3/02
• 代理公司: 上海上大專利事務所(普通合伙) 31205
• 代理人: 陸聰明

1.一種面蒸發源蒸鍍裝置，包括接受蒸鍍材料的半成品基板（115,209）、帶有勻布狀鏤空型孔（112）的掩膜板（113），其特征在于：由兩個卷有柔性金屬箔帶卷筒（105和104）裝有一條柔性金屬箔帶（101）作為蒸發料薄膜層的承載件，通過兩個轉向輥筒（106和107）轉到兩個加熱電極輥筒（108和109）之間成一個平整的蒸發面，在該平面上或者是帶有發熱介質層的平板基片（201）用波峰涂（103）的方法，或者用印刷、或轉印、或噴涂、或流延、或蒸發、或濺射方法沉積一層蒸發料薄膜層（102,202）組成的面蒸發源，面蒸發源平面的兩端加有兩個電極（108和109,204和205）可以瞬間通電或者用電磁、或中頻、或高頻、或微波、或熱輥方法來實現瞬間加熱，瞬間把面蒸發源上的蒸發料薄膜層（102,202）全部蒸發到在它上面的半成品基板（115,209）上形成蒸發薄膜層（114,208），兩者之間可以有一個帶有勻布狀鏤空型孔（112）的掩膜板（113）組成一個面蒸發源的蒸鍍系統，它可在高真空或惰性氣體的低真空氣氛下進行蒸發，并由多個蒸鍍系統在一個真空系統內排列成行，接受蒸發料的半成品基板可按程序完成第一次蒸鍍第一層蒸發薄膜層后再向前推進到下一個蒸鍍系統進行下一層第二層蒸發薄膜層的蒸鍍，形成一個完整的蒸鍍線，每個蒸鍍系統（501，502）邊上有一個備用的面蒸發源波峰涂膜室（501-1，502-1）在大氣或惰性氣氛中完成蒸發料的波峰涂膜后來更換邊上已蒸發完蒸發料的面蒸發源。

2.根據權利要求1所述的面蒸發源蒸鍍裝置，其特征在于；所述的用電磁、或中頻、或高頻、或微波、或熱輥方法來實現瞬間加熱的方法中，以熱輥的蒸發方法的面蒸發源蒸鍍裝置它由兩個卷有柔性的金屬箔帶卷筒（405和404）的柔性的金屬箔帶（401）作為蒸發料薄膜層的承載件，它上面涂有蒸發料薄膜層(402)組成的面蒸發源，以穩定的速度通過高溫的熱輥（408），在熱輥上面有接受蒸發鍍層（414）的半成品樣品基板（415），兩者之間可以有一個帶有勻布鏤空型孔（412）的掩膜板（413），它們以柔性金屬箔帶（401）移動的同樣的速度和柔性金屬箔帶（401）同步向前移動當蒸發料層經過高溫熱輥時會瞬間蒸發到基板（415）上形成蒸發薄膜層（414），組成一個面蒸發源熱輥式瞬間蒸發的蒸鍍系統。

3.根據權利要求1和2所述的面蒸發源蒸鍍裝置，其特征在于：所述的柔性金屬箔帶（101,401）是厚度為0.01到0.1mm的不銹鋼、或鉬、或鎢、或鋁合金、或鎳鉻箔片。

4.根據權利要求1和2所述的面蒸發源蒸鍍裝置，其特征在于：所述的柔性金屬箔帶（101,401）兩邊的邊上鑲有一間隔窄條(101-1)。

5.根據權利要求1所述的面蒸發源蒸鍍裝置，其特征在于所述的帶有發熱介質層的平板基片中的基片是玻璃、或石英、或陶瓷的平板片，所述的帶有發熱介質層的平板基片中的發熱介質是均勻的透明的導電膜、或金屬導電膜、或非金屬導電膜。

6.根據權利要求1所述的面蒸發源蒸鍍裝置，其特征在于：所述的面蒸發源板的兩端加有兩電極（108和109,204和205）可瞬間通電在0.01秒到10秒之間達到足夠高的溫度把全部蒸發料蒸發到基板上去。

7.根據權利要求1所述的面蒸發源蒸鍍裝置，其特征在于：所述的波峰涂的方法是對可溶化在有機溶劑或在水中的蒸發料，包括攙雜料，按一定的比例溶成一定濃度的溶液放在一個能產生溶液波峰的波峰產生器中產生一高于溶液面的穩定的波峰，此波峰與波峰垂直方向移動的蒸發料薄膜承載件，即柔性金屬箔帶（101）或附著有發熱介質層基片（201）的表面接觸后在承載件上留下薄薄一層溶液，經紅外燈（110）或其他加熱方式加熱烘烤干燥后形成一均勻的蒸發料薄膜（102），其烘烤出的帶溶劑氣體被抽氣系統（111）抽到溶劑回收裝置進行溶劑回收，其厚度由溶液的濃度，承載片移動的速度和波峰的參數來決定。