[發明專利]光罩及光罩的制作方法

在審

• 申請號: 201811480473.0
• 申請日: 2018-12-05
• 公開（公告）號: CN109634052A
• 公開（公告）日: 2019-04-16
• 發明（設計）人: 吳川
• 申請（專利權）人: 惠科股份有限公司
• 主分類號: G03F1/62
• 分類號: G03F1/62
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 吳平

本發明涉及一種光罩，包括：半透膜層；遮光層，設置在所述半透膜層上，露出部分所述半透膜層以作為溝道形成區；所述溝道形成區中的半透膜層包括弧形膜層和非弧形膜層，所述弧形膜層的厚度大于所述非弧形膜層的厚度。本發明中，弧形膜層的厚度大于非弧形膜層的厚度，增大了弧形膜層的透光量，有效地降低了弧形膜層出現失焦的幾率，提升工藝良率。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種光罩及光罩的制作方法。

背景技術

在陣列基板制造中通常需使用五至六個光罩，由于光刻工藝昂貴而會增加液晶顯示器的制造成本，因此有必要減少使用的掩膜數量，而減少使用的掩膜數量的方法一般為配合半透型光罩對光阻膠層進行曝光顯影，形成不同厚度的光刻膠層，以減少一個光罩。

但上述方法應用在實際生產過程中，由于光線具有一定的散射作用，在保證與溝道形成區的非弧形區域相對應的光阻膠層能順利完成半透曝光時，溝道形成區的弧形區域會存在一定幾率的失焦，導致與溝道形成區的弧形區域相對應的光阻膠層無法順利完成半透曝光，使得該處的光阻膠層被完全留下，致使生產流程結束后，源極和漏極被連接在一起，薄膜晶體管失去開關作用。

發明內容

基于此，有必要針對上述問題，提供一種光罩及光罩的制作方法，能降低與溝道形成區的弧形區域相對應的光阻膠層進行曝光時發生失焦的幾率，提升工藝良率。

一種光罩，包括：

半透膜層；

遮光層，設置在所述半透膜層上，露出部分所述半透膜層以作為溝道形成區；

所述溝道形成區中的半透膜層包括弧形膜層和非弧形膜層，所述弧形膜層的厚度大于所述非弧形膜層的厚度。

在其中一個實施例中，所述遮光層包括第一遮光層和第二遮光層，所述第一遮光層和第二遮光層分別位于所述溝道形成區的兩側。

在其中一個實施例中，所述第一遮光層與所述第二遮光層分別對應源極形成區和漏極形成區。

在其中一個實施例中，所述弧形膜層的外邊緣向所述第一遮光層方向延伸，使所述弧形膜層的厚度大于所述非弧形膜層的厚度。

在其中一個實施例中，所述溝道形成區的橫截面為U形。

上述光罩，弧形膜層的厚度大于非弧形膜層的厚度，增大了弧形膜層的透光量，有效地降低了弧形膜層出現失焦的幾率，提升工藝良率。

基于上述發明構思，提出一種光罩，包括：

半透膜層；

遮光層，設置在所述半透膜層上，露出部分所述半透膜層以作為溝道形成區；

所述溝道形成區中的半透膜層包括弧形膜層和非弧形膜層，所述弧形膜層的厚度大于所述非弧形膜層的厚度；

其中，所述遮光層包括第一遮光層和第二遮光層，所述第一遮光層和所述第二遮光層分別位于所述溝道形成區的兩側；

所述第一遮光層與所述第二遮光層分別對應源極形成區和漏極形成區；

所述弧形膜層的外邊緣向所述第一遮光層方向延伸，使所述弧形膜層的厚度大于所述非弧形膜層的厚度；

所述溝道形成區的橫截面為U形。

上述光罩，弧形膜層的厚度大于非弧形膜層的厚度，增大了弧形膜層的透光量，有效地降低了弧形膜層出現失焦的幾率，提升工藝良率。

基于上述發明構思，提出一種光罩的制作方法，包括：

在基板上設置半透膜層；

在半透膜層上設置遮光層，露出部分所述半透膜層以作為溝道形成區；