[發(fā)明專利]一種電鍍廢水處理裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811479310.0 | 申請日: | 2018-12-05 |
| 公開(公告)號: | CN109467217A | 公開(公告)日: | 2019-03-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 嚴飛軍 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波市寶成電鍍有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/04 | 分類號: | C02F9/04;C02F103/16;C02F101/20 |
| 代理公司: | 北京君恒知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11466 | 代理人: | 鄭黎明 |
| 地址: | 315023 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 還原池 出水口 沉淀池 電鍍廢水處理裝置 取樣分析裝置 流量裝置 進水口 水管 廢水 廢水處理效率 控制模塊 投料裝置 外殼側(cè)邊 還原物 可轉(zhuǎn)動 投放量 投料量 排出 去除 過量 離子 投放 配合 | ||
一種電鍍廢水處理裝置,包括沉淀池,沉淀池頂部設(shè)有進水口,進水口設(shè)有實時取樣分析裝置,沉淀池底部設(shè)有出水口,出水口連接有第一水管,第一水管上設(shè)有測流量裝置;還原池包括還原池外殼和子還原池,子還原池可轉(zhuǎn)動,還原池外殼和子還原池側(cè)下方分別設(shè)有出水口,子還原池出水口與還原池外殼側(cè)邊下方設(shè)置的出水口配合,還原池上設(shè)有投料裝置,投料量收控制模塊控制。與傳統(tǒng)方法相比,本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明設(shè)有實時取樣分析裝置和測流量裝置,定量地投放還原物,避免了傳統(tǒng)方法中無法控制投放量而導(dǎo)致過量和不足的問題,既節(jié)省物料,又去除廢水中的離子;由于將還原池設(shè)成多個旋轉(zhuǎn)的子還原池,廢水持續(xù)不斷地注入和排出,提高廢水處理效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種廢水處理裝置,尤其涉及用于一種電鍍廢水處理裝置。
背景技術(shù)
電鍍是利用化學(xué)和電化學(xué)方法在金屬或在其它材料表面鍍上各種金屬。電鍍技術(shù)廣泛應(yīng)用于機器制造、輕工、電子等行業(yè)。?電鍍廢水水質(zhì)較復(fù)雜,電鍍廢水中含有鉻、鋅、銅、鎳、鎘等重金屬離子以及酸、堿、氰化物等具有很大毒性的雜物。電鍍廢水成分復(fù)雜,污染物可分為無機污染物和有機污染物兩大類,水質(zhì)變化幅度大,各股生產(chǎn)廢水污染物種類多樣,且電鍍廢水毒性大,含有大量的重金屬離子,若不經(jīng)處理直接排放會對周邊水體造成極大的污染。
傳統(tǒng)方法有多種廢水處理技術(shù)(硫酸亞鐵法、焦亞硫酸鈉法、亞硫酸鈉法、離子交換法、鐵~焦炭法、電解法等)。目前,在實際生產(chǎn)中企業(yè)采用鐵~焦炭法、硫酸亞鐵法的較多;離子交換法和電解法因為管理和運行的效果不如人所愿。實際運用中投料量難以控制。一旦投料超標,浪費材料不說,成本也有所增加,而且又會增加出水中COD的值,如果過多的投料,還容易形成絡(luò)離子,就算加堿也難以沉淀;假如投的料不足,那么,雜質(zhì)還原不充分,雜質(zhì)含量不達標。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述所存在的問題,本發(fā)明提供了一種電鍍廢水處理裝置,本發(fā)明可根據(jù)廢水金屬離子含量定量的投料。
一種電鍍廢水處理裝置,包括沉淀池,所述沉淀池頂部設(shè)置有進水口,所述進水口上設(shè)置有實時取樣分析裝置,所述實時取樣分析裝置通過信號線連接有控制模塊,所述實時取樣分析裝置的取樣分析結(jié)果傳導(dǎo)至所述控制模塊,所述沉淀池底部設(shè)置有出水口,所述出水口上設(shè)置有第一過濾裝置,所述出水口連接有第一水管,所述第一水管上設(shè)置有測流量裝置,所述測流量裝置通過信號線連接控制模塊,所述測流量裝置的流量測量結(jié)果傳導(dǎo)至所述控制模塊;
所述第一水管與還原池相連,所述還原池包括還原池外殼和若干個子還原池,所述還原池底部設(shè)置有旋轉(zhuǎn)圓盤,所述若干個子還原池固定在所述旋轉(zhuǎn)圓盤上與所述旋轉(zhuǎn)圓盤一起轉(zhuǎn)動,所述若干個子還原池內(nèi)部分別設(shè)置有攪拌裝置,所述還原池外殼側(cè)邊下方設(shè)置有出水口,出水口上連接有第二水管,所述每個子還原池的側(cè)邊下方分別設(shè)置有出水口,出水口用于與所述還原池外殼側(cè)邊下方設(shè)置的出水口配合,還原池外殼側(cè)邊下方設(shè)置的出水口對準即可將廢水排出,所述還原池上設(shè)置有投料裝置,所述投料裝置通過信號線連接控制模塊,所述控制模塊根據(jù)所述實時取樣分析裝置的取樣分析結(jié)果和所述測流量裝置的流量測量結(jié)果控制所述投料裝置投料的量;
所述各個子還原池中廢水能夠持續(xù)不斷地注入和排出,改變了傳統(tǒng)方法中注入一部分、反應(yīng)一部分再排出一部分的低效率方式,大大提高了廢水處理效率。
所述還原池通過第二水管與反應(yīng)池相連,所述反應(yīng)池底部出水口設(shè)置有第二過濾裝置;
所述反應(yīng)池通過第三水管與調(diào)試池相連,所述調(diào)試池底部設(shè)置有排水出口。
上述方案中,所述第一過濾裝置為活性炭慮槽,所述活性炭慮槽可更換,所述活性炭慮槽可降低水體的濁度、色度,吸附大顆粒雜質(zhì),由于所述活性炭慮槽可拆卸更換,易于清洗,反復(fù)利用,提高了實用性。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于寧波市寶成電鍍有限公司,未經(jīng)寧波市寶成電鍍有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811479310.0/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





