[發(fā)明專利]分子束外延生長AlInAsSb超晶格材料的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811470805.7 | 申請日: | 2018-12-04 |
| 公開(公告)號: | CN109616403B | 公開(公告)日: | 2020-08-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郝瑞亭;常發(fā)冉;郭杰;李勇;劉欣星;顧康;劉斌;王璐 | 申請(專利權(quán))人: | 云南師范大學(xué) |
| 主分類號: | H01L21/02 | 分類號: | H01L21/02;H01L21/67;H01L31/18;H01L31/0304;H01L31/0352 |
| 代理公司: | 南京蘇創(chuàng)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32273 | 代理人: | 王華 |
| 地址: | 650500 云*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 分子 外延 生長 alinassb 晶格 材料 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種分子束外延生長短波紅外AlInAsSb超晶格的優(yōu)化方法,其步驟為:測定AlInAsSb中三族元素的源爐溫度及相應(yīng)的束流值,及其五族元素相應(yīng)的束流值以及分子束外延生長的基準(zhǔn)溫度Tc,并定義五族元素與三族元素的束流值比值分別為Sb/Al和As/In;設(shè)定Sb/Al取值為固定值A(chǔ),As/In取值為變量值x,通過對比不同x值的Xrd圖譜分析確定As/In的最佳值xi;同樣地,設(shè)定As/In取值為最佳值xi,Sb/Al取值為變量值y,通過對比不同y值的Xrd圖譜分析確定Sb/Al的最佳值yi;根據(jù)基準(zhǔn)溫度Tc對AlInAsSb超晶格在GaSb襯底上的生長溫度以15°C為步長進(jìn)行調(diào)節(jié),并根據(jù)AFM圖譜的表面粗糙度確定其最佳生長溫度。通過該優(yōu)化方法可以得到材料質(zhì)量良好的AlInAsSb材料,所述方法簡單,高效。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明公開了一種利用分子束外延技術(shù)生長短波紅外探測材料AlInAsSb超晶格的優(yōu)化方法,屬于半導(dǎo)體材料領(lǐng)域。
背景技術(shù)
如今,1至3微米波段的短波紅外(SWIR)探測器在軍民領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用前景,這些領(lǐng)域包括保密通訊、天文觀測、氣體分析、地球科學(xué)等。搭載SWIR成像的相機(jī)可得到比傳統(tǒng)可見光相機(jī)更高分辨率的圖像。此外,該波段成像可以進(jìn)行被動和主動成像。因此,它在軍事和民用領(lǐng)域有非常重要的應(yīng)用價值。到目前為止,很多材料體系,如碲鎘汞HgCdTe(MCT)和銦鎵砷InxGa1-xAs,已經(jīng)在這個波段內(nèi)解決了很多問題。他們通過調(diào)節(jié)材料的組分使材料截止波長響應(yīng)短波范圍。然而,基于InxGa1-xAs紅外探測器對截止波長的范圍具有一些限制,當(dāng)截止波長超過1.7μm時,由于晶格失配引起的缺陷使探測器的性能迅速下降。基于HgCdTe的紅外探測器可以通過改變Cd的摩爾組分覆蓋1-3μm范圍。然而這種紅外探測器材料生長工藝要求高,還需要復(fù)雜的器件制造工藝,材料的大面積均勻性差,使得該類器件的應(yīng)用受到很大限制。
相比之下,基于AlxIn1-xAsySb1-y(以下稱為AlInAsSb)的四元化合物紅外探測器是一類很有潛力的光電器件,因?yàn)樗梢酝ㄟ^調(diào)整x、y的值以達(dá)到與InP、InAs、GaSb等襯底相匹配。改變鋁組分還可以將帶隙從0.25 eV(0%的鋁)調(diào)至1.18 eV(72%的鋁),這對應(yīng)于5至1.05μm的截止波長范圍。
AlInAsSb材料具有許多優(yōu)點(diǎn),如材料無毒、生長工藝簡單、制造成本低、帶寬靈活可調(diào),以及由于其具有很大的電子有效質(zhì)量從而能有效抑制俄歇復(fù)合。該超晶格材料由InAs和AlSb交替生長組成,可顯著降低GR暗電流、陷阱輔助和帶間隧道暗電流,這將會提高材料的光電性能。但是AlInAsSb是一種四元合金材料,生長難度比三元材料大,所以本發(fā)明從優(yōu)化材料的制備入手,著重解決高質(zhì)量材料的生長問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種分子束外延技術(shù)生長短波紅外探測材料AlInAsSb超晶格的優(yōu)化方法。
實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)方案是:分子束外延生長AlInAsSb超晶格材料的優(yōu)化方法,包括如下步驟:
A、首先測定生長AlInAsSb材料時三族元素Al、In的源爐溫度及相應(yīng)的束流值,及五族元素As、Sb的束流值以及分子束外延生長的基準(zhǔn)溫度,并定義五族元素與三族元素的束流值的比值(五三比值)分別為Sb/Al比值和As/In比值。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





