[發明專利]一種電鍍廢水處理裝置

在審

• 申請號: 201811479310.0
• 申請日: 2018-12-05
• 公開（公告）號: CN109467217A
• 公開（公告）日: 2019-03-15
• 發明（設計）人: 嚴飛軍
• 申請（專利權）人: 寧波市寶成電鍍有限公司
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04;C02F103/16;C02F101/20
• 代理公司: 北京君恒知識產權代理事務所(普通合伙) 11466
• 代理人: 鄭黎明

1.一種電鍍廢水處理裝置，包括沉淀池（1），其特征在于，所述沉淀池（1）頂部設置有進水口（11），所述進水口（11）上設置有實時取樣分析裝置（12），所述實時取樣分析裝置（12）通過信號線連接有控制模塊（2），所述實時取樣分析裝置（12）的取樣分析結果傳導至所述控制模塊（2），所述沉淀池（1）底部設置有出水口（13），所述出水口（13）上設置有第一過濾裝置（14），所述出水口（13）連接有第一水管（71），所述第一水管（71）上設置有測流量裝置（3），所述測流量裝置（3）通過信號線連接控制模塊（2），所述測流量裝置（3）的流量測量結果傳導至所述控制模塊（2）；

所述第一水管（71）與還原池（4）相連，所述還原池（4）包括還原池外殼（46）和若干個子還原池（42），所述還原池（4）底部設置有旋轉圓盤（43），所述若干個子還原池（42）固定在所述旋轉圓盤（43）上與所述旋轉圓盤（43）一起轉動，所述若干個子還原池（42）內部分別設置有攪拌裝置（44），所述還原池外殼（46）側邊下方設置有總出水口（47），出水口（47）上連接有第二水管（72），所述每個子還原池（42）的側邊下方分別設置有子出水口（45），所述子出水口（45）用于與所述還原池外殼（46）側邊下方設置的總出水口（47）配合，所述還原池（4）上設置有投料裝置（41），所述投料裝置（41）通過信號線連接控制模塊（2），所述控制模塊（2）根據所述實時取樣分析裝置（12）的取樣分析結果和所述測流量裝置（3）的流量測量結果控制所述投料裝置（41）投料的量；

所述還原池（4）通過第二水管（72）與反應池（5）相連，所述反應池（5）底部出水口設置有第二過濾裝置（51）；

所述反應池（5）通過第三水管（73）與調試池（6）相連，所述調試池（6）底部設置有排水出口（61）。

2.根據權利要求1所述的一種電鍍廢水處理裝置，其特征在于，所述第一過濾裝置（14）為活性炭慮槽，所述活性炭慮槽可更換。

3.根據權利要求1所述的一種電鍍廢水處理裝置，其特征在于，所述第二過濾裝置（51）為細孔過濾網，所述細孔過濾網可更換，所述細孔直徑在100nm—500nm。

4.根據權利要求1所述的一種電鍍廢水處理裝置，其特征在于，所述調試池（6）用于調試廢水pH值。

5.根據權利要求1所述的一種電鍍廢水處理裝置，其特征在于，所述旋轉圓盤（43）通過外部電機控制轉動。

6.根據權利要求1所述的一種電鍍廢水處理裝置，其特征在于，所述攪拌裝置（44）為攪拌葉。

7.根據權利要求1所述的一種電鍍廢水處理裝置，其特征在于，所述子還原池（42）形狀為扇形柱體。

8.根據權利要求1所述的一種電鍍廢水處理裝置，其特征在于，所述反應池（5）頂部設置有投放口（52），所述投放口（52）用于絮凝劑和堿。