[發(fā)明專利]一種太陽能電池片生產(chǎn)中硅片的刻蝕去邊工藝

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811468315.3
• 申請日: 2018-12-03
• 公開（公告）號(hào): CN109378364B
• 公開（公告）日: 2021-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 皇韶峰
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇中宇光伏科技有限公司
• 主分類號(hào): H01L31/18
• 分類號(hào): H01L31/18
• 代理公司: 北京盛凡智榮知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11616
• 代理人: 王勇

本發(fā)明公開了一種太陽能電池片生產(chǎn)中硅片的刻蝕去邊工藝，在刻蝕之前使用去離子水對(duì)硅片的各個(gè)表面進(jìn)行沖洗，并對(duì)硅片進(jìn)行表面干燥，硅片表面干燥方式為烘干或者甩干，刻蝕時(shí)將硅片的正面朝下放置與腐蝕溶液接觸，腐蝕溶液為氫氟酸，并從硅片的上方向其背面噴射性質(zhì)穩(wěn)定的氣體，噴射氣體為氮?dú)猓诳涛g去邊結(jié)束之后，采用拋光液對(duì)硅片背面進(jìn)行拋光。該太陽能電池片生產(chǎn)中硅片的刻蝕去邊工藝，向硅片背面噴射氮?dú)猓軌驅(qū)杵趁嫜趸瘜悠鸨Ｗo(hù)作用，在刻蝕結(jié)束后增加的拋光步驟，可以使硅片更加光滑，提高電池的轉(zhuǎn)換效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于硅片刻蝕技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種太陽能電池片生產(chǎn)中硅片的刻蝕去邊工藝。

背景技術(shù)

目前，由于工藝設(shè)計(jì)要求，需制備背面有氧化層保護(hù)的硅片。而在制備背面附著氧化層的硅片時(shí)，硅片的正面和背面均生長了氧化層，就需要通過濕法刻蝕處理去除掉正面的氧化層，同時(shí)保留背面氧化層，來實(shí)現(xiàn)工藝設(shè)計(jì)對(duì)硅片的要求。

在去除硅片正面的氧化層的過程中，由于腐蝕溶液揮發(fā)的氣體到達(dá)硅片背面的邊緣腐蝕該邊緣的氧化層，導(dǎo)致背面邊緣的氧化層也受到了一定程度的腐蝕，不符合產(chǎn)品的工藝要求，硅片背面也常為粗糙的不平面，這對(duì)于需要良好的背反射，對(duì)太陽光中的長波段光譜的吸收和后續(xù)鋁硅合金與硅體的結(jié)合不利。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種太陽能電池片生產(chǎn)中硅片的刻蝕去邊工藝，以彌補(bǔ)現(xiàn)有技術(shù)的不足。

為解決上述問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案為：一種太陽能電池片生產(chǎn)中硅片的刻蝕去邊工藝，包括以下步驟：

S1、使用氫氟酸和硝酸的混合溶液對(duì)硅片的各個(gè)表面進(jìn)行潤洗；

S2、使用去離子水對(duì)步驟S1得到的硅片各個(gè)表面進(jìn)行沖洗；

S3、將步驟S2得到的硅片進(jìn)行表面干燥，硅片表面干燥方式為烘干或者甩干；

S4、使用氫氟酸、硝酸和硫酸的混合溶液對(duì)步驟S3得到的硅片的側(cè)面和背面進(jìn)行刻蝕；

S5、使用去離子水對(duì)步驟S4得到的硅片的各個(gè)表面進(jìn)行沖洗，并對(duì)硅片進(jìn)行表面干燥，硅片表面干燥方式為烘干或者甩干；

S6、將硅片的正面朝下放置與腐蝕溶液接觸，并從硅片的上方向其背面噴射性質(zhì)穩(wěn)定的氣體，經(jīng)過一定反應(yīng)時(shí)間，取出硅片用水沖洗干凈；

S7、在刻蝕去邊結(jié)束之后，采用拋光液對(duì)硅片背面進(jìn)行拋光。

優(yōu)選的，步驟S1中，氫氟酸和硝酸的混合溶液中氫氟酸與硝酸的質(zhì)量濃度百分比為5:1-10:1。

優(yōu)選的，步驟S1中在獨(dú)立的槽式設(shè)備中對(duì)擴(kuò)散截止后得到的硅片的各個(gè)表面進(jìn)行潤洗，潤洗的時(shí)間小于10s，槽式設(shè)備中具有多個(gè)滾輪，擴(kuò)散截止后得到的硅片以漂浮的方式通過槽式設(shè)備。

優(yōu)選的，步驟S2中在鏈?zhǔn)皆O(shè)備或槽式設(shè)備中對(duì)硅片的各個(gè)表面進(jìn)行沖洗，沖洗方式為噴淋或潤洗。

優(yōu)選的，步驟S6中腐蝕溶液為氫氟酸，噴射氣體為氮?dú)猓磻?yīng)時(shí)間為2-3min。

優(yōu)選的，步驟S7中拋光液按質(zhì)量百分比計(jì)其組分包括：HF0.5％-10％、HNO₃5％-55％、H₂SO₄5％-55％、醋酸5％-30％。

優(yōu)選的，步驟S7中拋光液中還含有添加劑，添加劑包括氟化銨、亞硝酸鉀、檸檬酸鉀和十二醇硫酸酯鉀中的一種或幾種，其含量占拋光液總質(zhì)量的5-15％。

優(yōu)選的，步驟S7中拋光時(shí)拋光液的溫度為5-25℃，拋光時(shí)間為4min-10min。