[發明專利]納米壓印裝置及納米壓印方法

在審

• 申請號: 201811476309.2
• 申請日: 2018-12-04
• 公開（公告）號: CN109656097A
• 公開（公告）日: 2019-04-19
• 發明（設計）人: 童美魁;段曉東
• 申請（專利權）人: 上海安翰醫療技術有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 上海波拓知識產權代理有限公司 31264
• 代理人: 李萌

一種納米壓印裝置及納米壓印方法，用于將納米壓印組件中模板上的納米圖案印制于納米壓印組件的基片上，納米壓印裝置包括密封工作室，所述密封工作室上開設有吸氣孔及進氣孔；真空泵，所述真空泵通過吸氣孔與密封工作室相連通；柔性透明覆蓋膜，所述柔性透明覆蓋膜蓋設于所述納米壓印組件上，并跨過所述納米壓印組件的邊緣后與所述密封工作室的底板接觸，使所述柔性透明覆蓋膜與所述密封工作室的底板之間形成一容置所述納米壓印組件的容置腔。該納米壓印裝置無需使用高壓氣體和額外的加壓裝置，結構簡單，操作簡便。

技術領域

本發明涉及機械領域，尤其是一種納米壓印裝置及納米壓印方法。

背景技術

納米壓印是一種不同于傳統光刻技術的全新圖形轉移技術，其能夠把納米圖形從模板“復制”到基片上，具有產量高、成本低和工藝簡單的優點。其制作過程為：在模板上形成有納米尺度的微結構，在基片上涂有可流動的納米壓印膠，將模板與基片疊在一起，通過壓力使基片上的納米壓印膠進入模板的納米結構內，再通過加熱或紫外曝光的方法使納米壓印膠固化成型，就可以使模板上的微結構“復制”到基片上。紫外納米壓印通常在紫外納米壓印設備中完成，這類設備包括對準系統、真空系統、驅動系統、紫外曝光系統及控制系統等。這些設備結構復雜、售價昂貴，不利于納米壓印技術的廣泛應用。

發明內容

本發明的目的在于提供一種納米壓印裝置及納米壓印方法，該納米壓印裝置無需使用高壓氣體和額外的加壓裝置，結構簡單，操作簡便。

本發明提供一種納米壓印裝置，用于將納米壓印組件中模板上的納米圖案印制于納米壓印組件的基片上，包括

密封工作室，所述密封工作室上開設有吸氣孔及進氣孔；

真空泵，所述真空泵通過吸氣孔與密封工作室相連通；

柔性透明覆蓋膜，所述柔性透明覆蓋膜蓋設于所述納米壓印組件上，并跨過所述納米壓印組件的邊緣后與所述密封工作室的底板接觸，使所述柔性透明覆蓋膜與所述密封工作室的底板之間形成一容置所述納米壓印組件的容置腔。

進一步地，密封工作室的底板為彈性底板，所述柔性透明覆蓋膜蓋設于所述納米壓印組件上，并跨過所述納米壓印組件的邊緣后與所述彈性底板相接觸。

進一步地，所述柔性透明覆蓋膜及所述彈性底板均為硅膠片。

進一步地，還包括固化裝置，用于為所述納米壓印裝置提供固化條件。

進一步地，所述固化裝置包括紫外線光源，所述紫外線光源設置于所述密封工作室的上方，所述密封工作室的頂部為透明蓋板。

進一步地，所述納米壓印組件中的基片及模板的其中任一設置于所述納米壓印組件朝向所述紫外線光源所在的一側，所述納米壓印組件中朝向所述紫外線光源所在一側的所述基片或所述模板呈透明狀。

進一步地，所述固化裝置為加熱裝置，所述加熱裝置設置于所述密封工作室的底部。

本發明還提供了一種納米壓印方法，包括如下步驟：

提供一模板及一基片，在所述模板上設置有預先成型的納米壓印結構，在所述基片上涂布有納米壓印層；

將所述基片與所述模板疊設于一起，并使所述納米壓印層與所述納米壓印結構接觸，以形成納米壓印組件；

將所述納米壓印組件放置于一密封工作室內；

提供一柔性透明覆蓋膜，將所述柔性透明覆蓋膜蓋設于所述納米壓印組件上，所述柔性透明覆蓋膜跨過所述納米壓印組件的邊緣后與所述密封工作室的底板接觸，使所述柔性透明覆蓋膜與所述密封工作室的底板之間形成一容置所述納米壓印組件的容置腔；

降低所述密封工作室內的氣壓，使所述容置腔內的氣壓大于所述密封工作室內的氣壓，但小于大氣壓小于初始狀態下密封工作室內的氣壓；