[發(fā)明專利]一種基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811454650.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-11-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109686722A | 公開(公告)日: | 2019-04-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王波;明雪飛;高娜燕 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第五十八研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L23/535 | 分類號(hào): | H01L23/535;H01L23/538 |
| 代理公司: | 無錫派爾特知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32340 | 代理人: | 楊立秋 |
| 地址: | 214000 *** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 橋聯(lián) 芯片 封裝結(jié)構(gòu) 通孔結(jié)構(gòu) 互聯(lián) 再布線層 上表面 集成電路封裝 樹脂填充材料 功能芯片 功能區(qū) 凸點(diǎn) 暴露 制作 | ||
本發(fā)明公開一種基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu),屬于集成電路封裝技術(shù)領(lǐng)域。所述基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu)包括本體,所述本體中有橋聯(lián)芯片和通孔結(jié)構(gòu),所述橋聯(lián)芯片和所述通孔結(jié)構(gòu)通過樹脂填充材料構(gòu)成所述本體,并且所述橋聯(lián)芯片和所述通孔結(jié)構(gòu)的功能區(qū)暴露在外;所述本體的上表面制作有再布線層,上表面的再布線層通過凸點(diǎn)與功能芯片互聯(lián)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及集成電路封裝技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
晶圓級(jí)扇出型封裝技術(shù)作為實(shí)現(xiàn)電子系統(tǒng)小型化和低成本應(yīng)用的解決途徑,目前正在發(fā)展成為集成靈活性高的主要先進(jìn)封裝工藝。該技術(shù)無需基板,且晶圓級(jí)封裝可實(shí)現(xiàn)微米級(jí)尺度的制造精度,滿足現(xiàn)代電子系統(tǒng)小型化、低成本、高集成度的迫切需求。重布線技術(shù)作為晶圓級(jí)扇出型封裝的關(guān)鍵技術(shù),實(shí)現(xiàn)著功能芯片間信號(hào)互聯(lián)及其信號(hào)輸入輸出端(I/O)的轉(zhuǎn)移。
隨著電子系統(tǒng)小型化需求的進(jìn)一步提升,越來越多的產(chǎn)品集成了包含F(xiàn)PGA、DSP、CPU等極多引出端的芯片,內(nèi)部的互聯(lián)密度急劇增加,受于重布線層數(shù)的限制,晶圓級(jí)扇出型封裝難以滿足高密度互聯(lián)的需求,本項(xiàng)目提出的方法能夠有效降低高密度互聯(lián)對(duì)布線層數(shù)的依賴,降低成本的同時(shí)實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的高密度集成。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu),以解決目前的封裝結(jié)構(gòu)內(nèi)部的互聯(lián)密度急劇增加,無法滿足高密度互聯(lián)需求的問題。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu),包括:
本體,所述本體中有橋聯(lián)芯片和通孔結(jié)構(gòu),所述橋聯(lián)芯片和所述通孔結(jié)構(gòu)通過樹脂填充材料構(gòu)成所述本體,并且所述橋聯(lián)芯片和所述通孔結(jié)構(gòu)的功能區(qū)暴露在外;
所述本體的上表面制作有再布線層,上表面的再布線層通過凸點(diǎn)與功能芯片互聯(lián)。
可選的,所述本體的下表面制作有再布線層,下表面的再布線層上設(shè)置有植球或者生長(zhǎng)有凸點(diǎn)。
可選的,所述通孔結(jié)構(gòu)的實(shí)現(xiàn)方法包括在所述樹脂填充材料上打孔制作,或者直接采用通孔轉(zhuǎn)接板晶圓。
可選的,所述通孔轉(zhuǎn)接板晶圓包括TMS、TSV和TGV。
可選的,所述功能芯片為引線鍵合類芯片或者倒裝焊類芯片。
可選的,所述功能芯片的種類包括FPGA、DSP、CPU、DDR、PROM和DRAM。
可選的,所述橋聯(lián)芯片的制作工藝包括CMOS工藝。
可選的,所述橋聯(lián)結(jié)構(gòu)和所述通孔結(jié)構(gòu)通過樹脂填充材料構(gòu)成本體的方法為晶圓級(jí)扇出技術(shù)。
可選的,所述橋聯(lián)芯片和所述通孔結(jié)構(gòu)的數(shù)量和位置根據(jù)實(shí)際設(shè)計(jì)需要自由調(diào)整。
在本發(fā)明中提供了一種基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu),包括本體,所述本體中有橋聯(lián)芯片和通孔結(jié)構(gòu),所述橋聯(lián)芯片和所述通孔結(jié)構(gòu)通過樹脂填充材料構(gòu)成所述本體,并且所述橋聯(lián)芯片和所述通孔結(jié)構(gòu)的功能區(qū)暴露在外;所述本體的上表面制作有再布線層,上表面的再布線層通過凸點(diǎn)與功能芯片互聯(lián)。
本發(fā)明具有以下有益效果:
(1)采用內(nèi)埋橋聯(lián)芯片以增加晶圓級(jí)扇出型封裝結(jié)構(gòu)的互聯(lián)密度,彌補(bǔ)晶圓級(jí)封裝再布線層數(shù)有限的弊端,實(shí)現(xiàn)了可包含F(xiàn)PGA、DSP、CPU等極多引出端功能芯片的高密度互聯(lián)封裝;
(2)采用本發(fā)明的封裝結(jié)構(gòu),無需再制作傳統(tǒng)的互聯(lián)基板,在縮短加工周期的同時(shí)降低了成本;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第五十八研究所,未經(jīng)中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第五十八研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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