[發明專利]一種耐高溫低形變的陶瓷架在審
| 申請號： | 201811478700.6 | 申請日： | 2018-12-05 |
| 公開（公告）號： | CN109456040A | 公開（公告）日： | 2019-03-12 |
| 發明（設計）人： | 王相飛 | 申請（專利權）人： | 無錫市杰美特科技有限公司 |
| 主分類號： | C04B35/10 | 分類號： | C04B35/10;C04B35/622 |
| 代理公司： | 無錫華源專利商標事務所(普通合伙) 32228 | 代理人： | 聶啟新 |
| 地址： | 214000 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 陶瓷架 耐高溫 低形變 低收縮率 二氧化硅 兩段燒結 注漿成型 成形率 氧化鋁 氧化鎂 粘結劑 網格 排蠟 架設 陶瓷 | ||
1.一種耐高溫低形變的陶瓷架，其特征在于，所述陶瓷架設有網格，所述陶瓷架所含原料為氧化鎂0.3％，二氧化硅0.15％，氧化鋁99.5％，粘結劑0.05％。
2.根據權利要求1所述的陶瓷架，其特征在于，所述陶瓷架為方形。
3.根據權利要求2所述的陶瓷架，其特征在于，所述陶瓷架的兩個對角位置設有錐形腳，相對應的另外兩個對角位置設有與錐形腳匹配的凹槽。
4.根據權利要求2所述的陶瓷架，其特征在于，所述陶瓷架平行的兩邊上分別設有一個缺口。
5.一種權利要求1所述耐高溫低形變的陶瓷架的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括如下步驟：
(1)將0.3％氧化鎂、0.2％二氧化硅、0.05％粘結劑和99.5％氧化鋁混合，采用注漿成型工藝制成陶瓷架坯料；
(2)將步驟(1)制成的坯料置于排蠟專用填料中，于200-240℃的烤箱中烘烤排蠟，排蠟時間為8-10h，排蠟完畢后冷卻至室溫；
(3)將步驟(2)排蠟處理坯料置于終燒專用填料中，在燒爐中，于800-900℃下，燒結5-7h；
(4)將步驟(3)處理的坯料再置于1700-1750℃條件下高溫燒結12h；
(5)最終對燒結的坯料進行清洗，拋光處理，制得所述耐高溫低形變的陶瓷架。
6.根據權利要求5所述制備方法，其特征在于，所述排蠟專用填料為400目的氧化鋁。
7.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述終燒專用填料為200目高純氧化鋁粉。
8.一種權利要求1所述耐高溫低形變的陶瓷架的應用，其特征在于，所述陶瓷架用于高溫制品燒結的托盤。
9.根據權利要求8所述的應用，其特征在于，所述陶瓷架可以多層羅列，相近的兩個陶瓷架的錐形腳與另一個陶瓷架的凹槽匹配，達到兩個陶瓷架的穩定疊加。
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