[發(fā)明專利]光罩及光罩的制作方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201811480473.0
• 申請日: 2018-12-05
• 公開（公告）號: CN109634052A
• 公開（公告）日: 2019-04-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吳川
• 申請（專利權(quán)）人: 惠科股份有限公司
• 主分類號: G03F1/62
• 分類號: G03F1/62
• 代理公司: 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 吳平

1.一種光罩，其特征在于，包括：

半透膜層；

遮光層，設(shè)置在所述半透膜層上，露出部分所述半透膜層以作為溝道形成區(qū)；

所述溝道形成區(qū)中的半透膜層包括弧形膜層和非弧形膜層，所述弧形膜層的厚度大于所述非弧形膜層的厚度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光罩，其特征在于，所述遮光層包括第一遮光層和第二遮光層，所述第一遮光層和所述第二遮光層分別位于所述溝道形成區(qū)的兩側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光罩，其特征在于，所述第一遮光層與所述第二遮光層分別對應(yīng)源極形成區(qū)和漏極形成區(qū)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光罩，其特征在于，所述弧形膜層的外邊緣向所述第一遮光層方向延伸，使所述弧形膜層的厚度大于所述非弧形膜層的厚度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光罩，其特征在于，所述溝道形成區(qū)的橫截面為U形。

6.一種光罩，其特征在于，包括：

半透膜層；

遮光層，設(shè)置在所述半透膜層上，露出部分所述半透膜層以作為溝道形成區(qū)；

所述溝道形成區(qū)中的半透膜層包括弧形膜層和非弧形膜層，所述弧形膜層的厚度大于所述非弧形膜層的厚度；

其中，所述遮光層包括第一遮光層和第二遮光層，所述第一遮光層和所述第二遮光層分別位于所述溝道形成區(qū)的兩側(cè)；

所述第一遮光層與所述第二遮光層分別對應(yīng)源極形成區(qū)和漏極形成區(qū)；

所述弧形膜層的外邊緣向所述第一遮光層方向延伸，使所述弧形膜層的厚度大于所述非弧形膜層的厚度；

所述溝道形成區(qū)的橫截面為U形。

7.一種光罩的制作方法，其特征在于，包括：

在基板上設(shè)置半透膜層；

在半透膜層上設(shè)置遮光層，露出部分所述半透膜層以作為溝道形成區(qū)；

其中，將溝道形成區(qū)中的半透膜層劃分為弧形膜層和非弧形膜層，并使所述弧形膜層的厚度大于所述非弧形膜層的厚度。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述遮光層包括第一遮光層和第二遮光層，將所述第一遮光層和所述第二遮光層分別設(shè)置在所述溝道形成區(qū)的兩側(cè)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光罩的制作方法，其特征在于，令所述第一遮光層與所述第二遮光層分別對應(yīng)源極形成區(qū)和漏極形成區(qū)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光罩的制作方法，其特征在于，將所述弧形膜層的外邊緣向所述第一遮光層方向延伸，使所述弧形膜層的厚度大于所述非弧形膜層的厚度。