[發(fā)明專利]自修復(fù)紫外線吸收聚合物涂層

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201811483641.1
• 申請日: 2018-12-05
• 公開（公告）號: CN109929291A
• 公開（公告）日: 2019-06-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: M·阿卜戴爾哈米德;戴放;A·M·戴利;M·蔡
• 申請（專利權(quán)）人: 通用汽車環(huán)球科技運作有限責(zé)任公司
• 主分類號: C09D4/02
• 分類號: C09D4/02;C09D5/32;C09D7/63;C08J7/04;C08L77/10
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 韋欣華;楊思捷

1.一種方法，其包括：

制備包括基質(zhì)前體部分和自修復(fù)部分的二元混合物，所述自修復(fù)部分包括可流動的自修復(fù)前體和自修復(fù)引發(fā)劑，所述基質(zhì)前體部分包括紫外線吸收基質(zhì)前體和紫外線引發(fā)劑；

通過引發(fā)紫外線吸收基質(zhì)前體和紫外線引發(fā)劑的聚合形成自修復(fù)聚合物涂層，由此形成聚合物基質(zhì)，所述自修復(fù)部分基本上設(shè)置在整個所述聚合物基質(zhì)中，所述聚合物基質(zhì)包括其中的數(shù)個活性位點；以及

用所述自修復(fù)聚合物涂層保護紫外線敏感性基底的外表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述自修復(fù)前體是環(huán)醚并且所述自修復(fù)引發(fā)劑是路易斯酸化合物。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在形成所述自修復(fù)聚合物涂層之前，將所述二元混合物涂敷到所述紫外線敏感性基底。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述自修復(fù)前體是具有化學(xué)式CH₂OC₂H₄O的環(huán)醚，并且所述自修復(fù)引發(fā)劑是堿金屬雙(氟磺酰基)酰亞胺。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中形成所述自修復(fù)聚合物涂層包括將所述二元混合物涂敷到可移除背襯，并且其中保護所述紫外線敏感性基底的所述外表面包括從所述可移除背襯中移除所述自修復(fù)聚合物涂層并且將所述自修復(fù)聚合物涂層涂敷到所述紫外線敏感性基底的所述外表面。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其進一步包括：

響應(yīng)于在接觸所述自修復(fù)前體的所述聚合物基質(zhì)中所形成的斷裂，用所述自修復(fù)前體填充所述斷裂的至少一部分；以及

響應(yīng)于接觸所述自修復(fù)引發(fā)劑的所述自修復(fù)前體，使所述自修復(fù)前體聚合，由此抑制通過所述自修復(fù)聚合物涂層的所述斷裂的傳播。

7.一種自修復(fù)聚合物涂層，其包括：

通過引發(fā)紫外線吸收基質(zhì)前體和紫外線引發(fā)劑的聚合所形成的聚合物基質(zhì)，所述聚合物基質(zhì)包括其中的數(shù)個活性位點；以及

設(shè)置在所述聚合物基質(zhì)內(nèi)的自修復(fù)部分，所述自修復(fù)部分包括可流動的自修復(fù)前體和自修復(fù)引發(fā)劑，所述自修復(fù)引發(fā)劑配置成使用陽離子開環(huán)過程使所述自修復(fù)前體聚合。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的自修復(fù)聚合物涂層，其中所述紫外線吸收基質(zhì)前體是具有官能部分的支化丙烯酸酯，所述官能部分選自由羧酸和酯構(gòu)成的組，并且所述紫外線引發(fā)劑是1，1-二苯基甲酮。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的自修復(fù)聚合物涂層，其中所述自修復(fù)前體是具有化學(xué)式CH₂OC₂H₄O的環(huán)醚，并且所述自修復(fù)引發(fā)劑是堿金屬雙(氟磺?；?酰亞胺。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的自修復(fù)聚合物涂層，其中所述自修復(fù)前體響應(yīng)于與所述自修復(fù)聚合物涂層中的斷裂接觸填充所述斷裂的至少一部分，并且所述自修復(fù)前體響應(yīng)于與所述自修復(fù)引發(fā)劑接觸聚合，由此抑制所述斷裂的傳播。