[發明專利]納米壓印裝置及納米壓印方法在審
| 申請號： | 201811476309.2 | 申請日： | 2018-12-04 |
| 公開（公告）號： | CN109656097A | 公開（公告）日： | 2019-04-19 |
| 發明（設計）人： | 童美魁;段曉東 | 申請（專利權）人： | 上海安翰醫療技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/00 | 分類號： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海波拓知識產權代理有限公司 31264 | 代理人： | 李萌 |
| 地址： | 201206 上海市浦東*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 納米壓印 密封工作室 納米壓印裝置 透明覆蓋膜 吸氣孔 真空泵 底板 底板接觸 高壓氣體 加壓裝置 納米圖案 進氣孔 容置腔 蓋設 容置 跨過 印制 | ||
1.一種納米壓印裝置，用于將納米壓印組件中模板上的納米圖案印制于納米壓印組件的基片上，其特征在于：包括
密封工作室，所述密封工作室上開設有吸氣孔及進氣孔；
真空泵，所述真空泵通過吸氣孔與密封工作室相連通；
柔性透明覆蓋膜，所述柔性透明覆蓋膜蓋設于所述納米壓印組件上，并跨過所述納米壓印組件的邊緣后與所述密封工作室的底板接觸，使所述柔性透明覆蓋膜與所述密封工作室的底板之間形成一容置所述納米壓印組件的容置腔。
2.根據權利要求1所述的納米壓印裝置，其特征在于：密封工作室的底板為彈性底板，所述柔性透明覆蓋膜蓋設于所述納米壓印組件上，并跨過所述納米壓印組件的邊緣后與所述彈性底板相接觸。
3.根據權利要求2所述的納米壓印裝置，其特征在于：所述柔性透明覆蓋膜及所述彈性底板均為硅膠片。
4.根據權利要求1所述的納米壓印裝置，其特征在于：還包括固化裝置，用于為所述納米壓印裝置提供固化條件。
5.根據權利要求4所述的納米壓印裝置，其特征在于：所述固化裝置包括紫外線光源，所述紫外線光源設置于所述密封工作室的上方，所述密封工作室的頂部為透明蓋板。
6.根據權利要求5所述的納米壓印裝置，其特征在于：所述納米壓印組件中的基片及模板的其中任一設置于所述納米壓印組件朝向所述紫外線光源所在的一側，所述納米壓印組件中朝向所述紫外線光源所在一側的所述基片或所述模板呈透明狀。
7.根據權利要求4所述的納米壓印裝置，其特征在于：所述固化裝置為加熱裝置，所述加熱裝置設置于所述密封工作室的底部。
8.一種納米壓印方法，其特征在于：包括如下步驟：
提供一模板及一基片，在所述模板上設置有預先成型的納米壓印結構，在所述基片上涂布有納米壓印層；
將所述基片與所述模板疊設于一起，并使所述納米壓印層與所述納米壓印結構接觸，以形成納米壓印組件；
將所述納米壓印組件放置于一密封工作室內；
提供一柔性透明覆蓋膜，將所述柔性透明覆蓋膜蓋設于所述納米壓印組件上，所述柔性透明覆蓋膜跨過所述納米壓印組件的邊緣后與所述密封工作室的底板接觸，使所述柔性透明覆蓋膜與所述密封工作室的底板之間形成一容置所述納米壓印組件的容置腔；
降低所述密封工作室內的氣壓，使所述容置腔內的氣壓小于初始狀態下所述密封工作室內的氣壓；
增加所述密封工作室內的氣壓，使所述密封工作室內的氣壓大于所述容置腔內的氣壓。
9.根據權利要求8所述的納米壓印方法，其特征在于：在降低所述密封工作室內的氣壓的步驟中，使所述密封工作室內的氣壓降低至5Pa至100Pa。
10.根據權利要求8所述的納米壓印方法，其特征在于：在增加所述密封工作室內的氣壓的步驟中，使所述密封工作室的內部與外部連通。
11.根據權利要求8所述的納米壓印方法，其特征在于，還包括以下步驟：使所述納米壓印層固化。
12.根據權利要求11所述的納米壓印方法，其特征在于：通過紫外線照射和/或加熱的方法對所述納米壓印組件進行固化。
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