[發(fā)明專利]自修復(fù)紫外線吸收聚合物涂層

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811483641.1
• 申請日: 2018-12-05
• 公開（公告）號: CN109929291A
• 公開（公告）日: 2019-06-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: M·阿卜戴爾哈米德;戴放;A·M·戴利;M·蔡
• 申請（專利權(quán)）人: 通用汽車環(huán)球科技運作有限責(zé)任公司
• 主分類號: C09D4/02
• 分類號: C09D4/02;C09D5/32;C09D7/63;C08J7/04;C08L77/10
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 韋欣華;楊思捷

提供自修復(fù)紫外線保護性聚合物涂層的系統(tǒng)和方法包括通過引發(fā)紫外線吸收基質(zhì)前體和紫外線引發(fā)劑的聚合所形成的聚合物基質(zhì)和設(shè)置在所述聚合物基質(zhì)內(nèi)的自修復(fù)部分。聚合物基質(zhì)包括其中的數(shù)個活性位點。自修復(fù)部分包括可流動的自修復(fù)前體和自修復(fù)引發(fā)劑。自修復(fù)引發(fā)劑配置成使用陽離子開環(huán)過程使自修復(fù)前體聚合。

引言

本公開涉及紫外線吸收聚合物涂層領(lǐng)域，并且更特別地涉及提供具有自修復(fù)特性的紫外線吸收聚合物涂層的系統(tǒng)和方法。

織物和部件可以由紫外線敏感材料形成。如果暴露于紫外線輻射，材料將在物理上和/或?qū)徝郎贤嘶＠纾锢硗嘶梢越档陀勺贤饩€敏感材料所形成的部件的強度、柔韌性或剛性。即使沒有發(fā)生可察覺的物理退化，審美退化(諸如紫外線敏感材料褐變)也可以降低實施由紫外線敏感材料所形成部件的能力，這是因為消費者可以發(fā)現(xiàn)這種顏色變化是不期望的。

發(fā)明內(nèi)容

紫外線敏感材料的物理退化和審美退化降低了這些材料用于織物和部件(具體地結(jié)構(gòu)性部件)的期望。本文中所公開的自修復(fù)聚合物可以實施成提高紫外線敏感材料的期望。

根據(jù)本公開的各方面，一種方法包括制備包括基質(zhì)前體部分和自修復(fù)部分的二元混合物，通過引發(fā)紫外線吸收基質(zhì)前體和紫外線引發(fā)劑的聚合形成自修復(fù)聚合物涂層以由此形成聚合物基質(zhì)，并且用自修復(fù)聚合物涂層保護自修復(fù)敏感性基底的外表面。自修復(fù)部分包括可流動的自修復(fù)前體和自修復(fù)引發(fā)劑。基質(zhì)前體部分包括紫外線吸收基質(zhì)前體和紫外線引發(fā)劑。自修復(fù)部分基本上設(shè)置在整個聚合物基質(zhì)中。聚合物基質(zhì)包括其中的數(shù)個活性位點。

根據(jù)本公開的又一方面，自修復(fù)前體是環(huán)醚，并且自修復(fù)引發(fā)劑是路易斯酸化合物。

根據(jù)本公開的又一方面，紫外線吸收基質(zhì)前體是支化丙烯酸酯。

根據(jù)本公開的又一方面，在形成自修復(fù)聚合物涂層之前，將二元混合物涂敷到紫外線敏感性基底。

根據(jù)本公開的又一方面，自修復(fù)前體是具有化學(xué)式CH₂OC₂H₄O的環(huán)醚，并且自修復(fù)引發(fā)劑是堿金屬雙(氟磺酰基)酰亞胺。

根據(jù)本公開的又一方面，紫外線吸收基質(zhì)前體是具有官能部分的支化丙烯酸酯，該官能部分選自由羧酸和酯構(gòu)成的組，并且紫外線引發(fā)劑是1，1-二苯基甲酮。

根據(jù)本公開的又一方面，形成自修復(fù)聚合物涂層包括將二元混合物涂敷到可移除背襯，并且保護紫外線敏感性基底的外表面包括從可移除背襯中移除自修復(fù)聚合物涂層并且將自修復(fù)聚合物涂層涂敷到紫外線敏感性基底的外表面。

根據(jù)本公開的又一方面，紫外線敏感性基底包括對位芳族聚酰胺。

根據(jù)本公開的又一方面，紫外線敏感性基底是加壓容器。

根據(jù)本公開的又一方面，該方法進一步包括響應(yīng)于在與自修復(fù)前體接觸的聚合物基質(zhì)中所形成的斷裂用自修復(fù)前體填充斷裂的至少一部分，并且響應(yīng)于接觸自修復(fù)引發(fā)劑的自修復(fù)前體使自修復(fù)前體聚合，由此通過自修復(fù)聚合物涂層抑制斷裂的傳播。

根據(jù)本公開的又一方面，自修復(fù)部分基于二元混合物的重量以50重量％的量存在于二元混合物中，并且基質(zhì)前體部分基于二元混合物的重量以50重量％的量存在于二元混合物中。

根據(jù)本公開的其他各方面，自修復(fù)聚合物涂層包括通過引發(fā)紫外線吸收基質(zhì)前體的聚合所形成的聚合物基質(zhì)，并且聚合物基質(zhì)包括紫外線引發(fā)劑和設(shè)置在其中的自修復(fù)部分。聚合物基質(zhì)包括其中的數(shù)個活性位點。自修復(fù)部分包括可流動的自修復(fù)前體和自修復(fù)引發(fā)劑。自修復(fù)引發(fā)劑配置成使用陽離子開環(huán)過程使自修復(fù)前體聚合。

根據(jù)本公開的又一方面，自修復(fù)前體是環(huán)醚，并且自修復(fù)引發(fā)劑是路易斯酸化合物。

根據(jù)本公開的又一方面，紫外線吸收基質(zhì)前體是支化丙烯酸酯。