[發(fā)明專(zhuān)利]蒸鍍裝置和蒸鍍方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811453479.9 | 申請(qǐng)日: | 2018-11-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109989000A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 山下和吉;末永真吾;濱永教彰 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 長(zhǎng)州產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/24 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/24;C23C14/04 |
| 代理公司: | 北京信慧永光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290 | 代理人: | 周善來(lái);李雪春 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 噴射噴嘴 蒸鍍裝置 基板 蒸鍍 基板固定部 膜厚均勻性 基板固定 蒸鍍材料 開(kāi)口面 蒸鍍膜 蒸鍍?cè)?/a> 直線狀 噴射 平行 陰影 配置 | ||
1.一種蒸鍍裝置,其特征在于,
所述蒸鍍裝置包括:
蒸鍍?cè)?,具有配置成直線狀并噴射蒸鍍材料的多個(gè)噴射噴嘴;以及
基板固定部,將基板固定成與所述多個(gè)噴射噴嘴平行,
所述多個(gè)噴射噴嘴包括:
中央噴射噴嘴,具有與所述基板平行的開(kāi)口面;以及
一對(duì)外側(cè)噴射噴嘴,配置成相對(duì)于所述中央噴射噴嘴左右對(duì)稱(chēng),具有朝向外側(cè)傾斜的開(kāi)口面,
所述蒸鍍裝置滿足以下的公式(1)和公式(2):
L1/2L2≤tanθ≤L1/L2···(1)
60°≤θ≤70°···(2)
在所述公式(1)和所述公式(2)中,L1是所述基板固定于所述基板固定部時(shí)的所述多個(gè)噴射噴嘴與所述基板的距離,L1的單位是mm;L2是所述中央噴射噴嘴與所述外側(cè)噴射噴嘴的距離,L2的單位是mm;θ是所述基板固定于所述基板固定部時(shí)的所述基板的表面與所述外側(cè)噴射噴嘴的開(kāi)口面所成的角的角度,θ的單位是°。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置,其特征在于,所述蒸鍍裝置還滿足公式(1’):
L1/(L2+87)≤tanθ≤L1/L2···(1’)
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蒸鍍裝置,其特征在于,所述多個(gè)噴射噴嘴由所述中央噴射噴嘴和所述一對(duì)外側(cè)噴射噴嘴的三個(gè)噴射噴嘴構(gòu)成。
4.一種蒸鍍方法,其特征在于,包括使用權(quán)利要求1、權(quán)利要求2或權(quán)利要求3所述的蒸鍍裝置進(jìn)行蒸鍍的工序。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





