[發(fā)明專利]一種基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811454650.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-11-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109686722A | 公開(公告)日: | 2019-04-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王波;明雪飛;高娜燕 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國電子科技集團(tuán)公司第五十八研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L23/535 | 分類號(hào): | H01L23/535;H01L23/538 |
| 代理公司: | 無錫派爾特知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32340 | 代理人: | 楊立秋 |
| 地址: | 214000 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 橋聯(lián) 芯片 封裝結(jié)構(gòu) 通孔結(jié)構(gòu) 互聯(lián) 再布線層 上表面 集成電路封裝 樹脂填充材料 功能芯片 功能區(qū) 凸點(diǎn) 暴露 制作 | ||
1.一種基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:
本體,所述本體中有橋聯(lián)芯片和通孔結(jié)構(gòu),所述橋聯(lián)芯片和所述通孔結(jié)構(gòu)通過樹脂填充材料構(gòu)成所述本體,并且所述橋聯(lián)芯片和所述通孔結(jié)構(gòu)的功能區(qū)暴露在外;
所述本體的上表面制作有再布線層,上表面的再布線層通過凸點(diǎn)與功能芯片互聯(lián)。
2.如權(quán)利要求1所述的基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述本體的下表面制作有再布線層,下表面的再布線層上設(shè)置有植球或者生長(zhǎng)有凸點(diǎn)。
3.如權(quán)利要求1所述的基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述通孔結(jié)構(gòu)的實(shí)現(xiàn)方法包括在所述樹脂填充材料上打孔制作,或者直接采用通孔轉(zhuǎn)接板晶圓。
4.如權(quán)利要求3所述的基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述通孔轉(zhuǎn)接板晶圓包括TMS、TSV和TGV。
5.如權(quán)利要求1所述的基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述功能芯片為引線鍵合類芯片或者倒裝焊類芯片。
6.如權(quán)利要求5所述的基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述功能芯片的種類包括FPGA、DSP、CPU、DDR、PROM和DRAM。
7.如權(quán)利要求1所述的基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述橋聯(lián)芯片的制作工藝包括CMOS工藝。
8.如權(quán)利要求1所述的基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述橋聯(lián)結(jié)構(gòu)和所述通孔結(jié)構(gòu)通過樹脂填充材料構(gòu)成本體的方法為晶圓級(jí)扇出技術(shù)。
9.如權(quán)利要求1所述的基于橋聯(lián)芯片的高密度互聯(lián)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述橋聯(lián)芯片和所述通孔結(jié)構(gòu)的數(shù)量和位置根據(jù)實(shí)際設(shè)計(jì)需要自由調(diào)整。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國電子科技集團(tuán)公司第五十八研究所,未經(jīng)中國電子科技集團(tuán)公司第五十八研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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